專利名稱：蓋體保持夾具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在處理被處理基板的處理室中設(shè)置的用于保持蓋體的夾具。
背景技術(shù)：
將在平板顯示器(FPD :Flat Panel Display)中使用的玻璃基板、形成有半導(dǎo)體器件的半導(dǎo)體基板(半導(dǎo)體晶片)作為被處理體，進行蝕刻處理、灰化處理、或者 CVD (Chemical Vapor D印osition 化學(xué)氣相沉積)等成膜處理的基板處理裝置，具有進行這些處理的處理室。處理室是通過在真空氣氛等下向這些基板供給活性化的處理氣體，對基板進行各種處理的處理容器。舉出對基板進行蝕刻處理的處理室的一個例子，在處理室的內(nèi)部設(shè)置有載置基板并且構(gòu)成下部電極的載置臺；和以與上述載置臺上下相對的方式設(shè)置，向處理室內(nèi)供給氯氣等蝕刻氣體，并且構(gòu)成上部電極的氣體噴淋頭等。然后，通過對載置臺側(cè)施加高頻電力等，使供給至處理室內(nèi)的蝕刻氣體等離子體化，利用生成的活性種進行基板的蝕刻。這樣的處理室具有用于對基板進行處理的各種設(shè)備，在維護等時發(fā)生開放該處理室的操作。例如，在圖12(a)中表示了處理室81，該處理室81構(gòu)成為，收納基板并構(gòu)成進行處理的空間的處理室主體82，和用于堵塞設(shè)置于該處理室主體82的上部的開口部而載置在處理室主體82的上部的蓋體83，能夠上下分離。圖中，803是在真空氣氛下搬送基板的真空搬送室，G是氣密地密封處理室81與真空搬送室803之間，并且構(gòu)成為能夠開閉的閘閥。在維護時，如圖12(b)所示利用起重裝置等將蓋體83提起，使蓋體83與處理室主體82分離，將該蓋體83搬送至其它場所，之后進行維護。在從處理室主體82分離的蓋體 83，可能具有用于供給處理氣體的氣體噴淋頭等內(nèi)部設(shè)備，如果從卸下時的狀態(tài)使蓋體83 的上下反轉(zhuǎn)，則提高維護這些內(nèi)部設(shè)備時的操作性。在專利文獻1中，記載有蓋體開閉機構(gòu)，在處理室的蓋體的相對的兩個側(cè)面設(shè)置支軸，向這些支軸架設(shè)軌道，使構(gòu)成為能夠在該軌道上移動的可動軸承部移動至上述支軸并與該支軸嵌合。根據(jù)該機構(gòu)，可動軸承部在抬起蓋體之后后退，在從處理室主體的上方位置退避之后，以上述支軸為中心使蓋體反轉(zhuǎn)。但是在該專利文獻1中，沒有公開在上述可動軸承穩(wěn)定地保持蓋體的具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)。專利文獻1 日本特開2006-128714號公報:0067段 0073段，圖6、圖7

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于上述問題而提出，其目的在于提供穩(wěn)定地保持處理室的蓋體并能夠使其反轉(zhuǎn)的蓋體保持夾具。本發(fā)明的蓋體保持夾具將在處理作為被處理體的基板的處理室設(shè)置的蓋體，以從該處理室卸下的狀態(tài)進行保持，該蓋體保持夾具的特征在于，包括用于保持上述蓋體的周緣部的保持部；
為了使保持于上述保持部的上述蓋體反轉(zhuǎn)而將該保持部以圍繞水平的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)自如的方式支承的基體；和設(shè)置于上述保持部，具有相對上述保持部固定上述蓋體的固定部件的固定機構(gòu)，上述固定部件在固定上述蓋體的固定位置與開放上述蓋體的固定的開放位置之間移動。上述蓋體保持夾具可以具有以下的特征。(a)包括使上述保持部圍繞旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的第一驅(qū)動部；使上述固定部件在固定位置與開放位置之間移動的第二驅(qū)動部；設(shè)置于上述保持部，檢測上述蓋體保持于該保持部的情況的檢測部；和控制部，其以由該檢測部檢測到蓋體的保持為條件，驅(qū)動上述第二驅(qū)動部，使上述固定部件從開放位置移動至固定位置，以該固定部件移動至固定位置為條件， 驅(qū)動上述第一驅(qū)動部，使上述保持部旋轉(zhuǎn)。(b)上述檢測部沿著上述蓋體的周緣部設(shè)置于多個位置。(c)與設(shè)置于上述多個位置的檢測部的各個對應(yīng)地設(shè)置有多個固定機構(gòu)，上述控制部以這些多個固定機構(gòu)全部的固定部件移動至固定位置為條件，驅(qū)動上述第一驅(qū)動部。(d)上述固定機構(gòu)構(gòu)成為，在將上述蓋體以底面朝向下方側(cè)的狀態(tài)交接至上述保持部的情況下，能夠?qū)⒃撋w體固定于上述保持部。(e)上述保持部保持上述蓋體的側(cè)面。(f)上述處理室對基板進行真空處理。(g)在上述基體，設(shè)置有用于在用于使蓋體反轉(zhuǎn)的上方位置與該上方位置的下方側(cè)的下方位置之間使上述保持部升降的升降機構(gòu)。根據(jù)本發(fā)明，在以周緣部保持處理室的蓋體的保持部設(shè)置有蓋體的固定機構(gòu)，該固定機構(gòu)具有在相對于上述保持部固定蓋體的固定位置與開放蓋體的固定的開放位置之間移動的固定部件，因此，能夠在保持部穩(wěn)定地保持蓋體，并且容易進行蓋體對該保持部的裝卸。而且，該保持部為了使上述蓋體反轉(zhuǎn)而以圍繞水平的旋轉(zhuǎn)軸自如旋轉(zhuǎn)的方式被支承， 因此，能夠使蓋體反轉(zhuǎn)，提高對設(shè)置于蓋體的下表面?zhèn)鹊脑O(shè)備進行維護時的操作性。


圖1是表示本實施方式的蓋體保持夾具的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖2是表示設(shè)置于上述蓋體保持夾具的固定機構(gòu)的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖3是表示設(shè)置于上述蓋體保持夾具的固定機構(gòu)和其旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的電結(jié)構(gòu)的框圖。圖4是表示設(shè)置于上述蓋體保持夾具的固定機構(gòu)的結(jié)構(gòu)和作用的縱截側(cè)面圖。圖5是表示上述蓋體保持夾具的作用的立體圖。圖6是表示具有升降機構(gòu)的蓋體保持夾具的例子的立體圖。圖7是表示具有裝卸自如的橋的蓋體保持夾具的例子的立體圖。圖8是表示第二實施方式的蓋體保持夾具的例子的立體圖。圖9是表示設(shè)置于上述第二實施方式的蓋體保持夾具的固定機構(gòu)的作用的縱截側(cè)面圖。圖10是表示利用上述蓋體保持夾具的基板處理裝置的一個例子的立體圖。圖11是上述基板處理裝置的平面圖。
圖12是構(gòu)成為能夠卸下蓋體的處理室的示意圖。附圖標(biāo)記UlaUb蓋體保持夾具2反轉(zhuǎn)框架4、4a固定機構(gòu)44鎖定軸45氣缸機構(gòu)46接近傳感器5旋轉(zhuǎn)機構(gòu)6控制部81、81a 81d 處理室82處理室主體83 蓋體846被固定部件
具體實施例方式以下，參照圖1 圖4說明本發(fā)明的實施方式的蓋體保持夾具1的結(jié)構(gòu)例。如圖 1的立體圖所示，本例的蓋體保持夾具1包括作為保持處理室81的蓋體83的保持部的反轉(zhuǎn)框架2 ；設(shè)置于該反轉(zhuǎn)框架2，相對于該反轉(zhuǎn)框架2固定蓋體83的固定機構(gòu)4 ；將上述反轉(zhuǎn)框架2以圍繞旋轉(zhuǎn)軸52旋轉(zhuǎn)自如的方式進行保持的支承臺31 ；和設(shè)置在該支承臺31的底部側(cè)，在上述底面上支承支承臺31的底座板32。本例的蓋體保持夾具1構(gòu)成為，例如能夠保持處理一邊為2. 2m、另一邊為2. 5m左右的大小的矩形FPD基板(以下簡稱為基板幻的處理室81的蓋體83。對蓋體83例如是在俯視時一邊為3. 0m、另一邊為3. 5m左右的大小的情況進行說明。如圖1所示，反轉(zhuǎn)框架2構(gòu)成為，組合四根框架材料201、202而成的平面形狀為四邊形的框體，各框架材料201、202的長度為，在將蓋體83保持在反轉(zhuǎn)框架2上時，反轉(zhuǎn)框架 2的內(nèi)周緣位于蓋體83的外周緣的外側(cè)的程度的長度。反轉(zhuǎn)框架2在相互相對的兩邊的框架材料201的中央部，經(jīng)由矩形板形狀的保持部53與旋轉(zhuǎn)軸52連接。這兩根旋轉(zhuǎn)軸52沿與上述兩根框架材料201正交的方向水平延伸，在其基端部與反轉(zhuǎn)電機51連接。反轉(zhuǎn)電機51是能夠向正轉(zhuǎn)方向和反轉(zhuǎn)方向這兩個方向切換，使旋轉(zhuǎn)軸52旋轉(zhuǎn)180°，并且能夠使保持部53的旋轉(zhuǎn)停止在任意的旋轉(zhuǎn)角度的帶減速機的電機。通過這些結(jié)構(gòu)，反轉(zhuǎn)框架2能夠使保持在該反轉(zhuǎn)框架2上的蓋體83的上下反轉(zhuǎn)，并且能夠使蓋體83旋轉(zhuǎn)停止在任意的傾斜角度。各反轉(zhuǎn)電機51配置在二腳型的支承臺31上，在比底面高的位置支承旋轉(zhuǎn)軸52，由此在使旋轉(zhuǎn)軸52旋轉(zhuǎn)時，反轉(zhuǎn)框架2、保持于反轉(zhuǎn)框架2的蓋體83不會與底面干涉。在各支承臺31的下端部，設(shè)置有從支承臺31看時向左右兩側(cè)沿寬度方向延伸的板狀的底座板 32，這兩根底座板32在左右的兩端位置，利用由方木構(gòu)成的連結(jié)部件33連結(jié)。其結(jié)果，利用底座板32和連結(jié)部件33這四根部件形成構(gòu)成為四邊形的平面形狀的底座部34，在該底座部34的上方位置支承反轉(zhuǎn)框架2。
如圖1所示，在本例中，底座部34形成得比反轉(zhuǎn)框架2大一圈，能夠穩(wěn)定地保持配置在該底座部；34的上方的反轉(zhuǎn)框架2。圖1中，341是將上述底座部34支承在底面上的支腳，在該支腳341上切割有螺紋，通過使支腳341從設(shè)置在底座部34的底面?zhèn)鹊穆菁y孔擰進擰出，能夠調(diào)整支腳341的高度，將底座部34相對于底面水平支承。此外，如在圖3中示意性表示其一部分那樣，在底座板32的底面設(shè)置有多個小腳輪342，通過將支腳341收容在螺紋孔內(nèi)，由小腳輪支承底座部34，能夠容易地移動蓋體保持夾具1的整體。以上所說明的支承臺31、底座部34、保持部53等相當(dāng)于本實施方式的基體，旋轉(zhuǎn)機構(gòu)5相當(dāng)于第一驅(qū)動部。接著，說明固定機構(gòu)4的結(jié)構(gòu)。在從使旋轉(zhuǎn)軸52與框架材料201連接的保持部53 看的左右兩側(cè)，用于相對反轉(zhuǎn)框架2固定蓋體83的固定機構(gòu)4分別各配置有一個。即，本例的反轉(zhuǎn)框架2具有共計四個固定機構(gòu)4，這些固定機構(gòu)4相互間具有同樣的結(jié)構(gòu)。以下， 參照圖2、圖4說明其詳細結(jié)構(gòu)。如圖2、圖4 (a)所示，固定機構(gòu)4包括具有游隙槽(clearance groove) 411的承受板41，該游隙槽411用于插入設(shè)置于蓋體83側(cè)的被固定部件846 ；設(shè)置于承受板41的下表面?zhèn)鹊膬蓧K固定板42 ；貫通上述被固定部件846和兩塊固定板42，在反轉(zhuǎn)框架2上固定蓋體83的鎖定軸44 ；驅(qū)動該鎖定軸44的氣缸機構(gòu)45 ；設(shè)置在承受板41的上表面?zhèn)?，將載置在反轉(zhuǎn)框架2上的蓋體83引導(dǎo)至預(yù)先設(shè)定的保持位置的引導(dǎo)軸43 ；和檢測蓋體83向承受板41的接近的接近傳感器46。承受板41是形成為長邊十幾厘米 幾十厘米、短邊幾厘米 十幾厘米、厚度為幾厘米左右的厚板材，以其上表面與反轉(zhuǎn)框架2的上表面為相同朝向的方式牢固地固定于反轉(zhuǎn)框架2的側(cè)面。如果令長邊為縱方向、令短邊為寬度方向，則在承受板41的縱方向中央位置設(shè)置有用于插入設(shè)置于蓋體83側(cè)的被固定部件846的游隙槽411，該游隙槽411從上表面朝向下表面貫通承受板41。而且，在承受板41，從保持部53看時在游隙槽411的外方側(cè)的位置，設(shè)置有從承受板41的上表面朝向上方側(cè)延伸的圓柱狀的引導(dǎo)軸43。此處說明設(shè)置于蓋體83側(cè)的被固定部的結(jié)構(gòu)，在蓋體83的側(cè)壁的外表面，在使蓋體83移動至反轉(zhuǎn)框架2的上方位置時與各固定機構(gòu)4的承受板41上下相對的位置，設(shè)置有托架841。本例的托架841是如圖2所示的由底板842和側(cè)板843構(gòu)成的縱截面為L字狀的部件，在其左右兩端部設(shè)置有用于強度加強的加固板844。托架841的側(cè)板843相對于蓋體83的側(cè)壁的外表面牢固地固定，底板842的底面與蓋體83的側(cè)壁的下端面為相同朝向。板狀的被固定部件846從設(shè)置于托架841的底板842的底面向下方側(cè)延伸，該被固定部件846，在將蓋體83載置在反轉(zhuǎn)框架2上的正確保持位置時，能夠進入承受板41側(cè)的游隙槽411內(nèi)。在被固定部件846設(shè)置有從保持部53看時從內(nèi)側(cè)到外側(cè)地橫向貫通被固定部件846的貫通孔847。在本例中被固定部件846的側(cè)面和貫通孔847的內(nèi)面由加入填充劑的樹脂等覆蓋，在使被固定部件846進入游隙槽411內(nèi)時，以及使后述的鎖定軸44 進入貫通孔847內(nèi)時，使得難以由于這些部件的滑動動作而導(dǎo)致顆粒(particle)的產(chǎn)生。此外，在托架841的底板842，設(shè)置有用于使上述引導(dǎo)軸43貫通的圓筒狀的套筒 845。于是，通過以設(shè)置于四個固定機構(gòu)4的各引導(dǎo)軸43進入套筒845內(nèi)的方式，將蓋體83載置在反轉(zhuǎn)框架2的上表面，能夠正確進行蓋體83的定位，將被固定部件846向設(shè)置于各承受板41的游隙槽411內(nèi)引導(dǎo)。而且，如上所述反轉(zhuǎn)框架2形成為內(nèi)周緣位于蓋體83的外周緣的外側(cè)的大小，因此，蓋體83經(jīng)由四個托架841保持于反轉(zhuǎn)框架2，蓋體83的下端面與反轉(zhuǎn)框架2不接觸。 在進行真空處理的處理室81中，與處理室主體82接觸的蓋體83的下端面成為維持處理室 81內(nèi)的真空的密封面，因此在本例中通過經(jīng)由托架841保持蓋體83的側(cè)面，抑制由與反轉(zhuǎn)框架2的接觸等引起的蓋體83下端面的損傷。回到固定機構(gòu)4的說明，在承受板41的下表面?zhèn)?，從保持?3看時，在夾著游隙槽411的內(nèi)側(cè)位置和外側(cè)位置，兩塊板狀的固定板42向下方側(cè)伸出。在各固定板42設(shè)置有從保持部53看時從內(nèi)側(cè)向外側(cè)地橫向貫通固定板42的貫通孔421。這些固定板42形成為，在使蓋體83側(cè)的被固定部件846進入游隙槽411內(nèi)時，該被固定部件846的貫通孔 847和固定板42側(cè)的貫通孔421相連配置，形成能夠貫通鎖定軸44的貫通路。鎖定軸44是本實施方式的固定部件，在將蓋體83載置在反轉(zhuǎn)框架2上的正確保持位置時，其通過貫通相連配置的上述貫通孔421、847，使被固定部件846與該鎖定軸44卡止。鎖定軸44構(gòu)成為圓柱狀的部件，其基端側(cè)經(jīng)由連結(jié)部件453和氣缸軸452，例如與氣缸 451連接，構(gòu)成氣缸機構(gòu)45。氣缸機構(gòu)45相當(dāng)于本實施方式的第二驅(qū)動部。利用該氣缸機構(gòu)45，鎖定軸44能夠在卡止被固定部件846而將蓋體83固定于反轉(zhuǎn)框架2的固定位置與從該固定位置撤離而從反轉(zhuǎn)框架2開放蓋體83的開放位置之間自如地移動。圖4(a)、圖4(b)所示的妨4是用于檢測鎖定軸44伸至前端位置的氣缸451的上限開關(guān)，455是用于檢測鎖定軸44后退至后端位置地下限開關(guān)。進一步，在承受板41，從保持部53看時在引導(dǎo)軸43的進一步的外側(cè)位置，設(shè)置有作為檢測部的接近傳感器46，該檢測部用于檢測蓋體83保持在反轉(zhuǎn)框架2上的情況。接近傳感器46配置在蓋體83載置在反轉(zhuǎn)框架2上時，被底板842的底面覆蓋的位置。接近傳感器46在底板842相對于接近傳感器46接近至比預(yù)先設(shè)定的高度位置更靠近接近傳感器 46側(cè)時，檢測到該底板842的接近。于是，上述預(yù)先設(shè)定的高度位置設(shè)定為，底板842的底面與承受板41的上表面接觸，蓋體83保持在反轉(zhuǎn)框架2上時檢測到底板842的接近的高度位置。作為接近傳感器46 的具體結(jié)構(gòu)能夠使用紅外線方式、靜電電容方式、磁性方式等，并不限定于特定方式。此外，在配置有固定機構(gòu)4的框架材料201與支承臺31之間，為了在使反轉(zhuǎn)框架 2旋轉(zhuǎn)時固定機構(gòu)4與支承臺31不干涉，設(shè)置有用于通過固定機構(gòu)4的間隙(圖1)。具有以上說明的結(jié)構(gòu)的蓋體保持夾具1，如圖3所示與控制部6連接。控制部6 由具有未圖示的CPU和存儲部的計算機構(gòu)成，在存儲部記錄有編組有關(guān)于下述控制的步驟 (命令)組的程序檢測到蓋體83保持在反轉(zhuǎn)框架2上，使四個固定機構(gòu)4動作，將蓋體83 固定在反轉(zhuǎn)框架2上之后使反轉(zhuǎn)框架2旋轉(zhuǎn)的動作；和與上述動作相反地使反轉(zhuǎn)后的反轉(zhuǎn)框架2正轉(zhuǎn)，之后開放固定機構(gòu)4對蓋體83的固定的動作。該程序例如存儲在硬盤、光盤、 磁光盤、存儲卡等存儲介質(zhì)中，從它們安裝到計算機中。進一步，關(guān)于上述蓋體保持夾具1的動作，控制部6達到執(zhí)行下述控制的功能以由接近傳感器46檢測到在反轉(zhuǎn)框架2上保持有蓋體83 (蓋體83保持在反轉(zhuǎn)框架2上)為條件，驅(qū)動氣缸機構(gòu)45，使鎖定軸44移動至固定位置，以鎖定軸44移動至固定位置為條件，驅(qū)動旋轉(zhuǎn)機構(gòu)5，使反轉(zhuǎn)框架2旋轉(zhuǎn)。因此，控制部6與接近傳感器46、氣缸451、上限開關(guān) 454、下限開關(guān)455、反轉(zhuǎn)電機51連接(圖3)。以下，參照圖4、圖5和圖12說明本實施方式的蓋體保持夾具1的作用。當(dāng)處理室 81需要維護時，關(guān)閉圖12所示的閘G，解除處理室81內(nèi)的真空狀態(tài)，進行從處理室主體82 卸下蓋體83的準(zhǔn)備。之后，利用起重裝置等搬送部件將蓋體83抬起到處理室主體82上， 將該蓋體83搬送至蓋體保持夾具1待機的位置。此時蓋體保持夾具1在以固定機構(gòu)4的引導(dǎo)軸43朝向上方側(cè)的方式調(diào)節(jié)了反轉(zhuǎn)框架2的朝向的狀態(tài)下待機，如圖1所示，搬送部件使蓋體83進入反轉(zhuǎn)框架2的上方位置。 然后，以蓋體83側(cè)的各托架841配置在反轉(zhuǎn)框架2側(cè)的各固定機構(gòu)4的上方位置的方式調(diào)節(jié)蓋體83的朝向之后，使蓋體83下降。結(jié)果，如圖4(a)所示，在各套筒845與引導(dǎo)軸43上下相對、各被固定部件846與游隙槽411上下相對的狀態(tài)下，蓋體83下降。于是，當(dāng)引導(dǎo)軸43進入套筒845內(nèi)時，蓋體 83—邊被這些引導(dǎo)軸43引導(dǎo)一邊進一步下降，由此進行蓋體83的定位。當(dāng)使蓋體83進一步向下方側(cè)移動時，被固定部件846進入游隙槽411內(nèi)，在托架841的底面與承受板41的上表面接觸時，蓋體83的下降停止，蓋體83成為載置在反轉(zhuǎn)框架2上的狀態(tài)。當(dāng)像這樣蓋體83被保持于反轉(zhuǎn)框架2，被固定部件846的整體進入游隙槽411內(nèi)時，被固定部件846的貫通孔847和其兩側(cè)的固定板42的貫通孔421成為連通的狀態(tài)，能夠使鎖定軸44進入這些貫通孔847、421內(nèi)并移動至固定位置。這樣，能夠由各接近傳感器 46檢測鎖定軸44能夠移動的情況，即蓋體83保持于反轉(zhuǎn)框架2的情況。當(dāng)由接近傳感器46檢測到蓋體83保持于反轉(zhuǎn)框架2時，各氣缸機構(gòu)45動作，通過使鎖定軸44進入貫通孔847、421內(nèi)并移動至固定位置，將蓋體83固定于反轉(zhuǎn)框架2 (圖 4(b))。作為此時使氣缸機構(gòu)45動作的條件，可以在由各固定機構(gòu)4的接近傳感器46檢測到蓋體83的保持之后，使相同的固定機構(gòu)4內(nèi)的氣缸機構(gòu)45動作，也可以在確認(rèn)了由全部的接近傳感器46進行檢測之后使各氣缸機構(gòu)45動作。然后，當(dāng)各固定機構(gòu)4的鎖定軸44到達固定位置時，氣缸451的上限開關(guān)妨4動作，因此能夠確認(rèn)該固定機構(gòu)4的蓋體83的固定。然后，在確認(rèn)全部的鎖定軸44移動至固定位置之后，驅(qū)動旋轉(zhuǎn)機構(gòu)5，使反轉(zhuǎn)框架2旋轉(zhuǎn)預(yù)先設(shè)定的傾斜角度，進行蓋體83的維護。 在圖5(b)所示的例子中表示從圖5(a)的狀態(tài)開始使蓋體83旋轉(zhuǎn)180°的情況下的例子， 氣體噴淋頭831成為朝向上面的狀態(tài)。圖中，832是處理氣體的噴出孔。蓋體83的維護可以在蓋體83移至蓋體保持夾具1的位置進行，也可以利用小腳輪342移動蓋體保持夾具1， 搬送至專用的維護室后進行維護。在利用以上說明的蓋體保持夾具1進行將蓋體83載置在反轉(zhuǎn)框架2上的動作時， 蓋體83的朝向可能從圖1所示的狀態(tài)圍繞鉛直軸偏移90°。在該情況下，設(shè)置于蓋體83 側(cè)的托架841位于沒有設(shè)置固定機構(gòu)4的反轉(zhuǎn)框架2的框架材料202的上方位置。結(jié)果， 即使使蓋體83下降，固定機構(gòu)4的接近傳感器46也不能夠檢測到托架841的接近，因此各鎖定軸44不會向固定位置移動，旋轉(zhuǎn)機構(gòu)5也不驅(qū)動。因此，不會進行在蓋體83沒有固定于反轉(zhuǎn)框架2的狀態(tài)下開始反轉(zhuǎn)框架2的旋轉(zhuǎn)的動作。此外，在蓋體83的圍繞鉛直軸的偏移量為小于90°或大于90°的情況下，如果四個托架841和固定機構(gòu)4沒有正確地上下相對，則托架841與引導(dǎo)軸43干涉，不能夠到達承受板41的上表面，或者托架841載置在從接近傳感器46的設(shè)置位置偏移的位置。在該情況下，各鎖定軸44也不會向固定位置移動，反轉(zhuǎn)框架2的旋轉(zhuǎn)動作也不開始。此外，即使四個托架841和固定機構(gòu)4正確地上下相對，在蓋體83以上下預(yù)先反轉(zhuǎn)的狀態(tài)載置在反轉(zhuǎn)框架2上的情況下，接近傳感器46不會成為被底板842覆蓋的狀態(tài)， 因此，接近傳感器46不動作，鎖定軸44的移動和反轉(zhuǎn)框架2的旋轉(zhuǎn)動作也不進行。圖6表示具有反轉(zhuǎn)框架2的升降機構(gòu)311的蓋體保持夾具Ia的例子。在該情況下，在使保持于反轉(zhuǎn)框架2的蓋體83反轉(zhuǎn)時，在旋轉(zhuǎn)動作時使反轉(zhuǎn)框架2上升至反轉(zhuǎn)框架 2、蓋體83與底面不干涉的上方位置。然后，在進行反轉(zhuǎn)之前或之后的時刻使反轉(zhuǎn)框架2下降至下方位置，使蓋體保持夾具Ia的重心變低，以更穩(wěn)定的狀態(tài)保持蓋體83，而且維護員也能夠更容易地處理蓋體83。進一步，如圖7所示，能夠?qū)⒃谑股w體83反轉(zhuǎn)時，維護員進行操作的裝卸自如的橋 10架設(shè)于反轉(zhuǎn)框架2。接著，參照圖8、圖9說明第二實施方式的蓋體保持夾具lb。這些圖中，對與上述蓋體保持夾具ι相同的構(gòu)成要素標(biāo)注與圖1 圖5所示的符號相同的符號。本例的蓋體保持夾具Ib中，反轉(zhuǎn)框架2的內(nèi)周緣伸出至比蓋體83的下端面的外周緣更靠內(nèi)側(cè)的位置。于是，蓋體83的下端面的一部分載置在圖8所示的點劃線的范圍內(nèi)(參照圖9(b))。在蓋體83，在相對的兩個側(cè)壁的外表面，在各側(cè)壁的兩個位置即合計4個位置，設(shè)置有用于嵌入鎖定軸44的嵌入孔830。在反轉(zhuǎn)框架2側(cè)，相對于這些嵌入孔830的各個，設(shè)置有使鎖定軸44嵌入而固定蓋體83的固定機構(gòu)4a，鎖定軸44能夠在固定蓋體83的固定位置(圖9(b))與從該固定位置避開而開放蓋體83的固定的開放位置(圖9(a))之間移動。如圖8所示，固定機構(gòu)如沿與蓋體83的側(cè)壁面正交的方向使鎖定軸44移動，因此，在本例中，固定機構(gòu)如配置于沒有與旋轉(zhuǎn)軸52連接的框架材料202，固定機構(gòu)如不與支承臺 31干涉。各圖中21是引導(dǎo)蓋體83的載置位置的引導(dǎo)部件。此外，如圖9(a)所示，接近傳感器46設(shè)置在配置有固定機構(gòu)如的位置的反轉(zhuǎn)框架2內(nèi)，接近傳感器46檢測蓋體83的下端面載置在反轉(zhuǎn)框架2的上表面的情況。然后，在檢測到蓋體83的保持之后，如圖9(b)所示使鎖定軸44移動至固定位置而固定蓋體83，在確認(rèn)四個位置的所有的固定機構(gòu)如的動作之后使反轉(zhuǎn)框架2旋轉(zhuǎn)而反轉(zhuǎn)蓋體83。在本例的蓋體保持夾具Ib中，在將蓋體83載置于反轉(zhuǎn)框架2上時，當(dāng)蓋體83的朝向從圖8所示的狀態(tài)圍繞鉛直軸偏移90°時，如果蓋體83的平面形狀為長方形，則與引導(dǎo)部件21干涉，蓋體83的下端不能夠到達反轉(zhuǎn)框架2的上表面，因此接近傳感器46不動作。但是，在蓋體83接近正方形的情況下，在蓋體83的朝向改變的狀態(tài)下，蓋體83可能載置在圖8所示的點劃線所示的范圍內(nèi)。假設(shè)此時接近傳感器46動作，固定機構(gòu)4的動作開始，各鎖定軸44也在沒有設(shè)置嵌入孔830的側(cè)壁面停止，不會到達固定位置。因此，旋轉(zhuǎn)機構(gòu)5的旋轉(zhuǎn)動作不開始。因此不會在蓋體83沒有固定于反轉(zhuǎn)框架2的狀態(tài)下開始蓋體83 的反轉(zhuǎn)。根據(jù)以上說明的各實施方式的蓋體保持夾具l、la、lb，具有以下的效果。在以周緣部保持處理室81的蓋體83的反轉(zhuǎn)框架2上設(shè)置有蓋體83的固定機構(gòu)4、4a，該固定機構(gòu) 4,4a具有鎖定軸44，該鎖定軸44在蓋體83相對于反轉(zhuǎn)框架2固定的固定位置與蓋體83 的固定被開放的開放位置之間移動，因此，能夠?qū)⑸w體83穩(wěn)定地保持于反轉(zhuǎn)框架2，而且容易進行蓋體83向該反轉(zhuǎn)框架2的裝卸。而且，該反轉(zhuǎn)框架2為了使蓋體83反轉(zhuǎn)而以圍繞水平的旋轉(zhuǎn)軸52旋轉(zhuǎn)自如的方式被支承，因此，能夠使蓋體83反轉(zhuǎn)，提高對設(shè)置于蓋體83 的下表面?zhèn)鹊臍怏w噴淋頭831等設(shè)備進行維護時的操作性。此處，將蓋體83固定于反轉(zhuǎn)框架2的固定機構(gòu)，并不限定于圖4、圖9所示的固定機構(gòu)4、如的結(jié)構(gòu)例。例如也可以以將蓋體83從上面?zhèn)认蚍崔D(zhuǎn)框架2按壓的機械卡盤機構(gòu)作為固定機構(gòu)并配置于反轉(zhuǎn)框架2。此外，在蓋體保持夾具1、la、Ib中，也可以不設(shè)置使反轉(zhuǎn)框架2旋轉(zhuǎn)的第一驅(qū)動部 (旋轉(zhuǎn)機構(gòu)O、使鎖定軸44移動的第二驅(qū)動部(氣缸機構(gòu)4 ，而通過手動操作進行這些動作。而且，在設(shè)置有第一驅(qū)動部、第二驅(qū)動部的情況下，也可以手動設(shè)定鎖定軸44的移動動作、反轉(zhuǎn)框架2的旋轉(zhuǎn)動作的開始時刻。例如能夠考慮下述等的情況，在由接近傳感器46檢測到蓋體83載置在反轉(zhuǎn)框架2上之后，解除聯(lián)鎖，經(jīng)由與控制部6連接的控制面板接受來自操作員的鎖定軸44的移動動作的開始指示。然后，在反轉(zhuǎn)框架2的旋轉(zhuǎn)動作時也是同樣，可以在全部的鎖定軸44移動至固定位置之后，解除聯(lián)鎖，接受來自用操作員的反轉(zhuǎn)框架2的旋轉(zhuǎn)動作的開始指示。進一步，反轉(zhuǎn)框架2的形狀并不限定于各實施方式所示的四邊形的框體形狀，例如也可以將圖1所示的設(shè)置有固定機構(gòu)4的兩根框架材料201由在旋轉(zhuǎn)軸52的延長線上延伸的一根連結(jié)部件連結(jié)。此外，在蓋體83的平面形狀為圓形等四邊形以外的形狀的情況下，可以與此配合地形成框體的形狀。此外，檢測蓋體83保持于反轉(zhuǎn)框架2的檢測部的結(jié)構(gòu)并不限于使用接近傳感器46 的例子。例如也可以采用下述結(jié)構(gòu)在圖2所示的固定機構(gòu)4，使能夠相對于承受板41的上表面突出沒入的開關(guān)突出，在該開關(guān)被底板842的下表面按下至預(yù)先設(shè)定的位置時，檢測到蓋體83向反轉(zhuǎn)框架2的保持。而且，在處理室81中進行處理的基板S的種類并不限于實施方式所示的角型的 FPD基板，當(dāng)然也能夠應(yīng)用于例如半導(dǎo)體晶片等圓形基板，在處理室81實施的處理除了真空處理之外，還可以是在常壓氣氛下進行的處理，該情況也包含于本發(fā)明的技術(shù)范圍。最后對利用實施方式的蓋體保持夾具l、la、lb (以下簡稱為蓋體保持夾具1)進行蓋體83的卸下的基板處理裝置8的應(yīng)用例進行簡單說明。在圖10、圖11所示的基板處理裝置8中，搬送至大氣裝載器801的基板S經(jīng)由負(fù)載鎖定室802被搬入具有基板搬送機構(gòu) 804的真空搬送室803內(nèi)。真空搬送室803的平面形狀例如為六邊形，在其一個側(cè)面與負(fù)載鎖定室802連接，在另外的四個側(cè)面與處理室81a 81d連接。而且，在真空搬送至803的剩余的一個側(cè)面的外側(cè)區(qū)域，如圖11所示設(shè)置有用于配置蓋體保持夾具1的維護區(qū)域806。 在本例中，一個維護區(qū)域806由四個處理室81a 81d共用。需要維護的處理室81a 81d關(guān)閉閘閥G而從真空搬送室803隔離，利用設(shè)置于真空搬送室803的上部的蓋體搬送機構(gòu)805握持蓋體83上表面的把手部85，該蓋體83被抬起至處理室主體82的上方。然后，使蓋體搬送機構(gòu)805向維護區(qū)域806旋轉(zhuǎn)，在蓋體83 到達反轉(zhuǎn)框架2的上方位置后使蓋體83下降，進行蓋體83向蓋體保持夾具1的交接。之后，由蓋體保持夾具1固定蓋體83，執(zhí)行進行反轉(zhuǎn)的動作。此處，能夠利用本發(fā)明的蓋體保持夾具1的基板處理裝置當(dāng)然并不限于圖10、圖11所示的例子，與真空搬送室803連接的處理室81的數(shù)量可以為1個，可以為4個，也可以為這之外的數(shù)量。此外，關(guān)于配置蓋體保持夾具1的維護區(qū)域806，除了在與共用的真空搬送室803連接的多個處理室81a 81d間共用維護區(qū)域806的例子之外，也可以對各處理室81a 81d設(shè)置專用的維護區(qū)域806。進一步，基板處理裝置8可以不具有專用的蓋體搬送機構(gòu)805，而使用工場的起重裝置進行蓋體83的搬送。
權(quán)利要求
1.一種蓋體保持夾具，其將設(shè)置在處理作為被處理體的基板的處理室的蓋體，以從該處理室卸下的狀態(tài)進行保持，該蓋體保持夾具的特征在于，包括用于保持所述蓋體的周緣部的保持部；為了使保持于所述保持部的所述蓋體反轉(zhuǎn)而將保持部以圍繞水平的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)自如的方式支承的基體；和設(shè)置于所述保持部，具有將所述蓋體固定于所述保持部的固定部件的固定機構(gòu)， 所述固定部件在固定所述蓋體的固定位置與開放所述蓋體的固定的開放位置之間移動。
2.如權(quán)利要求1所述的蓋體保持夾具，其特征在于，包括 使所述保持部圍繞旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的第一驅(qū)動部；使所述固定部件在固定位置與開放位置之間移動的第二驅(qū)動部； 設(shè)置于所述保持部，檢測所述蓋體保持于該保持部的檢測部；和控制部，其以由所述檢測部檢測到蓋體的保持為條件，驅(qū)動所述第二驅(qū)動部，使所述固定部件從開放位置向固定位置移動，以該固定部件移動至固定位置為條件，驅(qū)動所述第一驅(qū)動部，使所述保持部旋轉(zhuǎn)。
3.如權(quán)利要求2所述的蓋體保持夾具，其特征在于 所述檢測部沿著所述蓋體的周緣部設(shè)置于多個位置。
4.如權(quán)利要求3所述的蓋體保持夾具，其特征在于與設(shè)置于所述多個位置的檢測部逐一對應(yīng)地設(shè)置有多個固定機構(gòu)，所述控制部以所述多個固定機構(gòu)全部的固定部件移動至固定位置為條件，驅(qū)動所述第一驅(qū)動部。
5.如權(quán)利要求1 4中任一項所述的蓋體保持夾具，其特征在于所述固定機構(gòu)構(gòu)成為，在將所述蓋體以底面朝向下方一側(cè)的狀態(tài)交接至所述保持部的情況下，能夠?qū)⑺錾w體固定于所述保持部。
6.如權(quán)利要求1 4中任一項所述的蓋體保持夾具，其特征在于 所述保持部保持所述蓋體的側(cè)面。
7.如權(quán)利要求1 4中任一項所述的蓋體保持夾具，其特征在于 所述處理室對基板進行真空處理。
8.如權(quán)利要求1 4中任一項所述的蓋體保持夾具，其特征在于在所述基體設(shè)置有用于在用于使蓋體反轉(zhuǎn)的上方位置和所述上方位置的下方一側(cè)的下方位置之間使所述保持部升降的升降機構(gòu)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種蓋體保持夾具，其能夠穩(wěn)定地保持處理室的蓋體并使其反轉(zhuǎn)。該蓋體保持夾具(1)將設(shè)置于處理室(81)的上部的蓋體(83)以從該蓋體(83)卸下的狀態(tài)進行保持，其中，保持部(2)保持蓋體(83)的周緣部，基體(31、34、53)為了使保持于上述保持部(2)的蓋體(83)反轉(zhuǎn)而以圍繞水平的旋轉(zhuǎn)軸(52)旋轉(zhuǎn)自如的方式支承該保持部(2)。固定機構(gòu)(4)使固定部件(44)在相對上述保持部(2)固定蓋體(83)的固定位置與開放該蓋體(83)的固定的開放位置之間移動。
文檔編號H01L21/00GK102290326SQ201110153260
公開日2011年12月21日 申請日期2011年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月31日
發(fā)明者田中善嗣, 笠原稔大, 羽鳥一成 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社