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      半導(dǎo)體裝置和存儲(chǔ)卡的制作方法

      文檔序號(hào):7003221閱讀:169來(lái)源:國(guó)知局
      專(zhuān)利名稱(chēng):半導(dǎo)體裝置和存儲(chǔ)卡的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及半導(dǎo)體裝置和存儲(chǔ)卡,涉及多芯片封裝。
      背景技術(shù)
      近年,手機(jī)和便攜信息處理終端裝置、小型音響裝置等的可以攜帶的電子機(jī)器的需求正在急劇增加。為了響應(yīng)此要求,正在嘗試半導(dǎo)體裝置的小型化、輕薄化。因此,把在1個(gè)半導(dǎo)體芯片中存儲(chǔ)多個(gè)系統(tǒng)的S0C(SyStem On Chip 片上系統(tǒng))技術(shù),和在1個(gè)封裝襯底上層疊多個(gè)半導(dǎo)體芯片的多芯片封裝(MCP :Multi Chip lockage)技術(shù)正用于半導(dǎo)體裝置。SOC技術(shù)是在1個(gè)半導(dǎo)體芯片上裝載多個(gè)系統(tǒng)的技術(shù)。相對(duì)于此,MCP技術(shù)是在1 個(gè)封裝上安裝多個(gè)半導(dǎo)體芯片的技術(shù)。MCP技術(shù)通過(guò)研究多個(gè)半導(dǎo)體芯片的疊層方法,能夠謀求小型化(例如,參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1 (特開(kāi)2005-286126號(hào)公報(bào)))。在MCP構(gòu)造中,為了連接半導(dǎo)體芯片的輸入輸出用焊盤(pán)和封裝襯底的焊盤(pán),使用導(dǎo)線(xiàn)焊接。因而,在半導(dǎo)體芯片的焊盤(pán)附近需要用于導(dǎo)線(xiàn)焊接的適宜的空間。因此,將間隔基配置在疊層的2個(gè)半導(dǎo)體芯片之間,由此,確保用于導(dǎo)線(xiàn)焊接的空間。但是,由于使用該間隔基,因而MCP的厚度方向的尺寸增大。此外,如果疊層在封裝襯底上的半導(dǎo)體芯片的數(shù)量增多,則焊盤(pán)數(shù)以及導(dǎo)線(xiàn)數(shù)也增多。因此,封裝襯底和半導(dǎo)體芯片之間的接線(xiàn)變得復(fù)雜,還有導(dǎo)線(xiàn)之間發(fā)生短路的擔(dān)憂(yōu)。 進(jìn)而,形成在封裝襯底上的襯底配線(xiàn)的走線(xiàn)也變得復(fù)雜。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的例子提出了能夠使多芯片封裝小型化以及輕薄化,此外能夠使封裝內(nèi)的接線(xiàn)簡(jiǎn)化的技術(shù)。本發(fā)明的例子的半導(dǎo)體裝置,具備封裝襯底;和第一以及第二半導(dǎo)體芯片,具有長(zhǎng)方形的上面,在上述封裝襯底上疊層,上述第一半導(dǎo)體芯片具有沿著1條短邊設(shè)置的多個(gè)第一焊盤(pán),上述第二半導(dǎo)體芯片具有沿著1條短邊設(shè)置的多個(gè)第二焊盤(pán),疊層為由上述第二半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊和沒(méi)有設(shè)置上述多個(gè)第二焊盤(pán)的短邊組成的頂點(diǎn),和由上述第一半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊和沒(méi)有設(shè)置上述多個(gè)第一焊盤(pán)的短邊組成的頂點(diǎn)在上下重合,第一以及第二半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊交叉。本發(fā)明的例子的半導(dǎo)體裝置,具備封裝襯底;和層疊在上述封裝襯底上的第一以及第二半導(dǎo)體芯片,上述第一半導(dǎo)體芯片具有沿著2條短邊分別設(shè)置的第一以及第二焊盤(pán),上述第二半導(dǎo)體芯片具有沿著2條短邊分別設(shè)置的第三以及第四焊盤(pán),上述封裝襯底具有為了包圍上述第一以及第二半導(dǎo)體芯片而配置在封裝襯底上的第一至第四襯底焊盤(pán), 上述第一以及第三襯底焊盤(pán)用形成在上述封裝襯底表面上的第一襯底配線(xiàn)連接,上述第二以及第四襯底焊盤(pán)用形成在上述封裝襯底表面上的第二襯底配線(xiàn)連接,上述第一以及第二襯底配線(xiàn)經(jīng)由形成在上述封裝襯底內(nèi)的端子接頭部,用設(shè)置在比上述封裝襯底表面下層的第三襯底配線(xiàn)連接,上述第二半導(dǎo)體芯片配置在上述第一半導(dǎo)體芯片的上述第一以及第二焊盤(pán)之間,為了使上述第一以及第二半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊交叉,層疊在上述第一半導(dǎo)體芯片上。本發(fā)明的例子的半導(dǎo)體裝置,具備封裝襯底;具有長(zhǎng)方形的上面,沿著1條長(zhǎng)邊設(shè)置多個(gè)焊盤(pán)的第一至第四半導(dǎo)體芯片,上述第一以及第二半導(dǎo)體芯片為了使未設(shè)置上述焊盤(pán)的長(zhǎng)邊之間接觸而并排配置在封裝襯底上,上述第三以及第四半導(dǎo)體芯片并排層疊在上述第一以及第二半導(dǎo)體芯片上,以使未設(shè)置上述焊盤(pán)的長(zhǎng)邊之間接觸、上述第三以及第四半導(dǎo)體芯片的短邊和上述第一以及第二半導(dǎo)體芯片的短邊在上下重合。如果采用本發(fā)明的例子,則能夠使多芯片封裝小型化以及輕薄化,此外,能夠簡(jiǎn)化封裝內(nèi)的接線(xiàn)。


      圖1是表示半導(dǎo)體芯片的基本構(gòu)造的側(cè)視圖。圖2是第一種實(shí)施例的側(cè)視圖。圖3是第一種實(shí)施例的平面圖。圖4是沿著圖3的IV-IV線(xiàn)的剖面圖。圖5是沿著圖3的V-V線(xiàn)的剖面圖。圖6是表示封裝襯底的配線(xiàn)布線(xiàn)的模式圖。圖7是表示封裝襯底的配線(xiàn)布線(xiàn)的模式圖。圖8是表示第二種實(shí)施例的構(gòu)造的側(cè)視圖。圖9是第二種實(shí)施例的平面圖。圖10是沿著圖9的X-X線(xiàn)的剖面圖。圖11是沿著圖9的XI-XI線(xiàn)的剖面圖。圖12是表示封裝襯底的配線(xiàn)布線(xiàn)的模式圖。圖13是表示封裝襯底的配線(xiàn)布線(xiàn)的模式圖。圖14是表示封裝襯底的配線(xiàn)布線(xiàn)的模式圖。圖15是表示第二種實(shí)施例的應(yīng)用例子的側(cè)視圖。圖16是表示第二種實(shí)施例的變形例子的側(cè)視圖。圖17是表示第二種實(shí)施例的變形例子的側(cè)視圖。圖18是沿著圖17的XVIII-XVIII線(xiàn)的剖面圖。圖19是沿著圖17的XIX-XIX線(xiàn)的剖面圖。圖20A是分階段表示變形例子的構(gòu)造的圖。圖20B是分階段表示變形例子的構(gòu)造的圖。
      圖20C是分階段表示變形例子的構(gòu)造的圖。圖21是表示第二種實(shí)施方式的構(gòu)造的側(cè)視圖。圖22是表示第二種實(shí)施方式的構(gòu)造的側(cè)視圖。圖23是沿著圖22的XXIII-XXIII線(xiàn)的剖面圖。圖24是沿著圖22的XXIV-XXIV線(xiàn)的剖面圖。圖25是表示第三種實(shí)施方式的構(gòu)造的側(cè)視圖。圖沈是表示第三種實(shí)施方式的構(gòu)造的平面圖。圖27是沿著圖沈的XXVII-XXVII線(xiàn)的剖面圖。圖觀(guān)是沿著圖26的XXVIII-XXVIII線(xiàn)的剖面圖。圖四是表示本發(fā)明的例子的適用例子的圖。符號(hào)說(shuō)明1,10 80,IOA 80A,IOB 80B 半導(dǎo)體芯片;11 81,Ila llh,21a 21h 芯片焊盤(pán);19 99 導(dǎo)線(xiàn);90 存儲(chǔ)器控制芯片;91 控制焊盤(pán);100 400 封裝襯底;101 104,201 204, 301A, 301B, 302A, 302B, 401A, 401B, 402A, 402B 襯底焊盤(pán);105,105A, 105B, 105C, 106 襯底配線(xiàn);107 引線(xiàn)連接配線(xiàn);108 端子接頭部;109,120 引線(xiàn)部;110 襯底控制焊盤(pán);Wl W8, WlA W8A, WlB W8B 短邊;Ll L8 長(zhǎng)邊;3 存儲(chǔ)卡。
      具體實(shí)施例方式以下,一邊參照附圖,一邊詳細(xì)說(shuō)明用于實(shí)施本發(fā)明的例子的最佳的形態(tài)。1.實(shí)施方式以下,說(shuō)明認(rèn)為最佳的幾個(gè)實(shí)施方式。(A)概要本發(fā)明的例子在多芯片封裝(以下,稱(chēng)為MCP)中,涉及疊層多個(gè)半導(dǎo)體芯片的封裝構(gòu)造。本發(fā)明的例子說(shuō)明不使用間隔基,能夠確保用于疊層的半導(dǎo)體芯片的導(dǎo)線(xiàn)焊接的空間,能夠減小封裝裝置的尺寸的構(gòu)造。此外,在疊層的半導(dǎo)體芯片上設(shè)置進(jìn)行數(shù)據(jù)以及控制信號(hào)的輸入輸出的多個(gè)焊盤(pán) (以下,稱(chēng)為芯片焊盤(pán))。而后,在封裝襯底上設(shè)置和這些焊盤(pán)連接的多個(gè)焊盤(pán)(以下,稱(chēng)為襯底焊盤(pán)),進(jìn)而,設(shè)置連接襯底焊盤(pán)之間的襯底配線(xiàn)。以下,還說(shuō)明該配線(xiàn)襯底的配線(xiàn)布線(xiàn),提出了能夠簡(jiǎn)化襯底配線(xiàn)的走線(xiàn)的技術(shù)。(B)半導(dǎo)體芯片圖1是表示在以下說(shuō)明的實(shí)施方式中使用的半導(dǎo)體芯片的基本構(gòu)造的側(cè)視圖。如圖1所示,半導(dǎo)體芯片1是其上面由短邊W和長(zhǎng)邊L組成的長(zhǎng)方形的長(zhǎng)方體構(gòu)造。半導(dǎo)體芯片1例如是NAND型或者NOR型閃存、DRAM(Dynamic Random Access Memory)、ROM (Read Onry Memory)等的存儲(chǔ)器芯片。此外,半導(dǎo)體芯片1可以是安裝有LSI 的邏輯電路,也可以是混裝有存儲(chǔ)器和LSI的混裝芯片。多個(gè)焊盤(pán)(未圖示)沿著半導(dǎo)體芯片1的短邊W或者比短邊長(zhǎng)的長(zhǎng)邊L,配置在設(shè)置于半導(dǎo)體芯片1上面的端部的區(qū)域內(nèi)(用虛線(xiàn)包圍的區(qū)域)。
      這些焊盤(pán)是用于向芯片提供電源電壓的電源焊盤(pán)、用于進(jìn)行數(shù)據(jù)或者控制信號(hào)的輸入輸出的信號(hào)輸入輸出焊盤(pán)。以下,說(shuō)明疊層多個(gè)個(gè)上述的半導(dǎo)體芯片1,例如使用TSOP (Thin Small Outline lockage:薄小外形封裝)進(jìn)行封裝的MCP。而且,在以下所示的幾個(gè)實(shí)施方式中,封裝的種類(lèi)并不限于TS0P,例如也能夠適用BGA(Ball Grid Array)等其他的封裝。(C)第一種實(shí)施方式在本實(shí)施方式中,說(shuō)明在圖1所示的半導(dǎo)體芯片上,沿著半導(dǎo)體芯片的1條短邊W 設(shè)置多個(gè)焊盤(pán)的半導(dǎo)體芯片的MCP。(1)第一種實(shí)施例(a)構(gòu)造圖2是表示成為第一種實(shí)施例的MCP的構(gòu)造的側(cè)視圖。圖3是第一種實(shí)施例的平面圖。此外,圖4是沿著圖3的IV-IV線(xiàn)的剖面圖,圖5 是沿著圖3的V-V線(xiàn)的剖面圖。如圖2至圖5所示,將多個(gè)半導(dǎo)體芯片10 40層疊在封裝襯底100上。半導(dǎo)體芯片10 40例如是同一尺寸。此外,半導(dǎo)體芯片10 40例如是由閃存組成的存儲(chǔ)器芯片。半導(dǎo)體芯片10 40例如隔著絕緣性的粘接劑等的薄的絕緣層分別層疊。半導(dǎo)體芯片10在其上面具有多個(gè)焊盤(pán)11。以下,將設(shè)置在半導(dǎo)體芯片上的焊盤(pán)稱(chēng)為芯片焊盤(pán)。多個(gè)芯片焊盤(pán)11沿著芯片的1條短邊Wl設(shè)置。此外,半導(dǎo)體芯片20 40和半導(dǎo)體芯片10 —樣分別具有芯片焊盤(pán)21 41。而后,芯片焊盤(pán)21 41沿著半導(dǎo)體芯片20 40的短邊W2 W4分別設(shè)置。第一半導(dǎo)體芯片10例如隔著絕緣性的粘接劑等的薄的絕緣層配置在封裝襯底 100 上。第二半導(dǎo)體芯片20層疊在第一半導(dǎo)體芯片10上以使未設(shè)置半導(dǎo)體芯片20的芯片焊盤(pán)的短邊和第一半導(dǎo)體芯片10的長(zhǎng)邊上下重合。而后,將成為上層一側(cè)的第二半導(dǎo)體芯片20的底面配置成不和第一半導(dǎo)體芯片10的芯片焊盤(pán)11接觸。此外,配置上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片20的長(zhǎng)邊以使和沒(méi)有設(shè)置下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片10的芯片焊盤(pán)的短邊在上下重合。即,由半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊和沒(méi)有設(shè)置焊盤(pán)的短邊組成的頂點(diǎn)在上層一側(cè)和下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片中上下重合,進(jìn)而,層疊成上層一側(cè)和下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊交叉。而且,上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的短邊的長(zhǎng)度是上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的底面不和下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的芯片焊盤(pán)接觸的長(zhǎng)度。通過(guò)這樣疊層2個(gè)半導(dǎo)體芯片10、20,能夠?qū)⑽挥谙聦右粋?cè)上的半導(dǎo)體芯片的芯片焊盤(pán)設(shè)置成不用上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片覆蓋的構(gòu)造。因此,能夠縮小封裝的尺寸。而后,能夠用于確保對(duì)位于下層一側(cè)上的半導(dǎo)體芯片的導(dǎo)線(xiàn)焊接的空間。此外,設(shè)置于半導(dǎo)體芯片20的上面上的芯片焊盤(pán)20的排列例如相對(duì)設(shè)置在半導(dǎo)體芯片10上面的芯片焊盤(pán)11的排列配置成左右反轉(zhuǎn)。以下,將把焊盤(pán)的排列配置成左右反轉(zhuǎn)的情況稱(chēng)為鏡狀排列。
      在第二半導(dǎo)體芯片20上層疊第三半導(dǎo)體芯片30。第三半導(dǎo)體芯片30配置在第二半導(dǎo)體芯片20上以使沒(méi)有設(shè)置2個(gè)半導(dǎo)體芯片20、30的芯片焊盤(pán)的短邊和長(zhǎng)邊組成的頂點(diǎn)在上下重合。由此,確保對(duì)第二半導(dǎo)體芯片20的芯片焊盤(pán)21的導(dǎo)線(xiàn)焊接的空間。而后,第三半導(dǎo)體芯片30的短邊W3面向和第一半導(dǎo)體芯片10的短邊Wl所在的方向相同的方向。因此,在半導(dǎo)體芯片10的芯片焊盤(pán)11的上部如進(jìn)行覆蓋那樣配置成半導(dǎo)體芯片30的底面。但是,在第一半導(dǎo)體芯片10和半導(dǎo)體芯片30之間因?yàn)楦糁雽?dǎo)體芯片20,所以用于芯片焊盤(pán)11的導(dǎo)線(xiàn)焊接的厚度方向的空間用半導(dǎo)體芯片20的厚度來(lái)確保。g卩,半導(dǎo)體芯片20起到了間隔基的作用。而且,第三半導(dǎo)體芯片30的芯片焊盤(pán)31的排列例如和第一半導(dǎo)體芯片10的芯片焊盤(pán)11的排列相同。在第三半導(dǎo)體芯片30上設(shè)置第四半導(dǎo)體芯片40。第四半導(dǎo)體芯片40配置在第三半導(dǎo)體芯片30上以使由未設(shè)置芯片焊盤(pán)的短邊和長(zhǎng)邊組成的頂點(diǎn)之間在上下重合。由此, 能夠確保針對(duì)第三半導(dǎo)體芯片30的芯片焊盤(pán)31的導(dǎo)線(xiàn)焊接的空間。而后,第二半導(dǎo)體芯片20的短邊W2和第四半導(dǎo)體芯片40的短邊W4所在的方向是同一方向。芯片焊盤(pán)21的導(dǎo)線(xiàn)焊接用的厚度方向的空間由半導(dǎo)體芯片30的厚度來(lái)確保。而且,第四半導(dǎo)體芯片40的芯片焊盤(pán)41的排列例如和第二半導(dǎo)體芯片20的芯片焊盤(pán)21的排列相同。此外,在上述中,疊層的多個(gè)半導(dǎo)體芯片包含有芯片焊盤(pán)的排列具有鏡狀排列的半導(dǎo)體芯片。但是,并不限于此,半導(dǎo)體芯片的芯片焊盤(pán)的排列也可以完全相同。 半導(dǎo)體芯片10 40例如當(dāng)是存儲(chǔ)器芯片的情況下,存儲(chǔ)器控制芯片90層疊在半導(dǎo)體芯片40上以使其底部不遮蓋芯片焊盤(pán)41。存儲(chǔ)器控制芯片90進(jìn)行存儲(chǔ)器芯片的控制。而且,存儲(chǔ)器控制芯片90也可以不配置在半導(dǎo)體芯片40上,可以另外配置在封裝襯底100上或者其他襯底上。在封裝襯底100上設(shè)置和芯片焊盤(pán)11 41連接的多個(gè)襯底焊盤(pán)101、102。多個(gè)襯底焊盤(pán)101例如配置在封裝襯底100上以使其和半導(dǎo)體芯片10、30的短邊 WU W3平行。芯片焊盤(pán)11、31用焊絲19、39和襯底焊盤(pán)101連接。芯片焊盤(pán)11、31當(dāng)分別具有同一功能的情況下,如圖2至5所示,對(duì)于1個(gè)襯底焊盤(pán)101,也可以連接2個(gè)半導(dǎo)體芯片10、30的芯片焊盤(pán)11、31。同樣,多個(gè)襯底焊盤(pán)102例如配置成和半導(dǎo)體芯片20、40的短邊W2、W4平行,用焊絲四、49分別連接芯片焊盤(pán)21、41。而后,半導(dǎo)體芯片20、40的芯片焊盤(pán)的排列當(dāng)為鏡狀排列的情況下,襯底焊盤(pán)102的排列也可以相對(duì)襯底焊盤(pán)101的排列進(jìn)行鏡狀配置。襯底焊盤(pán)101和襯底焊盤(pán)102用襯底配線(xiàn)(未圖示)連接分別對(duì)應(yīng)的焊盤(pán)之間, 進(jìn)而,還和外部端子(未圖示)連接。有關(guān)該襯底配線(xiàn)的配線(xiàn)布線(xiàn)以后說(shuō)明。此外,在封裝襯底100上設(shè)置襯底控制焊盤(pán)110,用焊絲99和存儲(chǔ)器控制芯片90 連接。焊絲19 49、99例如是細(xì)Au絲等的導(dǎo)電線(xiàn)。如上所述,位于下層一側(cè)上的半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊,和沒(méi)有設(shè)置位于上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的芯片焊盤(pán)的短邊疊層成在上下重合。即,由半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊和沒(méi)有設(shè)置焊盤(pán)的短邊組成的頂點(diǎn)之間在上層一側(cè)和下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片上在上下重合,進(jìn)而層疊為上層一側(cè)和下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊交叉。此外,將上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的底面配置成不與下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的芯片焊盤(pán)接觸。由此,在上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片上即使進(jìn)一步配置不同的半導(dǎo)體芯片,上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片也起到用于確保下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的導(dǎo)線(xiàn)焊接的厚度方向的空間的間隔基的效果。因而,即使不使用間隔基,也能夠確保用于下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的導(dǎo)線(xiàn)焊接的空間,能夠縮小封裝的厚度方向的尺寸。此外,由此,能夠疊層多個(gè)半導(dǎo)體芯片,能夠縮小封裝的尺寸。而且,在本實(shí)施例中雖然說(shuō)明了 4層構(gòu)造的MCP,但沒(méi)有限定于該數(shù)量。此外,本實(shí)施方式也可以使用不同種類(lèi)的半導(dǎo)體芯片。此外,多個(gè)半導(dǎo)體芯片能夠如上述那樣層疊,并且只要能夠確保用于導(dǎo)線(xiàn)焊接的面積,即使不是同一尺寸的半導(dǎo)體芯片也可以。(b)封裝襯底的配線(xiàn)布線(xiàn)如上所述,在封裝襯底表面以及表面的下層上形成用于連接多個(gè)襯底焊盤(pán)和外部端子的襯底配線(xiàn)。以下,說(shuō)明封裝襯底的配線(xiàn)布線(xiàn)。而且,以下圖示的配線(xiàn)布線(xiàn)是模式化表示了配線(xiàn)的布線(xiàn),不限定于圖示的構(gòu)造。此外,在此,將設(shè)置在半導(dǎo)體芯片以及封裝襯底上的焊盤(pán)數(shù)是8個(gè)的情況作為例子,對(duì)該配線(xiàn)布線(xiàn)進(jìn)行說(shuō)明,但并不限定于該焊盤(pán)的個(gè)數(shù)。圖6以及圖7是在封裝襯底100上實(shí)施的配線(xiàn)布線(xiàn)的模式圖。封裝襯底100例如是TSOP用的襯底。如上所述,半導(dǎo)體芯片的多個(gè)芯片焊盤(pán)和封裝襯底的多個(gè)襯底焊盤(pán)用焊絲分別連接。襯底焊盤(pán)和芯片焊盤(pán)希望連結(jié)成導(dǎo)線(xiàn)焊接不復(fù)雜。因此,例如當(dāng)多個(gè)芯片焊盤(pán)的排列以鏡狀配置的情況下,和這些芯片焊盤(pán)連接的多個(gè)襯底焊盤(pán)的排列也配置成鏡狀。圖6表示將襯底焊盤(pán)10 10 !的排列相對(duì)襯底焊盤(pán)IOla IOlh的排列排列成鏡狀的情況下的配線(xiàn)布線(xiàn)。如圖6所示,在封裝襯底100上設(shè)置和多個(gè)半導(dǎo)體芯片連接的襯底焊盤(pán)IOla IOlhUO^i 102h。襯底焊盤(pán)IOla IOlhUO^i 102h例如配置成和設(shè)置有半導(dǎo)體芯片的焊盤(pán)的短邊平行。此外,將和存儲(chǔ)器控制芯片的控制焊盤(pán)連接的襯底控制焊盤(pán)110設(shè)置在封裝襯底100上。襯底焊盤(pán)IOla IOlh和襯底焊盤(pán)10 10 !用襯底配線(xiàn)105分別連接。襯底焊盤(pán)10 Ioa1用襯底配線(xiàn)107和用于與外部裝置(未圖示)連接用的引線(xiàn)部109a 109h分別連接。因此,襯底焊盤(pán)IOla IOlh經(jīng)由襯底焊盤(pán)10 102h和引線(xiàn)部109a 109h連接。此外,襯底控制焊盤(pán)110經(jīng)由襯底配線(xiàn)107分別和控制芯片用的引線(xiàn)部120連接。如圖6所示,襯底焊盤(pán)10 10 !的排列相對(duì)襯底焊盤(pán)IOla IOlh的排列成鏡狀地配置在封裝襯底100上。
      如果襯底焊盤(pán)IOla IOlh的排列、襯底焊盤(pán)10 10 的排列是同樣的順序, 則如只設(shè)置在封裝襯底表面上的襯底配線(xiàn)之間不接觸那樣地迂回配線(xiàn)的方式變得非常復(fù)雜。此外,為了該走線(xiàn),封裝襯底的尺寸增大。因而,如本實(shí)施例所示,通過(guò)將芯片焊盤(pán)以及襯底焊盤(pán)的排列設(shè)置成鏡狀,能夠簡(jiǎn)化用于連接分別對(duì)應(yīng)的襯底焊盤(pán)之間的配線(xiàn)布線(xiàn)。此外,以下說(shuō)明芯片焊盤(pán)的排列在上層一側(cè)以及下層一側(cè)的芯片上相同的情況。 這種情況下,襯底焊盤(pán)IOia IOlh的排列和襯底焊盤(pán)10 Ioa1的排列也可以相同。圖7表示襯底焊盤(pán)10 10 !的排列和襯底焊盤(pán)IOla IOlh的排列相同時(shí)的配線(xiàn)布線(xiàn)。襯底焊盤(pán)IOla用設(shè)置在封裝襯底100表面上的襯底配線(xiàn)(實(shí)線(xiàn))105和襯底焊盤(pán) 102a電氣連接。此外,在封裝襯底100內(nèi)形成通孔,在該通孔內(nèi)嵌入由導(dǎo)電材料組成的端子接頭部 108。用該端子接頭部108將設(shè)置在封裝襯底100背面上的襯底配線(xiàn)(虛線(xiàn))106和設(shè)置在封裝襯底100表面上的襯底配線(xiàn)105連接。由此,襯底焊盤(pán)IOlb IOlh和襯底焊盤(pán)10 10 分別電氣連接。因而,通過(guò)用端子接頭部連接設(shè)置在封裝襯底的表面以及背面上的多個(gè)襯底配線(xiàn),即使半導(dǎo)體芯片以及封裝襯底的焊盤(pán)的排列相同,也能夠簡(jiǎn)化襯底配線(xiàn)的走線(xiàn)。如上所述,通過(guò)使用圖6以及圖7的配線(xiàn)布線(xiàn),能夠簡(jiǎn)化襯底配線(xiàn)的走線(xiàn)。(c)匯總通過(guò)上述的半導(dǎo)體芯片的疊層構(gòu)造以及封裝襯底的配線(xiàn)布線(xiàn),即使不使用間隔基,也能夠確保下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的導(dǎo)線(xiàn)焊接用的空間。進(jìn)而,因?yàn)槟軌驅(qū)盈B多個(gè)半導(dǎo)體芯片,所以能夠縮小封裝的尺寸。此外,能夠簡(jiǎn)化封裝襯底的襯底配線(xiàn)的走線(xiàn)。(2)第二種實(shí)施例在第一種實(shí)施例所示的MCP構(gòu)造中,設(shè)置有半導(dǎo)體芯片的焊盤(pán)的邊面向不同的2 個(gè)方向。因此,多個(gè)半導(dǎo)體芯片的焊絲偏向1個(gè)方向,擔(dān)心導(dǎo)線(xiàn)之間的短路。以下,說(shuō)明能夠防止導(dǎo)線(xiàn)之間的短路的MCP。而且,對(duì)于和在第一種實(shí)施例中所示構(gòu)件相同的構(gòu)件,附加相同的符號(hào),省略詳細(xì)的說(shuō)明。(a)構(gòu)造用圖8至圖11說(shuō)明本實(shí)施例的MCP。圖8表示本實(shí)施例的MCP構(gòu)造的側(cè)視圖。此外,圖9表示本實(shí)施例的平面圖。此外,圖10表示沿著圖9的X-X線(xiàn)的剖面圖,圖11表示沿著圖9的XI-XI線(xiàn)的剖面圖。第一半導(dǎo)體芯片10配置在封裝襯底100上。而后,第二半導(dǎo)體芯片20配置在半導(dǎo)體芯片10上以使由沒(méi)有設(shè)置第一以及第二半導(dǎo)體芯片10、20的芯片焊盤(pán)的短邊和長(zhǎng)邊組成的頂點(diǎn)之間在上下重合,長(zhǎng)邊之間上下交叉那樣。由此,確保用于芯片11的導(dǎo)線(xiàn)焊接的空間。第三半導(dǎo)體芯片30配置在半導(dǎo)體芯片20上以使設(shè)置有芯片焊盤(pán)31的短邊W3和設(shè)置有第二半導(dǎo)體芯片的焊盤(pán)21的短邊W2所在的方向朝向相反的方向。此外,半導(dǎo)體芯片30為了使其底面不和半導(dǎo)體芯片20的芯片焊盤(pán)21接觸,在短邊W3所在的方向上平行移動(dòng)。由此,確保用于焊盤(pán)21的導(dǎo)線(xiàn)焊接的空間。第四半導(dǎo)體芯片40配置在半導(dǎo)體芯片30上以使設(shè)置有芯片焊盤(pán)41的短邊W4和設(shè)置有第一半導(dǎo)體芯片的焊盤(pán)11的短邊Wl所在的方向朝向相反的方向。此外,第四半導(dǎo)體芯片40配置成半導(dǎo)體芯片30的長(zhǎng)邊和沒(méi)有設(shè)置芯片焊盤(pán)41的短邊在上下重合。芯片焊盤(pán)11 41的排列可以呈鏡狀排列,也可以是相同排列。當(dāng)焊盤(pán)排列成鏡狀的情況下,例如,芯片焊盤(pán)31、41的排列相對(duì)芯片焊盤(pán)11、21的排列配置成鏡狀。設(shè)置在封裝襯底100上的襯底焊盤(pán)101 104配置成包圍由多個(gè)半導(dǎo)體芯片組成的疊層體的周?chē)Rr底焊盤(pán)101和芯片焊盤(pán)11連接。襯底焊盤(pán)102和芯片焊盤(pán)21連接。而后,襯底焊盤(pán)103和芯片焊盤(pán)31連接,襯底焊盤(pán)104和芯片焊盤(pán)41連接。如上所述,通過(guò)配置半導(dǎo)體芯片10 40,能夠?qū)⒃O(shè)置有焊盤(pán)的短邊層疊成位于分別不同的4個(gè)方向。由此,對(duì)每個(gè)半導(dǎo)體芯片能夠在分別不同的方向上引出焊絲,能夠防止焊絲之間的短路。而且,在本實(shí)施例中,焊絲19 49只要分別在不同的4個(gè)方向上引出即可。艮口, 只要設(shè)置有芯片焊盤(pán)11 41的短邊Wl W4分別位于不同的方向上即可,只要由位于下層一側(cè)上的半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊和位于上層一側(cè)的沒(méi)有設(shè)置半導(dǎo)體芯片的焊盤(pán)的短邊組成的頂點(diǎn)在上下重合,疊層為長(zhǎng)邊之間在上下交叉,則半導(dǎo)體芯片10 40的短邊Wl W4的方向沒(méi)有限定。例如,可以是半導(dǎo)體芯片10的短邊Wl和半導(dǎo)體芯片30的短邊W3朝向相互相反的方向,半導(dǎo)體芯片20的短邊W2和半導(dǎo)體芯片40的短邊W4朝向相互相反的方向?qū)盈B的構(gòu)造。(b)封裝襯底的配線(xiàn)布線(xiàn)圖12至圖14是表示裝載圖8至圖11所示的MCP構(gòu)造的封裝襯底100的配線(xiàn)布線(xiàn)的模式圖。而且,雖然對(duì)將設(shè)置在半導(dǎo)體芯片以及封裝襯底上的焊盤(pán)的數(shù)量設(shè)置成8個(gè)的情況下的配線(xiàn)布線(xiàn)進(jìn)行說(shuō)明,但其個(gè)數(shù)沒(méi)有限定。如上所述,設(shè)置有多個(gè)半導(dǎo)體芯片的芯片焊盤(pán)的短邊位于分別不同的4個(gè)方向。因此,如圖12所示,和這些芯片焊盤(pán)連接的襯底焊盤(pán)IOla 101h、102a 102h、 103a 103h、l(Ma 104h也位于封裝襯底100上的不同的4個(gè)方向上配置。襯底焊盤(pán)103a 103h、l(Ma 104h的排列例如相對(duì)襯底焊盤(pán)IOla 101h、 102a 102h的排列配置成鏡狀。而后,襯底焊盤(pán)IOla IOlh和襯底焊盤(pán)103a 103h用襯底配線(xiàn)105A連接。襯底焊盤(pán)10 102h和襯底焊盤(pán)10 104h用襯底配線(xiàn)105B連接。此外,如圖13所示,在比配置有襯底配線(xiàn)105A、105B的層更下層上設(shè)置襯底配線(xiàn) 105C。襯底配線(xiàn)105A用端子接頭部108a 108h和襯底配線(xiàn)105C和襯底配線(xiàn)105B連接。 由此,襯底焊盤(pán)IOla 101h、103a 103h經(jīng)由襯底焊盤(pán)10 102h和外部端子109a 109h連接。
      而且,襯底配線(xiàn)105C也可以設(shè)置在封裝襯底100的背面上。此外,圖14是表示疊層的半導(dǎo)體芯片的芯片焊盤(pán)的排列在全部的芯片相同的情況下的配線(xiàn)布線(xiàn)的圖。如圖14所示,因?yàn)樾酒副P(pán)的排列相同,所以襯底焊盤(pán)IOla 101h、102a 102hU03a 103hU04a 104h的排列也分別是相同的排列。設(shè)置在封裝襯底100表面上的襯底配線(xiàn)(實(shí)線(xiàn))105或者設(shè)置在封裝襯底100背面上的襯底配線(xiàn)(虛線(xiàn))106從襯底焊盤(pán)IOla 101h、102a 102h、103a 103h、104a 104h的各自中引出以便變成格子形的布線(xiàn)。多個(gè)端子接頭部108形成在封裝襯底100內(nèi)以便在X字上排列。經(jīng)由這些端子接頭部108將襯底配線(xiàn)105和襯底配線(xiàn)106連接。由此,襯底焊盤(pán)IOla 101h、103a 103h、104a 104h和襯底焊盤(pán)10 102 連接,進(jìn)而,和外部端子109a 109h連接。例如,襯底焊盤(pán)IOla用襯底表面的襯底配線(xiàn) 105和襯底焊盤(pán)103a連接。襯底焊盤(pán)10 用襯底配線(xiàn)105和襯底焊盤(pán)10 連接。而后, 襯底焊盤(pán)101a、103a經(jīng)由2個(gè)端子接頭部108和襯底背面的襯底配線(xiàn)106和襯底焊盤(pán)10 連接。因而,多個(gè)襯底焊盤(pán)即使配置成位于4個(gè)方向的情況下,也能夠簡(jiǎn)化封裝襯底配線(xiàn)的走線(xiàn)。(c)應(yīng)用例子圖15是表示本實(shí)施例的應(yīng)用例子的側(cè)視圖。圖15是疊層8個(gè)半導(dǎo)體芯片,圖8至圖11所示的MCP是2組層疊的構(gòu)造。如圖15所示,將半導(dǎo)體芯片50進(jìn)一步層疊在半導(dǎo)體芯片40上。設(shè)置有半導(dǎo)體芯片50的芯片焊盤(pán)51的短邊W5位于和設(shè)置有半導(dǎo)體芯片40的芯片焊盤(pán)的邊W4所在的方向相反的方向上。而后,半導(dǎo)體芯片50在與短邊W5所在的方向平行地移動(dòng)以使半導(dǎo)體芯片50的底面不和半導(dǎo)體芯片40的芯片焊盤(pán)41接觸。由此,確保用于導(dǎo)線(xiàn)焊接的空間。此外,該邊W5位于和設(shè)置有半導(dǎo)體芯片10的焊盤(pán)的邊Wl相同的方向上。此外,半導(dǎo)體芯片10的導(dǎo)線(xiàn)焊接用的厚度方向的空間在半導(dǎo)體芯片10和半導(dǎo)體芯片50之間因?yàn)楦糁?個(gè)半導(dǎo)體芯片20 40,所以能夠充分地被確保。半導(dǎo)體芯片50的芯片焊盤(pán)51因?yàn)樵O(shè)置有該焊盤(pán)的短邊W5位于設(shè)置有半導(dǎo)體芯片10的焊盤(pán)的短邊Wl相同方向上,所以與襯底焊盤(pán)101連接。半導(dǎo)體芯片60 80順序?qū)盈B在半導(dǎo)體芯片50上以使其各自和半導(dǎo)體芯片20 40的配置相同。而后,半導(dǎo)體芯片60的芯片焊盤(pán)61與和芯片焊盤(pán)21相同的襯底焊盤(pán)102連接。 同樣,半導(dǎo)體芯片70的芯片焊盤(pán)71和芯片焊盤(pán)31連接,此外,半導(dǎo)體芯片80的芯片焊盤(pán) 81和芯片焊盤(pán)41、同樣的襯底焊盤(pán)連接。如上所述,也可以疊層4個(gè)及以上的半導(dǎo)體芯片。(d)變形例子在第二種實(shí)施例中對(duì)能夠防止導(dǎo)線(xiàn)之間的短路的MCP進(jìn)行了說(shuō)明。在本變形例子中,除了上述的效果外,使用圖16至圖19說(shuō)明能夠進(jìn)一步縮小封裝的尺寸的MCP。
      圖16是表示本變形例子的MCP的側(cè)視圖。圖17表示本變形例子的平面圖。此外, 圖18表示沿著圖17的XVIII-XVIII線(xiàn)的剖面圖,圖19表示沿著圖17的XIX-XIX線(xiàn)的剖面圖。而且,對(duì)于和上述一樣的構(gòu)件標(biāo)注相同的符號(hào)并省略詳細(xì)說(shuō)明。在封裝襯底200上順序疊層半導(dǎo)體芯片10 40。此外,和第二種實(shí)施例一樣,設(shè)置有芯片焊盤(pán)的短邊Wl W4配置成朝向不同的4個(gè)方向。而后,芯片焊盤(pán)11和襯底焊盤(pán)201連接。此外,芯片焊盤(pán)21和襯底焊盤(pán)202連接。 此外,芯片焊盤(pán)31和襯底焊盤(pán)203連接,芯片焊盤(pán)41和襯底焊盤(pán)204連接。在本變形例子中,芯片焊盤(pán)21、31的排列例如配置成相對(duì)芯片焊盤(pán)11、41的排列成鏡狀。在這種情況下,安裝圖16至圖19所示的半導(dǎo)體芯片10 40的封裝襯底200的配線(xiàn)布線(xiàn)能夠適用圖12以及圖13所示的配線(xiàn)布線(xiàn)。因此,圖16至圖19所示的襯底焊盤(pán)202、203的排列成為和芯片焊盤(pán)21、31的排列相同的排列,相對(duì)和芯片焊盤(pán)11、41連接的襯底焊盤(pán)201、204的排列,配置成鏡狀。此時(shí),圖16至圖19的襯底焊盤(pán)201以及襯底焊盤(pán)204的排列分別與圖12所示的襯底焊盤(pán)IOla IOlh以及襯底焊盤(pán)10 10 !對(duì)應(yīng)。同樣,襯底焊盤(pán)202以及襯底焊盤(pán)203的排列分別與圖12的襯底焊盤(pán)103a 10 以及襯底焊盤(pán)10 104h對(duì)應(yīng)。此外,圖16至圖19所示的半導(dǎo)體芯片20、30的芯片焊盤(pán)21、31的排列也可以和芯片焊盤(pán)11、41的排列相同。這種情況下,能夠適用圖14所示的配線(xiàn)布線(xiàn),圖16至圖19 表示的襯底焊盤(pán)201的排列與圖14所示的襯底焊盤(pán)IOla IOlh對(duì)應(yīng),襯底焊盤(pán)202的排列與襯底焊盤(pán)103a 10 對(duì)應(yīng)。此外,圖16至圖19所示的襯底焊盤(pán)203的排列與圖14 所示的襯底焊盤(pán)10 104h對(duì)應(yīng),襯底焊盤(pán)204的排列與襯底焊盤(pán)10 10 !對(duì)應(yīng)。以下,使用圖20A至圖20C分階段說(shuō)明本變形例子的構(gòu)造。如圖20A所示,第一半導(dǎo)體芯片10配置在封裝襯底200上。為了使由半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊和沒(méi)有設(shè)置焊盤(pán)的短邊組成的頂點(diǎn)在上層一側(cè)和下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片上在上下重合疊層第二半導(dǎo)體芯片20。而后,確保用于芯片焊盤(pán)11的導(dǎo)線(xiàn)焊接的空間。如圖20B所示,第三半導(dǎo)體芯片30層疊在半導(dǎo)體芯片20上以便設(shè)置有半導(dǎo)體芯片30的焊盤(pán)31的短邊W3和半導(dǎo)體芯片20的長(zhǎng)邊在上下重合。而后,將和半導(dǎo)體芯片30 的短邊W3相對(duì)的短邊配置成和半導(dǎo)體芯片10的短邊Wl位于相同的方向上。因此,雖然半導(dǎo)體芯片30的底面位于芯片焊盤(pán)11的上部,但半導(dǎo)體芯片10的焊盤(pán)11的導(dǎo)線(xiàn)焊接用的厚度方向的空間由半導(dǎo)體芯片20的厚度確保。如圖20C所示,為了使設(shè)置有半導(dǎo)體芯片40的芯片焊盤(pán)的短邊W4和半導(dǎo)體芯片 30的長(zhǎng)邊在上下重合,半導(dǎo)體芯片40層疊在半導(dǎo)體芯片30上。而后,將和半導(dǎo)體芯片40 的短邊W4相對(duì)的短邊配置成和半導(dǎo)體芯片20的短邊W2位于相同的方向上。此時(shí),半導(dǎo)體芯片20的焊盤(pán)21的導(dǎo)線(xiàn)焊接用的厚度方向的空間用半導(dǎo)體芯片30 的厚度確保。由此,如上所述,通過(guò)疊層多個(gè)半導(dǎo)體芯片,能夠防止焊絲之間的短路,能夠進(jìn)一步縮小封裝的尺寸。(D)第二種實(shí)施方式
      在第一種實(shí)施方式中,說(shuō)明了沿著一條短邊設(shè)置多個(gè)焊盤(pán)的半導(dǎo)體芯片的MCP構(gòu)造。芯片焊盤(pán)并不限于沿著1條短邊設(shè)置,還存在沿著2條短邊設(shè)置的半導(dǎo)體芯片。在本實(shí)施方式中,說(shuō)明沿著2條短邊設(shè)置了焊盤(pán)的半導(dǎo)體芯片的MCP構(gòu)造。而且,對(duì)于和第一種實(shí)施方式相同的構(gòu)件,標(biāo)注相同符號(hào)并省略詳細(xì)說(shuō)明。(a)構(gòu)造使用圖21至圖M說(shuō)明本實(shí)施方式的MCP的構(gòu)造。圖21是表示本實(shí)施方式的MCP構(gòu)造的側(cè)視圖。圖22是表示本實(shí)施方式的構(gòu)造的平面圖。此外,圖23是沿著圖22的XXIII-XXIII線(xiàn)的剖面圖,圖M是沿著圖22的 XXIV-XXIV線(xiàn)的剖面圖。如圖21至圖M所示,在封裝襯底300上例如層疊有8個(gè)半導(dǎo)體芯片10 80。這些半導(dǎo)體芯片10 80例如是存儲(chǔ)器芯片。第一種半導(dǎo)體芯片10配置在封裝襯底300上。在半導(dǎo)體芯片10上面設(shè)置多個(gè)芯片焊盤(pán)11、12。在這些芯片焊盤(pán)中,芯片焊盤(pán)11沿著半導(dǎo)體芯片的短邊WlA設(shè)置。此外,芯片焊盤(pán)12沿著短邊WlB設(shè)置。g卩,半導(dǎo)體芯片10沿著2條短邊設(shè)置有芯片焊盤(pán)11、12。芯片焊盤(pán)12的排列例如相對(duì)芯片焊盤(pán)11的排列以鏡狀排列。在第一半導(dǎo)體芯片10上層疊第二半導(dǎo)體芯片20。第二半導(dǎo)體芯片20沿著短邊W2A設(shè)置芯片焊盤(pán)21,沿著短邊W2B設(shè)置芯片焊盤(pán) 22。第二半導(dǎo)體芯片20配置在2條短邊W1A、W1B之間層疊以使半導(dǎo)體芯片20的長(zhǎng)邊和第一半導(dǎo)體芯片10的長(zhǎng)邊交叉,半導(dǎo)體芯片20和第一半導(dǎo)體芯片10的芯片焊盤(pán)11、12 不接觸。此時(shí),為了確保位于下層一側(cè)上的半導(dǎo)體芯片的導(dǎo)線(xiàn)焊接的空間,位于上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的短邊的長(zhǎng)度是設(shè)定成比下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊短,和下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的芯片焊盤(pán)不重合的長(zhǎng)度。此外,芯片焊盤(pán)21的排列例如變成和芯片焊盤(pán)11的排列相同的排列。此外,芯片焊盤(pán)22的排列例如相對(duì)芯片焊盤(pán)21的排列以鏡狀排列。在第二半導(dǎo)體芯片20上層疊第三半導(dǎo)體芯片30。層疊第三半導(dǎo)體芯片30以使半導(dǎo)體芯片30的長(zhǎng)邊和第二半導(dǎo)體芯片20的長(zhǎng)邊交叉。此外,第三半導(dǎo)體芯片30沿著短邊W3設(shè)置芯片焊盤(pán)31,沿著短邊W!3B設(shè)置芯片焊盤(pán)32。芯片焊盤(pán)31、32的排列排列成分別和芯片焊盤(pán)11、12的排列相同。此時(shí),第三半導(dǎo)體芯片30雖然位于設(shè)置有第一半導(dǎo)體芯片10的芯片焊盤(pán)的短邊 W1A、WlB的上部,但半導(dǎo)體芯片10的厚度方向的導(dǎo)線(xiàn)焊接的空間用第二半導(dǎo)體芯片20的
      厚度確保。第四至第8半導(dǎo)體芯片40 80和第一至第三半導(dǎo)體芯片一樣,交替層疊成各自的長(zhǎng)邊在上下重疊。在半導(dǎo)體芯片80上配置存儲(chǔ)器控制芯片90。
      半導(dǎo)體芯片50 80的芯片焊盤(pán)51 81的排列和半導(dǎo)體芯片10的芯片焊盤(pán)11 的排列相同。此外,半導(dǎo)體芯片50 80的芯片焊盤(pán)52 82的排列和半導(dǎo)體芯片10的芯片焊盤(pán)12的排列相同,例如成為鏡狀排列。而后,芯片焊盤(pán)11、31、51、71和封裝襯底300上的襯底焊盤(pán)301A連接,芯片焊盤(pán) 12、32、52、72和封裝襯底300上的襯底焊盤(pán)301B連接。此外,芯片焊盤(pán)21、41、61、81和封裝襯底300上的襯底焊盤(pán)302A連接,芯片焊盤(pán) 22、42、62、82和封裝襯底300上的襯底焊盤(pán)302B連接。圖21至圖M所示的疊層后的半導(dǎo)體芯片10 80的芯片焊盤(pán)12 82例如當(dāng)相對(duì)芯片焊盤(pán)11 81排列成鏡狀的情況下,封裝襯底300的配線(xiàn)布線(xiàn)能夠適用圖12以及圖 13所示的配線(xiàn)布線(xiàn)。此時(shí),圖21至圖M所示的襯底焊盤(pán)301B、302B的排列變成和芯片焊盤(pán)12 82的配線(xiàn)相同的排列,相對(duì)襯底焊盤(pán)301A、302A的排列配置成鏡狀。此時(shí),圖21至圖M的襯底焊盤(pán)302A以及襯底焊盤(pán)30IA的排列分別與圖12所示的襯底焊盤(pán)IOla IOlh以及襯底焊盤(pán)10 10 !對(duì)應(yīng)。同樣地,襯底焊盤(pán)301B以及襯底焊盤(pán)302B的排列分別與圖12的襯底焊盤(pán)103a 10 以及襯底焊盤(pán)10 104h對(duì)應(yīng)。此外,圖21至圖M所示的半導(dǎo)體芯片10 80的芯片焊盤(pán)的排列也可以成為完全相同的排列。這種情況下,圖21至圖M所示的襯底焊盤(pán)302A的排列與圖14所示的襯底焊盤(pán)IOla IOlh對(duì)應(yīng),襯底焊盤(pán)301B的排列與襯底焊盤(pán)103a 103對(duì)應(yīng)。此外,圖21 至圖M所示的襯底焊盤(pán)302B的排列與圖14所示的襯底焊盤(pán)10 104h對(duì)應(yīng),襯底焊盤(pán) 30IA的排列與襯底焊盤(pán)10 10 !對(duì)應(yīng)。如上所述,當(dāng)沿著半導(dǎo)體芯片的2條短邊設(shè)置焊盤(pán)的情況下,層疊成位于下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊和位于上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊交叉。此外,上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片配置在下側(cè)一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的2條短邊之間層疊。由此,在上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片上即使進(jìn)一步層疊不同的半導(dǎo)體芯片,上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片也能夠起到用于確保下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的導(dǎo)線(xiàn)焊接的厚度方向的間隙的間隔基效果。因此,即使不使用間隔基,也能夠確保用于下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的導(dǎo)線(xiàn)焊接的空間。因而,即使不使用間隔基,也能夠確保下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的導(dǎo)線(xiàn)焊接的空間, 縮小MCP厚度方向的大小。進(jìn)而,能夠簡(jiǎn)化封裝襯底的襯底配線(xiàn)的走線(xiàn)。而且,本實(shí)施方式可以使用不同種類(lèi)的半導(dǎo)體芯片。此外,多個(gè)半導(dǎo)體芯片能夠如上述那樣層疊,并且,如果是能夠確保用于導(dǎo)線(xiàn)焊接的面積,則不是同一尺寸的半導(dǎo)體芯片也可以。(E)第三種實(shí)施方式在第一以及第二種實(shí)施方式中,說(shuō)明了焊盤(pán)沿著短邊設(shè)置的半導(dǎo)體芯片的MCP構(gòu)造。但是,焊盤(pán)并不限于沿著芯片的短邊設(shè)置,也可以沿著圖1所示的半導(dǎo)體芯片1上面的長(zhǎng)邊L進(jìn)行設(shè)置。因而,在本實(shí)施方式中,說(shuō)明沿著1條長(zhǎng)邊設(shè)置焊盤(pán)的半導(dǎo)體芯片的MCP構(gòu)造。
      使用圖25至圖觀(guān)說(shuō)明本實(shí)施方式的MCP構(gòu)造。而且,與第一以及第二實(shí)施方式相同的構(gòu)件標(biāo)注同一符號(hào)并省略詳細(xì)的說(shuō)明。圖25是本實(shí)施方式的側(cè)視圖。此外,圖沈表示本實(shí)施方式的平面圖。圖27是沿著圖沈的XXVII-XXVII線(xiàn)的剖面圖,圖28是沿著圖沈的XXVIII-XXVIII線(xiàn)的剖面圖。在半導(dǎo)體芯片IOA 80A、IOB 80B上面沿著1條長(zhǎng)邊LlA L8A、L1B L8B分別設(shè)置多個(gè)焊盤(pán)IlA 81A、IlB 81B。而后,這些芯片IOA 80A、IOB 80B在封裝襯底
      400上層疊。半導(dǎo)體芯片IOA以及半導(dǎo)體芯片IOB配置在封裝襯底100上。半導(dǎo)體芯片IOA和半導(dǎo)體芯片IOB并排配置在封裝襯底400上以使和設(shè)置有芯片焊盤(pán)1IA的邊LlA相對(duì)的邊及和設(shè)置有芯片焊盤(pán)IlB的邊LIB相對(duì)的邊,S卩,未設(shè)置焊盤(pán)的長(zhǎng)邊之間接觸。此外,芯片焊盤(pán)IlB的焊盤(pán)的排列相對(duì)芯片焊盤(pán)IlA的排列例如呈鏡狀地排列。半導(dǎo)體芯片20A以及半導(dǎo)體芯片20B層疊在半導(dǎo)體芯片10AU0B上。半導(dǎo)體芯片20A和半導(dǎo)體芯片20B和半導(dǎo)體芯片10A、IOB —樣,為了使未設(shè)置焊盤(pán)的長(zhǎng)邊之間接觸并排配置。而后,半導(dǎo)體芯片20A、20B排列在半導(dǎo)體芯片10A、IOB上層疊以使半導(dǎo)體芯片 20A、20B的短邊和半導(dǎo)體芯片10AU0B的短邊在上下交叉。此時(shí),半導(dǎo)體芯片10AU0B的焊盤(pán)IlAUlB必須用于確保能夠用于導(dǎo)線(xiàn)焊接的面積。因此,在本實(shí)施方式中,為了確保用于成為下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的導(dǎo)線(xiàn)焊接的面積,下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的短邊的長(zhǎng)度必須比上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊的一半的長(zhǎng)度還長(zhǎng)。半導(dǎo)體芯片20A的芯片焊盤(pán)21A的排列成為和半導(dǎo)體芯片IOA的芯片焊盤(pán)IlA的排列相同的排列。此外,半導(dǎo)體芯片20B的芯片焊盤(pán)21B的排列相對(duì)半導(dǎo)體芯片20A的芯片焊盤(pán)21A的排列呈鏡狀地排列。進(jìn)而,在半導(dǎo)體芯片20A、20B上層疊半導(dǎo)體芯片30A、30B。為了使未設(shè)置焊盤(pán)的長(zhǎng)邊之間接觸而并排配置半導(dǎo)體芯片30A、30B。此外,為了使半導(dǎo)體芯片30A、30B的短邊和半導(dǎo)體芯片20A、20B的短邊上下交叉,在半導(dǎo)體芯片20A、20B上層疊半導(dǎo)體芯片30A、30B。而后,第四至第8半導(dǎo)體芯片40A 80A、40B 80B和半導(dǎo)體芯片IOA 30A、 IOB 30B —樣,并排配置成未設(shè)置2個(gè)半導(dǎo)體芯片的焊盤(pán)的長(zhǎng)邊之間接觸,上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的短邊如和下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的短邊在上下交叉那樣交替層疊。芯片焊盤(pán)11A、31A、51A、71A和焊盤(pán)襯底400上的襯底焊盤(pán)401A連接,芯片焊盤(pán) 11B、31B、51B、71B和封裝襯底400上的襯底焊盤(pán)401B連接。此外,芯片焊盤(pán)21A、41A、61A、81A和封裝襯底400上的襯底焊盤(pán)402A連接,芯片焊盤(pán)21B、41B、61B、81B和封裝襯底400上的襯底焊盤(pán)402B連接。如上所述,當(dāng)使用芯片焊盤(pán)的排列成為鏡狀的半導(dǎo)體芯片的情況下,封裝襯底300 的配線(xiàn)布線(xiàn)能夠適用圖12以及圖13所示的配線(xiàn)布線(xiàn)。此時(shí),圖25至圖觀(guān)所示的襯底焊盤(pán) 401B、402B的排列和芯片焊盤(pán)11B、21B的排列是相同的排列,相對(duì)襯底焊盤(pán)401A、402A的排列,呈鏡狀地配置。而且,圖25至圖28的襯底焊盤(pán)401A以及襯底焊盤(pán)402A的排列與圖12 所示的襯底焊盤(pán)10 10 !以及襯底焊盤(pán)IOla IOlh分別對(duì)應(yīng)。同樣,襯底焊盤(pán)401B以及襯底焊盤(pán)402B的排列與圖12的襯底焊盤(pán)103a 10 以及襯底焊盤(pán)10 104h分
      別對(duì)應(yīng)。此外,圖25以及圖28所示的半導(dǎo)體芯片IOA 80A、10B 80B的芯片焊盤(pán)的排列也可以變成完全相同的排列。在這種情況下,圖25至圖28所示的襯底焊盤(pán)402A的排列與圖14所示的襯底焊盤(pán)IOla IOlh對(duì)應(yīng),襯底焊盤(pán)401B的排列與襯底焊盤(pán)103a 10 對(duì)應(yīng)。此外,圖25至圖28所示的襯底焊盤(pán)402B的排列與圖14所示的襯底焊盤(pán)10 104h對(duì)應(yīng),襯底焊盤(pán)401A的排列與襯底焊盤(pán)10 10 !對(duì)應(yīng)。如上所述,當(dāng)沿著半導(dǎo)體芯片的1條長(zhǎng)邊設(shè)置焊盤(pán)的情況下,配置在下層一側(cè)上的2個(gè)半導(dǎo)體芯片為了使未設(shè)置有焊盤(pán)的長(zhǎng)邊之間接觸而并排配置。而后,配置在上層一側(cè)上的2個(gè)半導(dǎo)體芯片為了使未設(shè)置焊盤(pán)的長(zhǎng)邊之間接觸,上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的短邊、下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的短邊在上下交叉,在下層一側(cè)的2個(gè)半導(dǎo)體芯片上并排層疊。因此,如本實(shí)施方式所示,能夠用8個(gè)半導(dǎo)體芯片的厚度層疊16個(gè)半導(dǎo)體芯片。 即,MCP的厚度如變成在該MCP中使用的半導(dǎo)體芯片的厚度的和的一半那樣,能夠封裝多個(gè)半導(dǎo)體芯片。由此,在上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片上即使進(jìn)一步配置不同的半導(dǎo)體芯片,上層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片也能夠起到用于確保下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的導(dǎo)線(xiàn)焊接的厚度方向的空間的間隔基的作用。因而,即使不使用間隔基,也能夠確保用于下層一側(cè)的半導(dǎo)體芯片的導(dǎo)線(xiàn)焊接的空間,能夠縮小封裝的厚度方向的尺寸。進(jìn)而,能夠簡(jiǎn)化封裝襯底的襯底配線(xiàn)的走線(xiàn)。而且,本實(shí)施方式可以使用不同種類(lèi)的半導(dǎo)體芯片。此外,多個(gè)半導(dǎo)體芯片能夠如上所述那樣層疊,并且,如果能夠確保用于導(dǎo)線(xiàn)焊接的面積,則不是同一尺寸的半導(dǎo)體芯片也可以。3.適用例子圖四是表示本發(fā)明的例子的適用例子的存儲(chǔ)卡的圖。在存儲(chǔ)卡3內(nèi)安裝具有多個(gè)半導(dǎo)體芯片構(gòu)成的MCP2。多個(gè)半導(dǎo)體芯片例如是由閃存組成的存儲(chǔ)芯片。而后,這些存儲(chǔ)芯片以第一至第三實(shí)施方式所示的某一構(gòu)造層疊,用絕緣性封裝密封。存儲(chǔ)卡3例如在數(shù)字照相機(jī)、手機(jī)、音頻機(jī)器等中使用。如上所述,本發(fā)明的例子的MCP能夠加大存儲(chǔ)卡的存儲(chǔ)容量,并且能夠減小卡的尺寸。2.其他本發(fā)明的例子能夠使多芯片封裝裝置小型化以及輕量化,此外,能夠簡(jiǎn)化封裝裝置內(nèi)的接線(xiàn)。本發(fā)明的例子能夠減小多芯片封裝的制造成本。本發(fā)明的例子并不限于上述的實(shí)施方式,在不脫離其主要內(nèi)容的范圍中,能夠變形各構(gòu)成要素并具體化。此外,通過(guò)在上述的實(shí)施方式中公開(kāi)的多個(gè)構(gòu)成要素的適宜的組合能夠構(gòu)成各種發(fā)明。例如,可以從在上述實(shí)施方式中公開(kāi)的全構(gòu)成要素中刪除幾個(gè)構(gòu)成要素,也可以適宜地組合不同的實(shí)施方式的構(gòu)成要素。
      權(quán)利要求
      1.一種半導(dǎo)體裝置,其特征在于,包括封裝襯底,在表面具有多個(gè)第一襯底焊盤(pán)、多個(gè)第二襯底焊盤(pán)、和連接上述第一襯底焊盤(pán)和上述第二襯底焊盤(pán)的襯底布線(xiàn);第一半導(dǎo)體芯片,層疊在上述封裝襯底的上述表面上,具有長(zhǎng)方形的形狀,具有沿上述長(zhǎng)方形的短邊設(shè)置的多個(gè)第一焊盤(pán);以及第二半導(dǎo)體芯片,層疊在上述第一半導(dǎo)體芯片上,具有長(zhǎng)方形的形狀,具有沿上述長(zhǎng)方形的短邊設(shè)置的多個(gè)第二焊盤(pán),以使由上述第二半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊和未設(shè)置上述多個(gè)第二焊盤(pán)的短邊形成的頂點(diǎn)與由上述第一半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊和未設(shè)置上述多個(gè)第一焊盤(pán)的短邊形成的頂點(diǎn)上下重合、且使上述第一半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊與上述第二半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊交叉的方式進(jìn)行重疊, 上述多個(gè)第一焊盤(pán)的排列與上述多個(gè)第二焊盤(pán)的排列是鏡面狀反轉(zhuǎn)的排列, 上述多個(gè)第一襯底焊盤(pán)與上述多個(gè)第一焊盤(pán)分別連接, 上述多個(gè)第二襯底焊盤(pán)與上述多個(gè)第二焊盤(pán)分別連接。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于, 還包括具有長(zhǎng)方形的上表面的第三半導(dǎo)體芯片,上述第三半導(dǎo)體芯片具有沿一個(gè)短邊設(shè)置的多個(gè)第三焊盤(pán), 上述第二半導(dǎo)體芯片配置在上述第一半導(dǎo)體芯片與上述第三半導(dǎo)體芯片之間, 上述第三半導(dǎo)體芯片以使由上述第三半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊和設(shè)置有上述多個(gè)第三焊盤(pán)的短邊形成的頂點(diǎn)與由上述第二半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊和未設(shè)置上述多個(gè)第二焊盤(pán)的短邊形成的頂點(diǎn)上下重合、且使上述第二半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊與上述第三半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊交叉的方式重疊在上述第二半導(dǎo)體芯片上,設(shè)置有上述第三焊盤(pán)的短邊位于與設(shè)置有上述第一焊盤(pán)的短邊的位置相反的方向。
      3.一種存儲(chǔ)卡,其特征在于具有權(quán)利要求1或2所述的半導(dǎo)體裝置。
      4.一種半導(dǎo)體裝置,其特征在于,包括封裝襯底,在表面具有多個(gè)第一襯底焊盤(pán)、多個(gè)第二襯底焊盤(pán)、和與上述第一襯底焊盤(pán)連接的第一襯底布線(xiàn),在背面具有與上述第二襯底焊盤(pán)連接的第二襯底布線(xiàn),在內(nèi)部具有連接上述第一襯底布線(xiàn)和上述第二襯底布線(xiàn)的多個(gè)連接器部;第一半導(dǎo)體芯片,層疊在上述封裝襯底的上述表面上,具有長(zhǎng)方形的形狀,具有沿上述長(zhǎng)方形的短邊設(shè)置的多個(gè)第一焊盤(pán);以及第二半導(dǎo)體芯片,層疊在上述第一半導(dǎo)體芯片上,具有長(zhǎng)方形的形狀,具有沿上述長(zhǎng)方形的短邊設(shè)置的多個(gè)第二焊盤(pán),以使由上述第二半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊和未設(shè)置上述多個(gè)第二焊盤(pán)的短邊形成的頂點(diǎn)與由上述第一半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊和未設(shè)置上述多個(gè)第一焊盤(pán)的短邊形成的頂點(diǎn)上下重合、且使上述第一半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊與上述第二半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊交叉的方式進(jìn)行重疊, 上述多個(gè)第一焊盤(pán)的排列與上述多個(gè)第二焊盤(pán)的排列相同, 上述多個(gè)第一襯底焊盤(pán)與上述多個(gè)第一焊盤(pán)分別連接, 上述多個(gè)第二襯底焊盤(pán)與上述多個(gè)第二焊盤(pán)分別連接。
      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體裝置,其特征在于,還包括具有長(zhǎng)方形的上表面的第三半導(dǎo)體芯片, 上述第三半導(dǎo)體芯片具有沿一個(gè)短邊設(shè)置的多個(gè)第三焊盤(pán), 上述第二半導(dǎo)體芯片配置在上述第一半導(dǎo)體芯片與上述第三半導(dǎo)體芯片之間, 上述第三半導(dǎo)體芯片以使由上述第三半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊和設(shè)置有上述多個(gè)第三焊盤(pán)的短邊形成的頂點(diǎn)與由上述第二半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊和未設(shè)置上述多個(gè)第二焊盤(pán)的短邊形成的頂點(diǎn)上下重合、且使上述第二半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊與上述第三半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊交叉的方式重疊在上述第二半導(dǎo)體芯片上,設(shè)置有上述第三焊盤(pán)的短邊位于與設(shè)置有上述第一焊盤(pán)的短邊的位置相反的方向。
      6. 一種存儲(chǔ)卡,其特征在于具有權(quán)利要求4或5所述的半導(dǎo)體裝置。
      全文摘要
      本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體裝置和具有該半導(dǎo)體裝置的存儲(chǔ)卡,該半導(dǎo)體裝置包括封裝襯底,在表面具有多個(gè)第一和第二襯底焊盤(pán)和連接第一和第二襯底焊盤(pán)的襯底布線(xiàn);長(zhǎng)方形的第一半導(dǎo)體芯片,層疊在封裝襯底的表面上,具有沿長(zhǎng)方形的短邊設(shè)置的多個(gè)第一焊盤(pán);以及長(zhǎng)方形的第二半導(dǎo)體芯片,層疊在第一半導(dǎo)體芯片上,具有沿長(zhǎng)方形的短邊設(shè)置的多個(gè)第二焊盤(pán),以使由第二半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊和未設(shè)置多個(gè)第二焊盤(pán)的短邊形成的頂點(diǎn)與由第一半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊和未設(shè)置多個(gè)第一焊盤(pán)的短邊形成的頂點(diǎn)上下重合、且使第一與第二半導(dǎo)體芯片的長(zhǎng)邊交叉地重疊,第一與第二焊盤(pán)是鏡面狀反轉(zhuǎn)的排列,第一襯底焊盤(pán)與第一焊盤(pán)、第二襯底焊盤(pán)與第二焊盤(pán)分別連接。
      文檔編號(hào)H01L25/065GK102214629SQ201110159650
      公開(kāi)日2011年10月12日 申請(qǐng)日期2007年12月27日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月27日
      發(fā)明者伊東干彥, 兒玉親亮 申請(qǐng)人:株式會(huì)社東芝
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