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      顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制作方法

      文檔序號:7007368閱讀:314來源:國知局
      顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制作方法
      【專利摘要】本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】,公開了一種顯示面板,包括:由封框膠封框的第一基板和第二基板,所述封框膠外側(cè)還形成有無機(jī)材料薄膜。本發(fā)明還公開了一種包括上述顯示面板的顯示裝置。本發(fā)明的顯示面板的封框膠外側(cè)形成有無機(jī)材料薄膜,無機(jī)材料薄膜相對于封框膠具有更好的隔水隔氧性,因此使得顯示面板側(cè)向具有更好的隔水隔氧性。
      【專利說明】顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】,特別涉及一種顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制作方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002]現(xiàn)有的顯示面板大多包括兩個(gè)基板:第一基板和第二基板,兩基板四周通過封框膠封框形成顯示面板。例如有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode,0LED)顯示面板,第一基板為OLED陣列基板,第二基板為保護(hù)用的玻璃基板,兩基板四周通過封框膠封框后將OLED陣列密封在兩基板間。封框膠除了將兩基板粘在一起外,另一個(gè)作用是使顯示面板側(cè)向具有隔水隔氧性。但由于封框膠這種材質(zhì)本身隔水隔氧性較差,要減小顯示面板側(cè)向的水、氧穿透率,提高顯示面板的壽命,就需要加大封框膠的寬度。如圖1所示,為現(xiàn)有的OLED顯示面板示意圖,包括:由若干0LED110形成像素陣列的OLED陣列基板120、玻璃基板130及四周的封框膠140??煽闯龇饪蚰z140的寬度W '較大,大約在2mm?3mm。
      [0003]雖然增大封框膠的寬度在一定程度上阻隔了水、氧的透過,但由于封框膠材料本身隔水隔氧性較差的缺陷,長時(shí)間使用后也會有水、氧透過,無法很好地隔水隔氧。同時(shí)也使得顯示面板的邊框?qū)挾仍黾樱瑹o法制作出時(shí)下流行的窄邊框顯示面板。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004](一)要解決的技術(shù)問題
      [0005]本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是:如何使顯示面板側(cè)向保持較好的隔水隔氧性。
      [0006](二)技術(shù)方案
      [0007]為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供了一種顯示面板,包括:由封框膠封框的第一基板和第二基板,所述封框膠外側(cè)還形成有無機(jī)材料薄膜。
      [0008]其中,所述無機(jī)材料薄膜為金屬氧化物薄膜、硅的氧化物薄膜和硅的氮化物薄膜
      中之一的單層薄膜。
      [0009]其中,所述無機(jī)材料薄膜為金屬氧化物薄膜、硅的氧化物薄膜和硅的氮化物薄膜中至少兩種的多層薄膜。
      [0010]其中,所述金屬氧化物薄膜為Al2O3薄膜。
      [0011]其中,所述封框膠的寬度不超過1mm。
      [0012]其中,所述無機(jī)材料薄膜的寬度為不超過ΙΟμπι。
      [0013]本發(fā)明還提供了一種顯示面板制作方法,包括制作第一基板、第二基板,并用封框膠將所述第一基板和第二基板封框的步驟,封框后還包括在所述封框膠的外側(cè)形成無機(jī)材料薄膜。
      [0014]其中,在所述封框膠的外側(cè)形成無機(jī)材料薄膜的步驟具體包括:通過原子層沉積法在所述封框膠的外側(cè)沉積無機(jī)材料薄膜。
      [0015]其中,在所述封框膠的外側(cè)形成無機(jī)材料薄膜的步驟具體包括:通過化學(xué)氣相沉積法在所述封框膠的外側(cè)沉積無機(jī)材料薄膜。
      [0016]其中,所述無機(jī)材料薄膜為金屬氧化物薄膜、硅的氧化物薄膜和硅的氮化物薄膜中之一的單層薄膜;或?yàn)榻饘傺趸锉∧ぁ⒐璧难趸锉∧ず凸璧牡锉∧ぶ兄辽賰煞N的多層薄膜。
      [0017]進(jìn)一步的,本發(fā)明還提供一種采用上述顯示面板的顯示裝置。
      [0018](三)有益效果
      [0019]本發(fā)明的顯示面板的封框膠外側(cè)形成有無機(jī)材料薄膜,無機(jī)材料薄膜相對于封框膠具有更好的隔水隔氧性,因此使得顯示面板側(cè)向具有更好的隔水隔氧性。
      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0020]圖1是現(xiàn)有技術(shù)的一種顯示面板結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0021]圖2是本發(fā)明實(shí)施例的一種顯示面板結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0022]圖3是本發(fā)明實(shí)施例的另一種顯示面板結(jié)構(gòu)示意圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0023]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例,對本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說明本發(fā)明,但不用來限制本發(fā)明的范圍。
      [0024]如圖2所示,本發(fā)明實(shí)施例的顯示面板,包括:由封框膠240封框的第一基板220和第二基板230。以O(shè)LED顯示面板為例(不限于OLED面板,也可以是液晶面板),第一基板220為OLED陣列基板,其上包括由0LED210形成的像素陣列,第二基板230為玻璃基板,兩基板四周通過封框膠240封框后將OLED陣列密封在兩基板間。為了使顯示面板側(cè)向保持較好的隔水隔氧性,本實(shí)施例中在所述封框膠240外側(cè)還形成有一層無機(jī)材料薄膜250。
      [0025]本實(shí)施例中,無機(jī)材料薄膜250為金屬氧化物薄膜、硅的氧化物薄膜或硅的氮化物薄膜。由于鋁(Al)具有易被氧化的化學(xué)特性,而且Al2O3具有極好的隔水隔氧性,優(yōu)選地,金屬氧化物薄膜為Al2O3薄膜。
      [0026]進(jìn)一步地,為了到達(dá)更好地隔水隔氧性,可以在封框膠240外側(cè)形成多層無機(jī)材料薄膜。如圖3所示,封框膠240外側(cè)形成有兩層無機(jī)材料薄膜:第一無機(jī)材料薄膜260及在其外側(cè)形成的第二無機(jī)材料薄膜270,第一無機(jī)材料薄膜260和第二無機(jī)材料薄膜270可分別由金屬氧化物薄膜、硅的氧化物薄膜或硅的氮化物薄膜中不同的材料形成。
      [0027]本實(shí)施例的顯示面板的封框膠外側(cè)形成有無機(jī)材料薄膜,無機(jī)材料薄膜本身具有更好的隔水隔氧性,因此使得顯示面板側(cè)向具有更好的隔水隔氧性。
      [0028]由于無機(jī)材料薄膜相對于封框膠在相同厚度下隔水隔氧性遠(yuǎn)好于封框膠,因此,封框膠的寬度可以大大減小,在保證框膠寬度能讓上下板玻璃能達(dá)到足夠黏合強(qiáng)度的條件下,寬度優(yōu)選可以不超過1_。無機(jī)材料薄膜的厚度可以薄至IOym以下。因此,本發(fā)明的封框膠的寬度與無機(jī)材料薄膜的寬度之和也遠(yuǎn)小于現(xiàn)有封框膠的寬度,從而在保持較好的隔水隔氧性的情況下,減小顯示面板的邊框?qū)挾?,?shí)現(xiàn)窄邊框顯示面板。
      [0029]如圖2所示,其封框膠240的寬度與無機(jī)材料薄膜250的寬度之和Wl也遠(yuǎn)小于現(xiàn)有封框膠的寬度,如圖3所示,其封框膠240的寬度、第一無機(jī)材料薄膜260與第二無機(jī)材料薄膜270的寬度之和W2也遠(yuǎn)小于現(xiàn)有封框膠的寬度。[0030]本發(fā)明還提供了一種顯示面板制作方法,包括制作第一基板、第二基板,并用封框膠將所述第一基板和第二基板封框的步驟,封框后還包括在所述封框膠的外側(cè)形成無機(jī)材料薄膜。無機(jī)材料薄膜為金屬氧化物薄膜、硅的氧化物薄膜和硅的氮化物薄膜中之一的單層薄膜;或?yàn)榻饘傺趸锉∧?、硅的氧化物薄膜和硅的氮化物薄膜中至少兩種的多層薄膜。
      [0031]本實(shí)施例中,在封框膠的外側(cè)形成無機(jī)材料薄膜的步驟可以采用原子層沉積法(ALD)在封框膠的外側(cè)沉積無機(jī)材料薄膜。由于Al2O3能夠方便地采用ALD制成,因此以形成Al2O3薄膜為例,首先將封框膠封裝好的顯示面板置入ALD腔室中,分別通入三甲基鋁(tr1-methyl aluminum, TMA),水等反應(yīng)物進(jìn)行ALD成膜工藝,逐層進(jìn)行原子層堆積成Al2O3薄膜。如果為多層薄膜,可以在沉積完Al2O3薄膜之后,再通入其它反應(yīng)氣體,例如:沉積ZrO2 (通入ZrCl4和水)。
      [0032]本實(shí)施例中,在封框膠的外側(cè)形成無機(jī)材料薄膜的步驟還可以采用化學(xué)氣相沉積法(CVD)在封框膠的外側(cè)沉積無機(jī)材料薄膜。以形成SiNx薄膜為例,首先將封框膠封裝好的顯示面板置入CVD腔室中分別通入SiH4, NH3等反應(yīng)物進(jìn)行CVD成膜工藝,以形成SiNx薄膜。如果為多層薄膜,可以在沉積完SiNx之后,再通入其它反應(yīng)氣體,例如沉積SiONx(通入SiHjPN2OX
      [0033]由于是在封框膠的外側(cè)(封框膠通常位于顯示面板側(cè)面的間隙中)成膜,ALD在側(cè)向成膜相對與CVD適用于深入間隙的情況,本實(shí)施例優(yōu)選采用ALD方式形成無機(jī)材料薄膜。
      [0034]本發(fā)明還提供一種采用上述顯示面板的顯示裝置,該顯示裝置可以為:液晶面板、電子紙、OLED面板、手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。
      [0035]以上實(shí)施方式僅用于說明本發(fā)明,而并非對本發(fā)明的限制,有關(guān)【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下,還可以做出各種變化和變型,因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本發(fā)明的范疇,本發(fā)明的專利保護(hù)范圍應(yīng)由權(quán)利要求限定。
      【權(quán)利要求】
      1.一種顯不面板,包括:由封框膠封框的第一基板和第二基板,其特征在于,所述封框膠外側(cè)還形成有無機(jī)材料薄膜。
      2.如權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述無機(jī)材料薄膜為金屬氧化物薄膜、硅的氧化物薄膜和硅的氮化物薄膜中之一的單層薄膜。
      3.如權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述無機(jī)材料薄膜為金屬氧化物薄膜、硅的氧化物薄膜和硅的氮化物薄膜中至少兩種的多層薄膜。
      4.如權(quán)利要求2或3所述的顯示面板,其特征在于,所述金屬氧化物薄膜為Al2O3薄膜。
      5.如權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述封框膠的寬度不超過1mm。
      6.如權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述無機(jī)材料薄膜的寬度為不超過10 μ m0
      7.—種顯示面板制作方法,包括制作第一基板、第二基板,并用封框膠將所述第一基板和第二基板封框的步驟,其特征在于,封框后還包括在所述封框膠的外側(cè)形成無機(jī)材料薄膜。
      8.如權(quán)利要求7所述的顯示面板,其特征在于,在所述封框膠的外側(cè)形成無機(jī)材料薄膜的步驟具體包括:通過原子層沉積法在所述封框膠的外側(cè)沉積無機(jī)材料薄膜。
      9.如權(quán)利要求7所述的顯示面板,其特征在于,在所述封框膠的外側(cè)形成無機(jī)材料薄膜的步驟具體包括:通過化學(xué)氣相沉積法在所述封框膠的外側(cè)沉積無機(jī)材料薄膜。
      10.如權(quán)利要求7所述的顯示面板,其特征在于,所述無機(jī)材料薄膜為金屬氧化物薄膜、硅的氧化物薄膜和硅的氮化物薄膜中之一的單層薄膜;或?yàn)榻饘傺趸锉∧?、硅的氧化物薄膜和硅的氮化物薄膜中至少兩種的多層薄膜。
      11.一種顯示裝置,其特征在于,包括權(quán)利要求1?6中任一項(xiàng)所述的顯示面板。
      【文檔編號】H01L51/50GK103500800SQ201310452579
      【公開日】2014年1月8日 申請日期:2013年9月27日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月27日
      【發(fā)明者】張家豪 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司
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