Coa基板、顯示裝置及該coa基板的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種COA基板、顯示裝置及該COA基板的制造方法，所述COA基板包括：一襯底基板；薄膜晶體管陣列，設(shè)置于所述襯底基板上；一保護(hù)層，覆蓋于所述薄膜晶體管陣列上；彩色濾光片，包括彩色像素和白色像素，所述白色像素由光刻膠材料制成。本發(fā)明的COA基板在保護(hù)層之上涂覆光刻膠，保留白色像素區(qū)域內(nèi)的光刻膠，使得白色像素由光刻膠材料形成，去除彩色像素區(qū)的光刻膠，對彩色像素區(qū)采用噴墨法形成彩色層，使得噴涂形成的彩色像素區(qū)和白色像素區(qū)之間具有較小的段差，無需采用白色樹脂材料，從而節(jié)約了成本。
【專利說明】COA基板、顯示裝置及該COA基板的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，具體是涉及一種COA基板、顯示裝置及該COA基板的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]COA (Color Filter on Array)技術(shù)是將彩色層制備在陣列基板上的技術(shù)，以形成彩色濾光片。COA基板的基本結(jié)構(gòu)如圖1所示，在基板I上依次形成薄膜晶體管TFT、彩色層4和像素電極5，TFT的漏極2與彩色層4之間具有保護(hù)層3，且漏極2上方設(shè)置有貫穿彩色層4的過孔，像素電極5與漏極2之間由過孔連接。因為COA結(jié)構(gòu)的顯示面板不存在彩膜基板與陣列基板的對位問題，所以可以降低顯示面板制備過程中對盒制程的難度，避免了對盒時的誤差，因此黑色矩陣可以設(shè)計為窄線寬，提高了開口率。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)是采用光刻法來制備COA基板，一種做法是在RGB彩色層完成后在其上涂覆平坦保護(hù)層，加大保護(hù)層的厚度，同時替代在白色像素區(qū)的樹脂層，但是白色像素區(qū)和彩色像素區(qū)之間有較大的段差；另一種做法是在白色像素區(qū)直接進(jìn)行白色樹脂的曝光顯影工藝，但是浪費較多的材料，且增加一道工序，從而增加了成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了解決現(xiàn)有的COA基板的白色像素和彩色像素之間有較大的段差，本發(fā)明提供了一種COA基板、顯示裝置及該COA基板的制造方法。
[0005]本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種COA基板，包括:
[0006]—襯底基板；
[0007]薄膜晶體管陣列，設(shè)置于所述襯底基板上；
[0008]一保護(hù)層，覆蓋于所述薄膜晶體管陣列上；
[0009]彩色濾光片，包括彩色像素和白色像素，所述白色像素由光刻膠材料制成。
[0010]本發(fā)明還提供了一種顯示裝置，包括所述的COA基板。
[0011]本發(fā)明還提供了一種COA基板的制造方法，包括:
[0012]提供一襯底基板；
[0013]設(shè)置薄膜晶體管陣列于所述襯底基板上；
[0014]形成一保護(hù)層覆蓋于所述薄膜晶體管陣列上；
[0015]涂覆光刻膠于所述保護(hù)層上；
[0016]保留白色像素區(qū)域內(nèi)的光刻膠，去除彩色像素區(qū)域內(nèi)的光刻膠；
[0017]對彩色像素區(qū)采用噴墨法形成彩色層。
[0018]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明的COA基板在保護(hù)層之上涂覆光刻膠，保留白色像素區(qū)域內(nèi)的光刻膠，使得白色像素由光刻膠材料形成，去除彩色像素區(qū)的光刻膠，對彩色像素區(qū)采用噴墨法形成彩色層，使得噴涂形成的彩色像素區(qū)和白色像素區(qū)之間具有較小的段差，無需采用白色樹脂材料，從而節(jié)約了成本?！緦＠綀D】

【附圖說明】
[0019]圖1是現(xiàn)有一種COA基板的結(jié)構(gòu)不意圖；
[0020]圖2是本發(fā)明一種實施例的COA基板的制造方法的流程圖；
[0021]圖3 Ca)是本發(fā)明第一種實施例COA基板的第一狀態(tài)示意圖；
[0022]圖3 (b)是本發(fā)明第一種實施例COA基板的第二狀態(tài)示意圖；
[0023]圖3 (C)是本發(fā)明第一種實施例COA基板的第三狀態(tài)示意圖；
[0024]圖3 (d)是本發(fā)明第一種實施例COA基板的第四狀態(tài)示意圖；
[0025]圖4 Ca)是本發(fā)明第二種實施例COA基板的第一狀態(tài)示意圖；
[0026]圖4 (b)是本發(fā)明第二種實施例COA基板的第二狀態(tài)示意圖。
【具體實施方式】
[0027]為使本發(fā)明要解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合附圖及具體實施例進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0028]如圖2所示，為本發(fā)明一種實施例的COA基板的制造方法的流程圖，包括如下步驟:
[0029]步驟SlOl:提供一襯底基板；
[0030]步驟S102:設(shè)置薄膜晶體管陣列于所述襯底基板上；
[0031]步驟S103:形成一保護(hù)層覆蓋于所述薄膜晶體管陣列上；
[0032]步驟S104:涂覆光刻膠于所述保護(hù)層上；
[0033]步驟S105:保留白色像素區(qū)域內(nèi)的光刻膠，去除彩色像素區(qū)域內(nèi)的光刻膠；
[0034]步驟S106:對彩色像素區(qū)采用噴墨法形成彩色層。
[0035]本發(fā)明的COA基板在保護(hù)層之上涂覆光刻膠，保留白色像素區(qū)域內(nèi)的光刻膠，使得白色像素由光刻膠材料形成，去除彩色像素區(qū)的光刻膠，對彩色像素區(qū)采用噴墨法形成彩色層，使得噴涂形成的彩色像素區(qū)和白色像素區(qū)之間具有較小的段差，無需采用白色樹脂材料，從而節(jié)約了成本。
[0036]本發(fā)明的襯底基板可以是玻璃基板、金屬基板、石英基板或者有機(jī)基板中的一種。在襯底基板上設(shè)置多個薄膜晶體管TFT，形成一保護(hù)層覆蓋于所述薄膜晶體管陣列上。在形成保護(hù)層之后，涂覆光刻膠于所述保護(hù)層上，光刻膠優(yōu)選地為無色、透過率高的光刻膠。光刻膠的厚度可以根據(jù)需要來設(shè)定，例如1.5-5um。
[0037]對所述保護(hù)層上過孔區(qū)和彩色像素區(qū)的光刻膠進(jìn)行全曝光處理，以形成光刻膠不保留區(qū)。曝光后進(jìn)行顯影、后烘，以去掉該區(qū)域的光刻膠。對白色像素區(qū)的光刻膠進(jìn)行曝光或者部分曝光處理，使得白色像素由光刻膠材料形成。
[0038]彩色層可以采用噴墨法進(jìn)行RGB層的制作，依次將三種顏色打印在彩色像素區(qū)內(nèi)，進(jìn)行固化，形成彩色層。利用光刻膠形成的擋墻在彩色像素區(qū)進(jìn)行噴墨，使得噴涂形成的彩色像素區(qū)和白色像素區(qū)之間具有較小的段差，無需采用白色樹脂材料，從而節(jié)約了成本。
[0039]在形成COA基板之后，還包括制作陽極，像素限定層(TOL)和發(fā)光層(EL)，陰極等步驟。[0040]以下結(jié)合實施例對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)說明:
[0041]實施例一
[0042]如圖3 (a)所示，是本實施例制造COA基板的第一狀態(tài)示意圖，該狀態(tài)的結(jié)構(gòu)包括襯底基板200、薄膜晶體管陣列210和保護(hù)層220，該狀態(tài)結(jié)構(gòu)的制作過程如下:
[0043]在襯底基板200上設(shè)置薄膜晶體管陣列210 ；
[0044]形成保護(hù)層220于薄膜晶體管陣列210上；
[0045]在保護(hù)層220上涂覆光刻膠。
[0046]涂覆光刻膠之后，如圖3 Ca)所示，對涂覆有光刻膠的基板進(jìn)行曝光，形成光刻膠完全保留區(qū)域、光刻膠部分保留區(qū)域和光刻膠不保留區(qū)域，光刻膠部分保留區(qū)域?qū)?yīng)后續(xù)形成的彩色像素區(qū)230，光刻膠不保留區(qū)域?qū)?yīng)后續(xù)形成過孔250的區(qū)域，采用刻蝕工藝對后續(xù)形成過孔區(qū)域的保護(hù)層進(jìn)行刻蝕，形成過孔250，所述過孔250用于使后續(xù)形成的OLED陽極與TFT的漏極連接，以控制發(fā)光層的發(fā)光；光刻膠完全保留區(qū)域?qū)?yīng)白色像素區(qū)240和彩色像素區(qū)230周圍的光刻膠擋墻260，光刻膠擋墻260用于防止在采用噴墨打印方式形成彩色像素區(qū)時相鄰彩色像素的混色。
[0047]如圖3 (b)，是本實施例制造COA基板在第二狀態(tài)的示意圖，該狀態(tài)的結(jié)構(gòu)是基于第一狀態(tài)的結(jié)構(gòu)進(jìn)行的彩色像素的制作后的結(jié)構(gòu)。其中彩色像素是利用噴墨法在彩色像素區(qū)制作，將紅、綠、藍(lán)三色墨水打印在彩色像素區(qū)，形成彩色層。由于彩色像素區(qū)和白色像素區(qū)的段差較小，兩者之間更加平坦化。
[0048]本實施例的噴墨之后的彩色像素區(qū)的厚度與光刻膠的厚度差處于預(yù)定的閾值范圍內(nèi)。此時，彩色像素區(qū)的厚度和光刻膠厚度相等或者近似相等，這樣就不需要再涂覆平坦保護(hù)層了，從而減少了涂覆平坦層的工藝步驟。
[0049]優(yōu)選地，所述預(yù)定的閾值范圍為-0.5 μ m?0.5 μ m。
[0050]更優(yōu)地，彩色像素區(qū)的厚度和周圍光刻膠厚度相等。
[0051]此時，完成COA基板的制作，還包括制作陽極270、像素限定層(PDL) 280、發(fā)光層(EL) 290和像素陰極等操作。制作陽極270之后的結(jié)構(gòu)如圖3 (c)所示，制作像素界定層280和發(fā)光層290之后的結(jié)構(gòu)如圖3 (d)所示。
[0052]實施例二
[0053]如圖4 (a)所示，是本實施例制造COA基板的第一狀態(tài)示意圖，該狀態(tài)的結(jié)構(gòu)包括襯底基板200、薄膜晶體管陣列210、保護(hù)層220，該狀態(tài)結(jié)構(gòu)的制作過程如下:
[0054]在襯底基板200上設(shè)置薄膜晶體管陣列210 ；
[0055]形成保護(hù)層220于薄膜晶體管陣列210上；
[0056]在保護(hù)層220上涂覆光刻膠；
[0057]涂覆光刻膠之后，經(jīng)過半曝光和顯影形成光刻膠不保留區(qū)域和光刻膠部分保留區(qū)域，光刻膠不保留區(qū)域?qū)?yīng)彩色像素區(qū)230和過孔250，光刻膠部分保留區(qū)域?qū)?yīng)白色像素區(qū)。形成白色像素的光刻膠的厚度優(yōu)選為2?3um，和彩色像素厚度相近即可。之后，采用噴墨法在彩色像素區(qū)230內(nèi)形成彩色層，完成彩色濾光片的制作。由于彩色層和白色像素區(qū)光刻膠的段差較小，兩者之間更加平坦化。
[0058]為了進(jìn)一步提高平坦效果，在白色像素區(qū)和彩色層之上設(shè)置平坦層300，以利于表面平坦。形成平坦層后，在其上形成過孔250，如圖4 (b)。[0059]COA工藝完成之后，進(jìn)行制作陽極、像素限定層(PDL)、發(fā)光層(EL)和陰極等操作。
[0060]本發(fā)明還提供了一種COA基板，如圖3 (b)所示，為本發(fā)明一種實施例的COA基板的結(jié)構(gòu)示意圖，包括:
[0061]一襯底基板200;
[0062]薄膜晶體管陣列210，設(shè)置于所述襯底基板200上；
[0063]一保護(hù)層220，覆蓋于所述薄膜晶體管陣列210上；
[0064]彩色濾光片，包括彩色像素230和白色像素240，所述白色像素由光刻膠材料制成，所述彩色像素由噴墨形成，并在其周圍形成有光刻膠擋墻260 ；
[0065]過孔250，設(shè)置在過孔對應(yīng)區(qū)。
[0066]本實施例的噴墨之后的彩色像素的厚度與光刻膠的厚度差處于預(yù)定的閾值范圍內(nèi)。此時，彩色像素的厚度和光刻膠厚度相等或者近似相等，這樣就不需要再涂覆平坦保護(hù)層了，從而減少了涂覆平坦層的工藝步驟。優(yōu)選地，所述預(yù)定的閾值范圍為-0.5μπι?
0.5 μ m。更優(yōu)地，彩色像素的厚度和周圍光刻I父厚度相等。
[0067]由于彩色層和白色像素光刻膠的段差較小，兩者之間更加平坦化。
[0068]如圖4 (b)所示，為本發(fā)明第二種實施例的COA基板的結(jié)構(gòu)示意圖，包括:
[0069]一襯底基板200;
[0070]薄膜晶體管陣列210，設(shè)置于所述襯底基板200上；
[0071]一保護(hù)層220，覆蓋于所述薄膜晶體管陣列210上；
[0072]彩色濾光片，包括彩色像素230和白色像素240，所述白色像素由光刻膠材料制成，所述彩色像素由噴墨形成彩色層，并在其周圍形成有光刻膠擋墻260 ；
[0073]過孔250，設(shè)置在過孔對應(yīng)區(qū)。
[0074]平坦層300，設(shè)置在彩色濾光片之上。
[0075]由于彩色層和白色像素區(qū)光刻膠的段差較小，兩者之間更加平坦化。涂覆平坦保護(hù)層之后可以更好的進(jìn)行平坦，避免了因為彩色像素區(qū)和白色像素區(qū)域段差過大的缺點。
[0076]本發(fā)明的COA基板的白色像素區(qū)由光刻膠材料制成，并且將光刻膠形成在彩色像素區(qū)周圍，彩色像素區(qū)利用光刻膠形成的光刻膠擋墻在彩色像素區(qū)進(jìn)行噴墨形成，使得噴涂形成的彩色像素區(qū)和白色像素區(qū)之間具有較小的段差，無需采用白色樹脂材料，從而節(jié)約了成本。
[0077]本發(fā)明還提供了一種顯示裝置，其特征在于，包括所述的COA基板。
[0078]上述技術(shù)方案在保護(hù)層之上涂覆光刻膠，保留白色像素區(qū)的光刻膠，使得白色像素由光刻膠材料形成，對彩色像素區(qū)的光刻膠進(jìn)行全曝光處理，利用光刻膠形成的光刻膠擋墻在彩色像素區(qū)進(jìn)行噴墨，使得噴涂形成的彩色像素區(qū)和白色像素區(qū)之間具有較小的段差，無需單獨采用白色樹脂材料，從而節(jié)約了成本。
[0079]以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明所述原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種COA基板，其特征在于，包括: 一襯底基板； 薄膜晶體管陣列，設(shè)置于所述襯底基板上； 一保護(hù)層，覆蓋于所述薄膜晶體管陣列上； 彩色濾光片，包括彩色像素和白色像素，所述白色像素由光刻膠材料制成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的COA基板，其特征在于，所述彩色像素的厚度與周圍光刻膠的厚度的差處于預(yù)定的閾值范圍內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利2所述的COA基板，其特征在于，所述預(yù)定的閾值范圍為-0.5 μ m?0.5 μ m0
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的COA基板，其特征在于，在彩色濾光片之上還設(shè)置有平坦層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任何一項所述的COA基板，其特征在于，還包括陽極和陰極。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的COA基板，其特征在于，還包括像素限定層。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的COA基板，其特征在于，還包括設(shè)置于陽極和陰極之間的發(fā)光層。
8.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-7任一項所述的COA基板。
9.一種COA基板的制造方法，其特征在于，包括: 提供一襯底基板； 設(shè)置薄膜晶體管陣列于所述襯底基板上； 形成一保護(hù)層覆蓋于所述薄膜晶體管陣列上； 涂覆光刻膠于所述保護(hù)層上； 保留白色像素區(qū)域內(nèi)的光刻膠，去除彩色像素區(qū)域內(nèi)的光刻膠； 對彩色像素區(qū)采用噴墨法形成彩色層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的COA基板的制造方法，其特征在于，所述彩色層的厚度與光刻膠的厚度的差處于預(yù)定的閾值范圍內(nèi)，所述閾值范圍為-ο.5μηι?0.5μηι。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或者10所述的COA基板的制造方法，其特征在于，還包括:在覆蓋有光刻膠的白色像素和彩色層之上形成平坦層，并在平坦層對應(yīng)的過孔區(qū)形成過孔。
【文檔編號】H01L27/32GK103489893SQ201310454684
【公開日】2014年1月1日 申請日期:2013年9月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月29日
【發(fā)明者】齊永蓮, 舒適, 惠官寶 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司