一種測量滅弧室真空度的真空對比裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明屬于電網(wǎng)檢測領域，為了解決磁控放電法測量滅弧室真空度時需要施加磁場線圈帶來的不便的問題，公開了一種測量滅弧室真空度的真空對比裝置，包括真空滅弧室、真空池、機械泵、分子泵、進氣調節(jié)閥、N2氣瓶和副標真空計，所述真空滅弧室內設置屏蔽罩，所述真空滅弧室通過絕緣管與真空池連接，所述真空池上端通過進氣閥與N2氣瓶連接，下端依次與分子泵及機械泵連接。本發(fā)明無需施加磁場，通過停電測量可以測量滅弧室內的真空度，操作簡單、靈敏度高。
【專利說明】一種測量滅弧室真空度的真空對比裝置
【技術領域】
[0001]本發(fā)明屬于電網(wǎng)檢測領域，涉及真空滅弧室真空度檢測，特別涉及一種測量滅弧
室真空度的真空對比裝置。
【背景技術】
[0002]真空滅弧室真空度的測試方法主要有工頻耐壓法及磁控放電法。工頻耐壓法只能測出嚴重漏氣的滅弧室，而對于處于半真空狀態(tài)的滅弧室(0.Ι-lPa)，雖然擊穿電壓沒有降低，但是真空管已不能開斷額定的短路電流。目前，定量測量真空開關滅弧室真空度較好的方法是在滅弧室外圍加上磁場線圈的磁控放電法，但是這種測試方法存在2個方面的缺點:(1)需要使用磁場線圈，由于真空開關的型號多種多樣，有些真空開關真空滅弧室的外圍無障礙空間很小，磁場線圈難以靠近，特別是對于新型的滅弧室絕緣封閉型真空開關，磁場線圈無法靠近，磁控放電法無法應用。(2)磁控放電法測量真空度的原理是利用正交的電場與磁場，增加電子的行程與殘留氣體分子的碰撞幾率，導致氣體電離放電，測量放電的離子電流獲得真空度，放電電流的分散性較大，而且放點后有抽氣或放氣作用，使密閉容器的真空度發(fā)生變化，故短期內不能重復測量。
[0003]鑒于以上原因，有必要探尋一種無需施加磁場、高靈敏度的真空開關真空度測量方法及測量裝置。

【發(fā)明內容】

[0004]本發(fā)明的目的是解決上述實際問題，提供一種真空對比裝置，通過改變真空對比裝置的真空壓強來改變滅弧室內的壓強，從而獲得真空滅弧室內10°_10_5Pa的真空度。
[0005]本發(fā)明解決上述技術問題所采用的技術方案如下:一種測量滅弧室真空度的真空對比裝置，包括真空滅弧室、真空池、機械泵、分子泵、進氣調節(jié)閥、N2氣瓶和副標真空計，所述真空滅弧室內設置屏蔽罩，所述真空滅弧室通過絕緣管與真空池連接，所述真空池上端通過進氣閥與N2氣瓶連接，下端依次與分子泵及機械泵連接；所述真空池側面分別連接復合真空計和副標真空計。
[0006]工作原理:由機械泵、分子泵依次連續(xù)對真空池抽真空，其極限真空度可達到10_5Pa。使用N2氣瓶通過進氣調節(jié)閥對真空池放氣來降低真空度，當進氣量與抽氣量相平衡時，真空池的壓強就停留在某一穩(wěn)定值Ptl上，因為滅弧室通過絕緣管與真空池相連，可以認為滅弧室的壓強也是該穩(wěn)定值匕。
[0007]有益效果:本發(fā)明無需施加磁場，通過停電測量可以測量滅弧室內的真空度，操作簡單、靈敏度高。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1為本發(fā)明結構示意圖
[0009]其中，1-真空滅弧室2-屏蔽罩3-真空絕緣管4-進氣調節(jié)閥5-N2氣瓶6_真空池7-復合真空計8-副標真空計9-機械泵10-分子泵【具體實施方式】
[0010]下面結合附圖對本發(fā)明進一步說明。
[0011]如圖1所示，一種測量滅弧室真空度的真空對比裝置，包括真空滅弧室1、真空池
6、機械泵9、分子泵10、進氣調節(jié)閥4、N2氣瓶5和副標真空計8，所述真空滅弧室I內設置屏蔽罩2，所述真空滅弧室I通過真空絕緣管3與真空池6連接，所述真空池6上端通過進氣調節(jié)閥4與N2氣瓶5連接，下端依次與機械泵9及分子泵10連接；所述真空池6側面分別連接復合真空計7和副標真空計8。
【權利要求】
1.一種測量滅弧室真空度的真空對比裝置，其特征在于，包括真空滅弧室、真空池、機械泵、分子泵、進氣調節(jié)閥、N2氣瓶和副標真空計，所述真空滅弧室內設置屏蔽罩，所述真空滅弧室通過絕緣管與真空池連接，所述真空池上端通過進氣閥與N2氣瓶連接，下端依次與分子泵及機械泵連接；所述真空池側面分別連接復合真空計和副標真空計。
【文檔編號】H01H33/668GK103578846SQ201310552680
【公開日】2014年2月12日 申請日期:2013年11月9日 優(yōu)先權日:2013年11月9日
【發(fā)明者】雍少銀 申請人:寧夏天地經(jīng)緯電力設備工程有限公司