去溢料設(shè)備的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種去溢料設(shè)備，包括底座、一對(duì)支撐架、一對(duì)傳輸帶、多個(gè)驅(qū)動(dòng)輪、引線框架、溢料軟化組件、一對(duì)刮刀、多個(gè)固定座及多個(gè)高壓噴水管；支撐架設(shè)在底座兩側(cè)，傳輸帶設(shè)在支撐架內(nèi)側(cè)，驅(qū)動(dòng)輪設(shè)在傳輸帶兩端，傳輸帶通過(guò)驅(qū)動(dòng)輪在支撐架內(nèi)水平移動(dòng)，引線框架兩側(cè)卡在傳輸帶上，引線框架與傳輸帶同步移動(dòng)；溢料軟化組件設(shè)在支撐架前端，溢料軟化組件包括軟化液箱、導(dǎo)流管、毛刷及軟化液槽；刮刀通過(guò)多個(gè)固定座設(shè)在支撐架中部，刮刀的刀尖與引線框架接觸；高壓噴水管通過(guò)固定座設(shè)置在支撐架的后部。本實(shí)用新型能將溢料軟化后刮去，利用高壓水噴射進(jìn)行二次清潔，能保證將溢料去除干凈，使引線框架上保持平整，不影響接觸靈敏度和美觀度。
【專(zhuān)利說(shuō)明】去溢料設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種半導(dǎo)體封裝設(shè)備，尤其涉及一種去溢料設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]半導(dǎo)體在封裝的過(guò)程中，引腳上會(huì)殘留膠狀物質(zhì)，需要手工清除，否則會(huì)影響元器件的接觸靈敏度。手工清除通常采用刮刀等金屬物，但是手工清除的力度掌握不好便會(huì)損壞元器件，提高產(chǎn)品成本，且工作效率低；機(jī)械清除的設(shè)備價(jià)格較貴，刮一次不一定能刮干凈，來(lái)回刮幾次可能也會(huì)影響元器件的正常使用。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型的目的:提供一種去溢料設(shè)備，能將元器件上的溢料刮出干凈，無(wú)需人工作業(yè)，提供工作效率。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:
[0005]一種去溢料設(shè)備，包括底座、一對(duì)支撐架、一對(duì)傳輸帶、多個(gè)驅(qū)動(dòng)輪、引線框架、溢料軟化組件、一對(duì)刮刀、多個(gè)固定座及多個(gè)高壓噴水管；所述的一對(duì)支撐架分別設(shè)置在所述的底座的兩側(cè)，所述的一對(duì)傳輸帶分別設(shè)置在所述的一對(duì)支撐架的內(nèi)側(cè)，所述的多個(gè)驅(qū)動(dòng)輪分別設(shè)置在所述的一對(duì)傳輸帶的兩端，所述的傳輸帶通過(guò)所述的驅(qū)動(dòng)輪在所述的支撐架內(nèi)水平移動(dòng)，所述的引線框架的兩側(cè)分別卡在所述的一對(duì)傳輸帶上，所述的引線框架與所述的傳輸帶同步移動(dòng)；所述的溢料軟化組件設(shè)置在所述的支撐架的前端，所述的溢料軟化組件包括軟化液箱、導(dǎo)流管、毛刷及軟化液槽，所述的導(dǎo)流管的兩端分別連接所述的軟化液箱及毛刷，所述的軟化液箱內(nèi)灌裝軟化液，所述的毛刷的底部與所述的引線框架上表面接觸，所述的軟化液槽位于所述的引線框架的下方，所述的軟化液槽內(nèi)設(shè)軟化液，所述的引線框架的下表面與所述的軟化液槽接觸；所述的一對(duì)刮刀分別通過(guò)所述的多個(gè)固定座設(shè)置在所述的支撐架的中部，位于所述的引線框架的正上方及正下方，所述的刮刀的刀尖與所述的引線框架接觸；所述的多個(gè)高壓噴水管分別通過(guò)所述的多個(gè)固定座設(shè)置在所述的支撐架的后部，位于所述的引線框架的正上方及正下方。
[0006]上述的去溢料設(shè)備，其中，所述的多個(gè)高壓噴水管上下交錯(cuò)設(shè)置，所述的高壓噴水管外接高壓供水系統(tǒng)。
[0007]上述的去溢料設(shè)備，其中，所述的刮刀的寬度與所述的引線框架的寬度相當(dāng)。
[0008]上述的去溢料設(shè)備，其中，所述的底座上沿底座的長(zhǎng)度方向設(shè)有排水槽，所述的排水槽位于所述的引線框架的下方。
[0009]本實(shí)用新型能將溢料軟化后刮去，再利用高壓水噴射進(jìn)行二次清潔，不僅能保證將溢料去除干凈，還能使引線框架上保持平整，不影響元器件的接觸靈敏度和美觀度。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0010]圖1是本實(shí)用新型去溢料設(shè)備的主視圖。[0011]圖2是本實(shí)用新型去溢料設(shè)備的底座及支撐架的俯視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0012]以下結(jié)合附圖進(jìn)一步說(shuō)明本實(shí)用新型的實(shí)施例。
[0013]請(qǐng)參見(jiàn)附圖1及附圖2所示，一種去溢料設(shè)備，包括底座1、一對(duì)支撐架2、一對(duì)傳輸帶3、多個(gè)驅(qū)動(dòng)輪4、引線框架5、溢料軟化組件、一對(duì)刮刀6、多個(gè)固定座7及多個(gè)高壓噴水管8 ;所述的一對(duì)支撐架2分別設(shè)置在所述的底座I的兩側(cè)，所述的一對(duì)傳輸帶3分別設(shè)置在所述的一對(duì)支撐架2的內(nèi)側(cè)，所述的多個(gè)驅(qū)動(dòng)輪4分別設(shè)置在所述的一對(duì)傳輸帶3的兩端，所述的傳輸帶3通過(guò)所述的驅(qū)動(dòng)輪4在所述的支撐架2內(nèi)水平移動(dòng)，所述的引線框架5的兩側(cè)分別卡在所述的一對(duì)傳輸帶3上，所述的引線框架5與所述的傳輸帶3同步移動(dòng)；所述的溢料軟化組件設(shè)置在所述的支撐架2的前端，所述的溢料軟化組件包括軟化液箱9、導(dǎo)流管10、毛刷11及軟化液槽12，所述的導(dǎo)流管10的兩端分別連接所述的軟化液箱9及毛刷11，所述的軟化液箱9內(nèi)灌裝軟化液，可軟化溢料，軟化液通過(guò)導(dǎo)流管10流到毛刷11上，所述的毛刷11的底部與所述的引線框架5上表面接觸，將軟化液涂覆在引線框架5上表面的溢料上,所述的軟化液槽12位于所述的引線框架5的下方，所述的軟化液槽12內(nèi)設(shè)軟化液，所述的引線框架5的下表面與所述的軟化液槽12接觸，可將軟化液涂覆在引線框架5下表面的溢料上；所述的一對(duì)刮刀6分別通過(guò)所述的多個(gè)固定座7設(shè)置在所述的支撐架2的中部，位于所述的引線框架5的正上方及正下方，所述的刮刀6的刀尖與所述的引線框架5接觸，用于刮去軟化后的溢料；所述的多個(gè)高壓噴水管8分別通過(guò)所述的多個(gè)固定座7設(shè)置在所述的支撐架2的后部，位于所述的引線框架5的正上方及正下方，可沖刷引線框架5，將未刮干凈的溢料沖刷掉，使引線框架5表面平滑。
[0014]所述的多個(gè)高壓噴水管8上下交錯(cuò)設(shè)置，所述的高壓噴水管8外接高壓供水系統(tǒng)，可防止水流對(duì)沖、噴濺。
[0015]所述的刮刀6的寬度與所述的引線框架5的寬度相當(dāng)，可將引線框架5上的溢料一次刮去，避免反復(fù)操作。
[0016]所述的底座I上沿底座I的長(zhǎng)度方向設(shè)有排水槽13，所述的排水槽13位于所述的引線框架5的下方，可排去沖刷用的水和漏下的軟化液，保持場(chǎng)地清潔。
[0017]綜上所述，本實(shí)用新型能將溢料軟化后刮去，再利用高壓水噴射進(jìn)行二次清潔，不僅能保證將溢料去除干凈，還能使引線框架上保持平整，不影響元器件的接觸靈敏度和美觀度。
【權(quán)利要求】
1.一種去溢料設(shè)備，其特征在于:包括底座(I)、一對(duì)支撐架(2)、一對(duì)傳輸帶(3)、多個(gè)驅(qū)動(dòng)輪(4)、引線框架(5)、溢料軟化組件、一對(duì)刮刀(6)、多個(gè)固定座(7)及多個(gè)高壓噴水管(8);所述的一對(duì)支撐架(2)分別設(shè)置在所述的底座(I)的兩側(cè)，所述的一對(duì)傳輸帶(3)分別設(shè)置在所述的一對(duì)支撐架(2)的內(nèi)側(cè)，所述的多個(gè)驅(qū)動(dòng)輪(4)分別設(shè)置在所述的一對(duì)傳輸帶(3)的兩端，所述的傳輸帶(3)通過(guò)所述的驅(qū)動(dòng)輪(4)在所述的支撐架(2)內(nèi)水平移動(dòng)，所述的引線框架(5)的兩側(cè)分別卡在所述的一對(duì)傳輸帶(3)上，所述的引線框架(5)與所述的傳輸帶(3)同步移動(dòng)；所述的溢料軟化組件設(shè)置在所述的支撐架(2)的前端，所述的溢料軟化組件包括軟化液箱(9)、導(dǎo)流管(10)、毛刷(11)及軟化液槽(12)，所述的導(dǎo)流管(10)的兩端分別連接所述的軟化液箱(9)及毛刷(11)，所述的軟化液箱(9)內(nèi)灌裝軟化液，所述的毛刷(11)的底部與所述的引線框架(5)上表面接觸，所述的軟化液槽(12)位于所述的引線框架(5)的下方，所述的軟化液槽(12)內(nèi)設(shè)軟化液，所述的引線框架(5)的下表面與所述的軟化液槽(12)接觸；所述的一對(duì)刮刀(6)分別通過(guò)所述的多個(gè)固定座(7)設(shè)置在所述的支撐架(2)的中部，位于所述的引線框架(5)的正上方及正下方，所述的刮刀(6)的刀尖與所述的引線框架(5)接觸；所述的多個(gè)高壓噴水管(8)分別通過(guò)所述的多個(gè)固定座(7)設(shè)置在所述的支撐架(2)的后部，位于所述的引線框架(5)的正上方及正下方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去溢料設(shè)備，其特征在于:所述的多個(gè)高壓噴水管(8)上下交錯(cuò)設(shè)置，所述的高壓噴水管(8)外接高壓供水系統(tǒng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去溢料設(shè)備，其特征在于:所述的刮刀(6)的寬度與所述的引線框架(5)的寬度相當(dāng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去溢料設(shè)備，其特征在于:所述的底座(I)上沿底座(I)的長(zhǎng)度方向設(shè)有排水槽(13)，所述的排水槽(13)位于所述的引線框架(5)的下方。
【文檔編號(hào)】H01L21/67GK203573962SQ201320641468
【公開(kāi)日】2014年4月30日 申請(qǐng)日期:2013年10月18日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月18日
【發(fā)明者】張建軍 申請(qǐng)人:江蘇寶浦萊半導(dǎo)體有限公司