一種柔性透明oled的器件結(jié)構(gòu)及制備方法
【專利摘要】本發(fā)明屬于OLED領(lǐng)域，具體涉及一種柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)及制備方法；所述器件結(jié)構(gòu)包括一側(cè)呈矩形鋸齒結(jié)構(gòu)的柔性透明基板，柔性透明基板矩形鋸齒結(jié)構(gòu)側(cè)凸起部上設(shè)置第一透明電極，凹槽部設(shè)置反射電極；且第一透明電極和反射電極上均由有機層覆蓋，有機層上依次設(shè)置第二透明電極和封裝層。通過在第一透明電極的一側(cè)設(shè)置反射電極，使得內(nèi)部光能夠僅從第二透明電極處向外發(fā)射，控制透明OLED的出光方向，實現(xiàn)單邊發(fā)光。
【專利說明】—種柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)及制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于OLED領(lǐng)域，具體涉及一種柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)及制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著顯示技術(shù)的蓬勃發(fā)展，透明顯示開始進入大眾視野，然而如今的透明顯示器件都是雙邊發(fā)光，不能控制面板的發(fā)光方向。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點，提供一種柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)及制備方法，具有能夠控制面板的發(fā)光方向的優(yōu)點。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:包括:一側(cè)呈矩形鋸齒結(jié)構(gòu)的柔性透明基板，所述的矩形鋸齒結(jié)構(gòu)由若干個凸起和位于凸起旁側(cè)的凹槽構(gòu)成，矩形鋸齒結(jié)構(gòu)的若干個凸起部上設(shè)置有若干個的第一透明電極，且矩形鋸齒結(jié)構(gòu)的若干個凹槽部設(shè)置有若干個反射電極；且第一透明電極和反射電極上均由有機層覆蓋，有機層上依次設(shè)置第二透明電極和封裝層。
[0005]所述的第一透明電極在垂直于柔性透明基板的方向上相對高度高于反射電極。
[0006]所述的反射電極和第一透明電極的寬度均為1-3_。
[0007]所述的封裝層為薄膜封裝層，且采用有機和無機阻隔薄膜交替疊加的方式封裝。
[0008]一種柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)制備方法，包括如下步驟:
[0009]步驟I):在透明柔性基底上采用輥子壓印的方法形成一側(cè)呈矩形鋸齒結(jié)構(gòu)的柔性透明基板，矩形鋸齒結(jié)構(gòu)由若干個凸起和位于凸起旁側(cè)的凹槽構(gòu)成；
[0010]步驟2):在柔性透明基板上制備第一透明電極和反射電極，且第一透明電極位于柔性透明基板的凸起部上，反射電極位于柔性透明基板的凹槽部內(nèi)；
[0011]步驟3):在步驟2)的第一透明電極和反射電極之上依次制備蒸鍍空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層和電子注入層，形成有機層；
[0012]步驟4):在步驟3)的有機層上制備第二透明電極；
[0013]步驟5):在步驟4)制備的第二透明電極上制備透明的封裝層，最終獲得所需的柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)。
[0014]所述步驟2)中的第一透明電極的制備方式為:采用真空蒸鍍或磁共濺射的方法結(jié)合精細掩膜板制成；或采用旋涂的辦法制備透明納米銀線透明電極；或采用碳納米管或石墨烯制備而成；
[0015]所述的反射電極的制備方法為采用真空蒸鍍或磁共濺射的方法結(jié)合精細掩膜板制成；且第一透明電極在垂直于柔性透明基板的方向上相對高度高于反射電極。
[0016]所述步驟3)中有機層的制備方法為采用真空蒸鍍的方式制成。
[0017]所述步驟4)中第二透明電極的制備方式為采用真空蒸鍍或磁共濺射的方法形成電極，在采用磁共濺射制備時，在電子注入層上蒸鍍緩沖層。[0018]所述步驟5)中封裝層的制備方式采用化學(xué)氣相沉積或濺射的方法。
[0019]本發(fā)明具有以下的有益效果:相比較現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明通過在第一透明電極的一側(cè)設(shè)置反射電極，使得內(nèi)部光僅能夠從第二透明電極處向外發(fā)射，控制透明OLED的出光方向，實現(xiàn)單邊發(fā)光。由于柔性透明基板通過采用輥子壓印法制成，從而起到了內(nèi)部光散射的作用，提高光取出效率。
[0020]進一步的，由于在垂直于柔性透明基板的方向上，第一透明電極的相對高度高于反射電極，從而能夠使得有機層的固定更加牢固。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0021]圖1為柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)示意圖1 ;
[0022]圖2為柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)示意圖2。
【具體實施方式】
[0023]下面結(jié)合附圖，對本發(fā)明作進一步詳細說明。
[0024]參見圖1和2，柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)包括:一側(cè)呈矩形鋸齒結(jié)構(gòu)的柔性透明基板1，矩形鋸齒結(jié)構(gòu)由若干個凸起和位于凸起旁側(cè)的凹槽構(gòu)成，矩形鋸齒結(jié)構(gòu)的若干個凸起部上設(shè)置有若干個的第一透明電極2，且矩形鋸齒結(jié)構(gòu)的若干個凹槽部設(shè)置有若干個反射電極3 ;且第一透明電極2和反射電極3上均由有機層4覆蓋，有機層4上依次設(shè)置第二透明電極5和封裝層6，封裝層6為薄膜封裝層，且采用有機和無機阻隔薄膜交替疊加的方式封裝。反射電極3和第一透明電極2的寬度均為1-3_。第一透明電極2在垂直于柔性透明基板I的方向上相對高度高于反射電極3。
[0025]柔性透明OLED器件結(jié)構(gòu)的制備方法，按照以下步驟進行:
[0026]步驟I):在透明柔性基板上采用輥子壓印的方法形成具有一側(cè)呈矩形鋸齒結(jié)構(gòu)的柔性基板1，且輥子上預(yù)先雕刻出所需圖形，矩形鋸齒結(jié)構(gòu)由若干個凸起和位于凸起旁側(cè)的凹槽構(gòu)成；
[0027]步驟2):在由步驟I)制得的柔性透明基板I上采用真空蒸鍍或磁共濺射的方法結(jié)合精細掩膜板依次形成第一透明電極2和反射電極3，矩形鋸齒結(jié)構(gòu)的凸起部上設(shè)置第一透明電極2，矩形鋸齒結(jié)構(gòu)的凹槽部設(shè)置反射電極3，第一透明電極2也可以通過旋涂的辦法制備透明納米銀線透明電極，或采用碳納米管或石墨烯制備而成；
[0028]步驟3):在步驟2)的第一透明電極2和反射電極3之上采用真空蒸鍍的方式依次制備蒸鍍空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、及電子注入層，形成有機層4 ；
[0029]步驟4):在步驟3)的有機層4上制備第二透明電極5，采用真空蒸鍍或磁共濺射的方法形成，在采用磁共濺射制備第二透明電極5前需在電子注入層上蒸鍍緩沖層；
[0030]步驟5):在步驟4)的第二透明電極5上采用化學(xué)氣相沉積或濺射的方法形成透明薄膜封裝，最終獲得所需的柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)。
[0031]當所述的第一透明電極2為陽極時，第二透明電極5為陰極，反射電極3為反射陽極，光從陰極發(fā)出，見圖1 ;當所述的第一透明電極I為陰極時，第二透明電極5為陽極，反射電極3為反射陰極，光從陽極發(fā)出，見圖2。
【權(quán)利要求】
1.一種柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)，其特征在于:包括:一側(cè)呈矩形鋸齒結(jié)構(gòu)的柔性透明基板(I )，所述的矩形鋸齒結(jié)構(gòu)由若干個凸起和位于凸起旁側(cè)的凹槽構(gòu)成，矩形鋸齒結(jié)構(gòu)的若干個凸起部上設(shè)置有若干個第一透明電極(2)，且矩形鋸齒結(jié)構(gòu)的若干個凹槽部內(nèi)設(shè)置有若干個反射電極(3);且第一透明電極(2)和反射電極(3)上均由有機層(4)覆蓋，有機層(4)上依次設(shè)置第二透明電極(5)和封裝層(6)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)，其特征在于: 所述的第一透明電極(2)在垂直于柔性透明基板(I)方向上的相對高度高于反射電極(3)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)，其特征在于: 所述的反射電極(3)和第一透明電極(2)的寬度均為l_3mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)，其特征在于: 所述的封裝層(6)為薄膜封裝層，且采用有機和無機阻隔薄膜交替疊加的方式封裝。
5.一種柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)制備方法，其特征在于:包括如下步驟: 步驟I):在透明柔性基底上采用輥子壓印的方法形成一側(cè)呈矩形鋸齒結(jié)構(gòu)的柔性透明基板(1)，矩形鋸齒結(jié)構(gòu)由若干個凸起和位于凸起旁側(cè)的凹槽構(gòu)成； 步驟2):在柔性透明基板(I)上制備第一透明電極(2)和反射電極(3)，且第一透明電極(2)位于柔性透明基板(I)的凸起部上，反射電極(3)位于柔性透明基板(I)的凹槽部內(nèi)； 步驟3):在步驟2)的第一透明電極(2)和反射電極(3)之上依次制備蒸鍍空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層和電子注入層，形成有機層(4)； 步驟4):在步驟3)的有機層(4)上制備第二透明電極(5)； 步驟5):在步驟4)制備的第二透明電極(5)上制備透明的封裝層(6)，最終獲得所需的柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)制備方法，其特征在于:所述步驟2)中的第一透明電極(2)的制備方式為:采用真空蒸鍍或磁共濺射的方法結(jié)合精細掩膜板制成；或采用旋涂的辦法制備透明納米銀線透明電極；或采用碳納米管或石墨烯制備而成； 所述的反射電極(3)的制備方法為采用真空蒸鍍或磁共濺射的方法結(jié)合精細掩膜板制成；且第一透明電極(2)在垂直于柔性透明基板(I)的方向上相對高度高于反射電極(3)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)制備方法，其特征在于:所述步驟3)中有機層(4)的制備方法為采用真空蒸鍍的方式制成。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)制備方法，其特征在于:所述步驟4)中第二透明電極(5)的制備方式為采用真空蒸鍍或磁共濺射的方法形成電極，在采用磁共濺射制備時，在電子注入層上蒸鍍緩沖層。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種柔性透明OLED的器件結(jié)構(gòu)制備方法，其特征在于:所述步驟5)中封裝層(6)的制備方式為采用化學(xué)氣相沉積或濺射的方法。
【文檔編號】H01L51/56GK103928625SQ201410137250
【公開日】2014年7月16日 申請日期:2014年4月8日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月8日
【發(fā)明者】詹秦川 申請人:陜西科技大學(xué)