一種測(cè)量ito玻璃基板上光刻膠厚度的方法
【專利摘要】一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，屬于測(cè)量方法領(lǐng)域。包括如下步驟：將涂膠后的ITO玻璃基板經(jīng)過(guò)烘干固化，并檢驗(yàn)表面無(wú)缺陷后，用厚度儀測(cè)量涂膠厚度，測(cè)量精度達(dá)到1nm，每片基板測(cè)量15個(gè)均勻分布的點(diǎn)，用公式δ=（Tmax-Tmin）/（Tmax+Tmin）×100%計(jì)算厚度不均勻性。本發(fā)明所述的一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，是根據(jù)產(chǎn)品性能要求和實(shí)際工藝條件來(lái)確定的。光刻膠的厚度是影響光刻質(zhì)量和效果的關(guān)鍵因素，厚度小了，光刻分辨率高，但是抗刻蝕能力差；厚度大了，抗刻蝕能力強(qiáng)，但是分辨率低，這是一對(duì)矛盾，本方法可以很好的確定所涂光刻膠的厚度，且操作簡(jiǎn)單易于推廣。
【專利說(shuō)明】一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于測(cè)量方法領(lǐng)域，尤其涉及一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法。

【背景技術(shù)】
[0002]在IXD行業(yè)，涂膠工藝是指在玻璃基板上涂布一定厚度光刻膠的制造工藝。光刻膠涂布的厚度和均勻性直接影響細(xì)微光刻電路圖形的精度，對(duì)電子產(chǎn)品的集成度和合格率有著極為重要的影響。影響光刻膠涂膠厚度和涂膠均勻性的因素很多，主要有涂膠方法、光刻膠黏度、環(huán)境溫度和濕度等。光刻膠的厚度是影響光刻質(zhì)量和效果的關(guān)鍵因素。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明旨在提供一種可以精確測(cè)量光刻膠厚度的方法。
[0004]本發(fā)明所述一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，其特征在于包括如下步驟:首先將涂膠后的ITO玻璃基板經(jīng)過(guò)烘干固化，并檢驗(yàn)表面無(wú)缺陷后，接著用厚度儀測(cè)量涂膠厚度，在每片基板測(cè)量多個(gè)均勻分布的點(diǎn)，之后用公式S= (Tmax-Tmin)/(Tmax+Tmin) X 100%計(jì)算厚度不均勻性。
[0005]本發(fā)明所述的一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，其特征在于所述使用厚度儀測(cè)量精度需達(dá)到lnm。
[0006]本發(fā)明所述的一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，其特征在于所述的每片基板設(shè)置的測(cè)量點(diǎn)數(shù)在13?16之間。
[0007]本發(fā)明所述的一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，其特征在于所述ITO玻璃基板的烘干溫度為130°C?150°C。
[0008]本發(fā)明所述的一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，其特征在于所述檢驗(yàn)表面采用目測(cè)或普通放大鏡。
[0009]本發(fā)明所述的一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，是根據(jù)產(chǎn)品性能要求和實(shí)際工藝條件來(lái)確定的。光刻膠的厚度是影響光刻質(zhì)量和效果的關(guān)鍵因素，厚度小了，光刻分辨率高，但是抗刻蝕能力差；厚度大了，抗刻蝕能力強(qiáng)，但是分辨率低，這是一對(duì)矛盾，本方法可以很好的確定所涂光刻膠的厚度，且操作簡(jiǎn)單易于推廣。

【具體實(shí)施方式】
[0010]本發(fā)明所述一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，其特征在于包括如下步驟:首先將涂膠后的ITO玻璃基板經(jīng)過(guò)烘干固化，并檢驗(yàn)表面無(wú)缺陷后，接著用厚度儀測(cè)量涂膠厚度，在每片基板測(cè)量多個(gè)均勻分布的點(diǎn)，之后用公式S= (Tmax-Tmin) /(Tmax+Tmin) X 100%計(jì)算厚度不均勻性。式中Tmax和Tmin分別是15個(gè)測(cè)量點(diǎn)的最大和最小厚度值。以此確定所涂的光刻膠厚度。
[0011]本發(fā)明所述的一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，其特征在于所述使用厚度儀測(cè)量精度需達(dá)到lnm。
[0012]本發(fā)明所述的一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，其特征在于所述的每片基板設(shè)置的測(cè)量點(diǎn)數(shù)在13?16之間。
[0013]本發(fā)明所述的一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，其特征在于所述ITO玻璃基板的烘干溫度為130°C?150°C。
[0014]本發(fā)明所述的一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，其特征在于所述檢驗(yàn)表面采用目測(cè)或普通放大鏡。
【權(quán)利要求】
1.一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，其特征在于包括如下步驟:首先將涂膠后的ITO玻璃基板經(jīng)過(guò)烘干固化，并檢驗(yàn)表面無(wú)缺陷后，接著用厚度儀測(cè)量涂膠厚度，在每片基板測(cè)量多個(gè)均勻分布的點(diǎn)，之后用公式δ= (Tmax-Tmin) / (Tmax+Tmin) X 100%計(jì)算厚度不均勻性。
2.如權(quán)利要求1所述的一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，其特征在于所述使用厚度儀測(cè)量精度需達(dá)到lnm。
3.如權(quán)利要求1所述的一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，其特征在于所述的每片基板設(shè)置的測(cè)量點(diǎn)數(shù)在13?16之間。
4.如權(quán)利要求1所述的一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，其特征在于所述ITO玻璃基板的烘干溫度為130°C?150°C。
5.如權(quán)利要求1所述的一種測(cè)量ITO玻璃基板上光刻膠厚度的方法，其特征在于所述檢驗(yàn)表面采用目測(cè)或普通放大鏡。
【文檔編號(hào)】H01L21/66GK104165613SQ201410365152
【公開(kāi)日】2014年11月26日 申請(qǐng)日期:2014年7月29日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月29日
【發(fā)明者】賈衛(wèi)東, 魏軍鋒 申請(qǐng)人:西安三威安防科技有限公司