一種可承載大電流的金屬化膜的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種可承載大電流的金屬化膜，包括：金屬區(qū)及非金屬區(qū)，所述非金屬區(qū)包括：第一隔離帶和第二隔離帶，且相互垂直，第一隔離帶和第二隔離帶將金屬區(qū)分割成四個(gè)相鄰的第一金屬區(qū)、第二金屬區(qū)、第三金屬區(qū)、第四金屬區(qū)，在每個(gè)金屬區(qū)與非金屬區(qū)臨接的交叉邊緣處設(shè)置防止電流過(guò)大而易被擊穿的圓弧過(guò)渡區(qū)或直線過(guò)渡區(qū)。本實(shí)用新型所述金屬化膜，采用圓弧過(guò)渡區(qū)或直線過(guò)渡區(qū)代替原有的尖銳的凸點(diǎn)，讓金屬區(qū)與非金屬區(qū)臨接的交叉邊緣處不在匯集電流，因而可以承載更大的電流。在其他條件不變情況下，該金屬化膜的載流量可增大1倍以上，避免了電容器的失效，滿足實(shí)際使用要求，實(shí)施效果好。
【專利說(shuō)明】 一種可承載大電流的金屬化膜

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種電容器用金屬化膜，尤其涉及一種可承載大電流的金屬化膜，屬于電子元器件【技術(shù)領(lǐng)域】。

【背景技術(shù)】
[0002]幾年來(lái)，隨著信息產(chǎn)業(yè)及現(xiàn)代電子裝備、儀器儀表向著小型化、輕量化、低成本、高性能等方向發(fā)展，金屬化薄膜電容器以其耐壓跨度大、覆蓋范圍廣、自愈性能好、適應(yīng)領(lǐng)域?qū)挼蕊@著特點(diǎn)而得到了廣泛的重視和應(yīng)用。金屬化薄膜電容器作為基礎(chǔ)電子元器件，市場(chǎng)的需求逐年增大，其型號(hào)、規(guī)格、品種越來(lái)越多，使用的領(lǐng)域不斷拓寬，產(chǎn)品的技術(shù)檔次，制造中的工藝技術(shù)和生產(chǎn)設(shè)備的技術(shù)含量也不斷在提高。
[0003]隨著電子技術(shù)不斷向高精尖方向發(fā)展，對(duì)電容器的工藝控制及質(zhì)量要求越來(lái)越高。金屬化薄膜是由塑料薄膜上真空蒸鍍上一層很薄的金屬構(gòu)成，該層金屬被用來(lái)作為電極?，F(xiàn)有的普通金屬化膜上設(shè)置隔離條，防止金屬化膜自愈過(guò)程中把與自愈點(diǎn)上下相鄰的多層介質(zhì)灼傷擊穿，造成電容器短路失效。但是實(shí)際上，有時(shí)隔離條的設(shè)置同時(shí)增大了電流在局部的匯集，導(dǎo)致匯集的電流過(guò)大且不可控制，最終反而增加了金屬化膜被灼傷擊穿的幾率，影響實(shí)際使用。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]本實(shí)用新型正是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，提供一種可承載大電流的金屬化膜。
[0005]為解決上述問(wèn)題，本實(shí)用新型所采取的技術(shù)方案如下:
[0006]一種可承載大電流的金屬化膜，包括:金屬區(qū)及非金屬區(qū)，所述非金屬區(qū)包括--第一隔離帶和第二隔離帶，且相互垂直，第一隔離帶和第二隔離帶將金屬區(qū)分割成四個(gè)相鄰的第一金屬區(qū)、第二金屬區(qū)、第三金屬區(qū)、第四金屬區(qū)，在每個(gè)金屬區(qū)與非金屬區(qū)臨接的交叉邊緣處設(shè)置防止電流過(guò)大而易被擊穿的圓弧過(guò)渡區(qū)或直線過(guò)渡區(qū)。
[0007]本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本實(shí)用新型的實(shí)施效果如下:
[0008]本實(shí)用新型所述金屬化膜，采用圓弧過(guò)渡區(qū)或直線過(guò)渡區(qū)代替原有的尖銳的凸點(diǎn)，讓金屬區(qū)與非金屬區(qū)臨接的交叉邊緣處不再匯集電流，因而可以承載更大的電流。在其他條件不變情況下，該金屬化膜的載流量可增大I倍以上，避免了電容器的失效，滿足實(shí)際使用要求，實(shí)施效果好。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0009]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中金屬化膜結(jié)構(gòu)示意圖；
[0010]圖2為本實(shí)用新型所述金屬化膜結(jié)構(gòu)示意圖(實(shí)施例一)；
[0011]圖3為本實(shí)用新型所述金屬化膜結(jié)構(gòu)示意圖(實(shí)施例二)。

【具體實(shí)施方式】
[0012]下面將結(jié)合具體的實(shí)施例來(lái)說(shuō)明本實(shí)用新型的內(nèi)容。
[0013]如圖1所示，為現(xiàn)有技術(shù)中金屬化膜結(jié)構(gòu)示意圖，所述金屬化膜包括:基膜和金屬蒸鍍膜，金屬蒸鍍膜僅設(shè)置在基膜一側(cè)的表面上。所述金屬化膜包括:金屬區(qū)10及非金屬區(qū)20，金屬區(qū)10為在基膜上采用蒸鍍工藝形成金屬蒸鍍膜，基膜上未蒸鍍區(qū)域形成非金屬區(qū)20。
[0014]如圖1所示，所述非金屬區(qū)20包括:第一隔離帶21和第二隔離帶22，且相互垂直，第一隔離帶21和第二隔離帶22將金屬區(qū)10分割成四個(gè)相鄰的第一金屬區(qū)11、第二金屬區(qū)12、第三金屬區(qū)13、第四金屬區(qū)14。金屬區(qū)10與非金屬區(qū)20臨接的交叉點(diǎn)形成尖銳的凸點(diǎn)30。
[0015]當(dāng)金屬化膜卷制形成電容器芯棒時(shí)，金屬區(qū)10將作為電容器的電極。由于非金屬區(qū)20的存在，電流將沿圖1中的A向或B向流動(dòng)，由于尖銳的凸點(diǎn)30的存在，此處的電流密度最大，發(fā)熱量也最大，金屬化膜也是最容易在此處被擊穿。
[0016]如圖2所示，為本實(shí)用新型實(shí)施例一所述金屬化膜結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)用新型所述金屬化膜，在每個(gè)金屬區(qū)10與非金屬區(qū)20臨接的交叉邊緣處設(shè)置圓弧過(guò)渡區(qū)15，由圓弧過(guò)渡區(qū)15代替原有的尖銳的凸點(diǎn)30。這樣，當(dāng)電流沿圖中的A向或B向流動(dòng)時(shí)，此處的電流被分流，無(wú)法形成電流密集區(qū)，其電流密度均勻，發(fā)熱量較低，金屬化膜不容易在此處被擊穿。
[0017]如圖3所示，為本實(shí)用新型實(shí)施例二所述金屬化膜結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)用新型所述金屬化膜，在每個(gè)金屬區(qū)10與非金屬區(qū)20臨接的交叉邊緣處設(shè)置直線過(guò)渡區(qū)16，由直線過(guò)渡區(qū)16代替原有的尖銳的凸點(diǎn)30。這樣，當(dāng)電流沿圖中的A向或B向流動(dòng)時(shí)，此處的電流被分流，無(wú)法形成電流密集區(qū)，其電流密度均勻，發(fā)熱量較低，金屬化膜不容易在此處被擊穿。
【權(quán)利要求】
1.一種可承載大電流的金屬化膜，包括:金屬區(qū)(10)及非金屬區(qū)(20)，其特征是，所述非金屬區(qū)(20)包括:第一隔離帶(21)和第二隔離帶(22)，且相互垂直，第一隔離帶(21)和第二隔離帶(22)將金屬區(qū)(10)分割成四個(gè)相鄰的第一金屬區(qū)(11)、第二金屬區(qū)(12)、第三金屬區(qū)(13)、第四金屬區(qū)(14)，在每個(gè)金屬區(qū)(10)與非金屬區(qū)(20)臨接的交叉邊緣處設(shè)置防止電流過(guò)大而易被擊穿的圓弧過(guò)渡區(qū)(15)或直線過(guò)渡區(qū)(16)。
【文檔編號(hào)】H01G4/015GK203931811SQ201420319250
【公開(kāi)日】2014年11月5日 申請(qǐng)日期:2014年6月16日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月16日
【發(fā)明者】宋仁祥 申請(qǐng)人:安徽省寧國(guó)市海偉電子有限公司