技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種柔性襯底的形成方法，包括：在形成有襯底材料層的基板上形成一具有光滑表面的犧牲材料層；接著，依次刻蝕所述犧牲材料層和部分襯底材料層，并且，所述犧牲材料層和襯底材料層的刻蝕速率差異較小。如此，即可使這個(gè)平整的表面以一均勻的消耗速率減薄，使去除表面缺陷后的襯底材料層的表面光滑平整，進(jìn)而可獲取表面光滑無(wú)缺陷的柔性襯底。

技術(shù)研發(fā)人員：彭娟;胡少堅(jiān);陳壽面
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海集成電路研發(fā)中心有限公司
文檔號(hào)碼：201610771425
技術(shù)研發(fā)日：2016.08.30
技術(shù)公布日：2016.12.21