本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板及其制備方法、顯示面板、掩模板。

背景技術(shù)：

隨著顯示技術(shù)的發(fā)展，LCD(Liquid Crystal Display，液晶顯示器)顯示、OLED(Organic Light-Emitting Diode，有機發(fā)光二極管)顯示、柔性顯示等廣泛地應(yīng)用于各個領(lǐng)域。

其中，為了提高基板的開口率，通常會根據(jù)基板的結(jié)構(gòu)，將基板上的走線合理的排布在基板非顯示區(qū)的布線區(qū)。

如圖1所示，基板布線區(qū)設(shè)置有沿第一方向至第二方向延伸的走線10，第一方向與第二方向相交，導(dǎo)致走線10具有拐角。其中，為了防止同層設(shè)置的走線10發(fā)生短路或者異層設(shè)置的走線10之間產(chǎn)生干擾，走線10之間通常會設(shè)置有間隙，而走線10與走線之間的間隙會具有一個高度差。這樣一來，走線10遠離襯底一側(cè)的其他膜層在成膜的過程中，位于間隙內(nèi)拐角位置處的膜層相對位于間隙內(nèi)非拐角位置處的膜層，會出現(xiàn)端差，導(dǎo)致顯示面板顯示不均勻(斜向污漬)，從而降低產(chǎn)品良率。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的實施例提供一種基板及其制備方法、顯示面板、掩模板，可改善現(xiàn)有技術(shù)中因端差而引起的顯示面板顯示不均勻的現(xiàn)象。

為達到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術(shù)方案：

一方面，提供一種基板，包括布線區(qū)，所述布線區(qū)中設(shè)置有沿第一方向至第二方向延伸的走線，所述第一方向和所述第二方向相交；所述走線與所述走線之間的間隙具有高度差；還包括填平層，所述填平層包括與所述走線之間的間隙對應(yīng)的填平圖案，用于降低所述走線與所述走線之間間隙的高度差。

優(yōu)選的，所述走線包括第一子走線；所述基板還包括顯示區(qū)，所述顯示區(qū)包括第一信號線；所述第一子走線與所述第一信號線同層且電連接；所述填平層的厚度與所述第一子走線的厚度相同。

進一步優(yōu)選的，所述顯示區(qū)還包括第二信號線，所述第二信號線與所述第一信號線異層設(shè)置；所述走線還包括第二子走線；所述第二子走線與所述第二信號線同層且電連接；所述第二子走線與所述第一子走線間隔排布，且所述第二子走線與所述第一子走線的厚度相同。

優(yōu)選的，所述第一信號線為柵線；所述柵線靠近所述基板的襯底設(shè)置；所述基板還包括與所述柵線同層且電連接的柵極、依次設(shè)置在所述柵極遠離所述襯底一側(cè)的柵絕緣層、有源層、以及源極和漏極；所述填平層設(shè)置在所述柵絕緣層遠離所述襯底的表面。

優(yōu)選的，所述第一信號線為柵線，所述第二信號線為數(shù)據(jù)線；所述柵線靠近所述基板的襯底設(shè)置；所述基板還包括與所述柵線同層且電連接的柵極、依次設(shè)置在所述柵極遠離所述襯底一側(cè)的柵絕緣層、有源層、與所述數(shù)據(jù)線同層的源極和漏極、以及鈍化層；所述填平層設(shè)置在所述鈍化層遠離所述襯底的表面。

優(yōu)選的，所述填平層的材料包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中的至少一種。

基于上述，優(yōu)選的，所述填平層僅設(shè)置在所述布線區(qū)。

第二方面，提供一種顯示面板，包括第一方面所述的基板。

第三方面，提供一種基板的制備方法，所述基板包括布線區(qū)，所述布線區(qū)中形成有沿第一方向至第二方向延伸的走線，所述第一方向和所述第二方向相交；所述走線與所述走線之間的間隙具有高度差；所述方法還包括在所述基板的襯底上形成填平層，所述填平層包括形與所述走線之間的間隙對應(yīng)的填平圖案，用于降低所述走線與所述走線之間間隙的高度差。

優(yōu)選的，所述走線包括第一子走線；在形成所述第一子走線時，還在顯示區(qū)形成與所述第一子走線連接的柵線、與所述柵線連接的柵極；所述方法還包括：在形成有所述柵極、柵線的所述襯底上，依次形成柵絕緣層、有源層、數(shù)據(jù)線、源極和漏極；其中，所述填平層形成在所述柵絕緣層之后所述有源層之前；所述填平層的厚度與所述第一子走線的厚度相同。

優(yōu)選的，所述走線包括第一子走線和第二子走線，所述第一子走線和所述第二子走線間隔排布；在形成所述第一子走線時，還在顯示區(qū)形成與所述第一子走線連接的柵線、與所述柵線連接的柵極；所述方法還包括：在形成有所述柵極、柵線的所述襯底上，依次形成柵絕緣層、有源層、數(shù)據(jù)線、源極和漏極、以及鈍化層；所述數(shù)據(jù)線、源極和漏極與所述第二子走線同時形成；其中，所述填平層形成在所述鈍化層之后；所述第二子走線、所述第一子走線、以及所述填平層的厚度均相同。

第四方面，提供一種掩模板，用于上述的基板的制備方法中形成填平層，所述掩模板包括間隔排布的完全透光部分和完全不透光部分，所述完全透光部分沿第一方向至第二方向延伸，所述第一方向和所述第二方向相交。

或者，所述完全不透光部分沿第一方向至第二方向延伸，所述第一方向和所述第二方向相交。

本發(fā)明的實施例提供一種基板及其制備方法、顯示面板、掩模板，通過在走線之間的間隙對應(yīng)處設(shè)置填平圖案，來降低走線與走線之間的間隙位置處的高度差，這樣一來，走線遠離襯底一側(cè)的其他膜層在成膜的過程中，位于間隙內(nèi)拐角位置處的膜層相對位于間隙內(nèi)非拐角位置處的膜層，出現(xiàn)端差的嚴重程度會減弱，當將基板應(yīng)用于顯示面板時，可改善現(xiàn)有技術(shù)中因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向污漬)的現(xiàn)象，因而可提高產(chǎn)品良率。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)提供的一種布線區(qū)內(nèi)走線的排布方式；

圖2為本發(fā)明實施例提供的一種布線區(qū)的俯視示意圖一；

圖3(a)為圖2中沿AA′向的截面示意圖一；

圖3(b)為圖2中沿AA′向的截面示意圖二；

圖4(a)為本發(fā)明實施例提供的一種基板的俯視示意圖一；

圖4(b)為圖4(a)中沿BB′向的截面示意圖；

圖5(a)為本發(fā)明實施例提供的一種布線區(qū)的俯視示意圖二；

圖5(b)為圖5(a)中沿CC′向的截面示意圖；

圖6為本發(fā)明實施例提供的一種布線區(qū)的俯視示意圖三；

圖7(a)為本發(fā)明實施例提供的一種基板的俯視示意圖二；

圖7(b)為圖7(a)中沿DD′向的截面示意圖；

圖8為本發(fā)明實施例提供的一種基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖9為本發(fā)明實施例提供的一種基板的制備方法的流程圖一；

圖10為本發(fā)明實施例提供的一種基板的制備方法的流程圖二；

圖11為本發(fā)明實施例提供的一種掩模板的俯視示意圖一；

圖12為本發(fā)明實施例提供的一種掩模板的俯視示意圖二。

附圖標記:

01-布線區(qū)；02-顯示區(qū)；03-非顯示區(qū)；100-襯底；10-走線；11-第一子走線；12-第二子走線；20-填平層；21-填平圖案；30-第一信號線；31-柵極；32-柵絕緣層；40-第二信號線；41-有源層；42-源極；43-漏極；50-鈍化層；200-掩模板；210-完全透光區(qū)；220-完全不透光區(qū)。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

本發(fā)明實施例提供一種基板，如圖2、圖3(a)和圖3(b)所示，包括布線區(qū)01，布線區(qū)01中設(shè)置有沿第一方向至第二方向延伸的走線10，第一方向和第二方向相交；走線10與走線之間的間隙具有高度差；還包括填平層20，所述填平層20包括與走線10之間的間隙對應(yīng)的填平圖案21，用于降低走線10與走線10之間間隙的高度差。

需要說明的是，第一，不對第一方向和第二方向進行限定，第一方向和第二方向相交即可，圖2中僅以第一方向和第二方向垂直進行示意。

第二，填平層20的材料優(yōu)選為絕緣材料，基于此，對于填平層20，其可以僅包含填平圖案21，也可以既包含填平圖案21，又包含設(shè)置在走線區(qū)01以外部分的圖案。圖2、圖3(a)和圖3(b)僅以填平層20僅包含填平圖案21進行示意。

其中，不對填平層20的厚度進行限定，能使走線10與走線之間間隙的高度差降低，從而改善現(xiàn)有技術(shù)中的斜向污漬即可。

此外，不對填平層20的設(shè)置位置進行限定，可根據(jù)基板上設(shè)置的膜層進行合理設(shè)置，圖3(a)和圖3(b)僅為示意。

第三，走線10可以僅包含同層排布的走線，也可以包含異層排布的走線，圖2、圖3(a)和圖3(b)中僅以走線10為同層排布進行示意。

本發(fā)明實施例提供一種基板，通過在走線10之間的間隙對應(yīng)處設(shè)置填平圖案21，來降低走線10與走線10之間的間隙位置處的高度差，這樣一來，走線10遠離襯底100一側(cè)的其他膜層在成膜的過程中，位于間隙內(nèi)拐角位置處的膜層相對位于間隙內(nèi)非拐角位置處的膜層，出現(xiàn)端差的嚴重程度會減弱，當將基板應(yīng)用于顯示面板時，可改善現(xiàn)有技術(shù)中因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向污漬)的現(xiàn)象，因而可提高產(chǎn)品良率。

由于氧化硅、氮化硅、氮氧化硅易于獲得，性能穩(wěn)定，成本較低，因此，本發(fā)明實施例優(yōu)選，填平層20的材料為氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中至少一種。

當然，填平層20的材料也可以為樹脂材料，或其他透明絕緣材料。

優(yōu)選的，如圖4(a)和圖4(b)所示，走線10包括第一子走線11；基板還包括顯示區(qū)02，顯示區(qū)02包括第一信號線30；第一子走線11與第一信號線30同層且電連接；填平層20的厚度與第一子走線11的厚度相同。

需要說明的是，第一，所述基板可包括顯示區(qū)02和非顯示區(qū)03，非顯示區(qū)03設(shè)置在顯示區(qū)02的外側(cè)。布線區(qū)01屬于非顯示區(qū)03的一部分。

第二，由于第一子走線11之間的間隙被填平后，可降低工藝的難度，因此，第一子走線11之間的間隙越早填平越好。在此基礎(chǔ)上，可結(jié)合所述基板的結(jié)構(gòu)，以在形成填平層20時，不會導(dǎo)致工藝的復(fù)雜化為準。

其中，如圖4(b)所示，為了避免形成填平層20時對第一子走線11產(chǎn)生影響，填平層20可設(shè)置在覆蓋第一子走線11的絕緣層的上方。

當布線區(qū)01內(nèi)只有第一子走線11沿第一方向至第二方向延伸時，本發(fā)明實施例通過將填平層20的厚度與第一子走線11的厚度設(shè)置為相同，可以完全消除第一子走線11與第一子走線11之間的間隙位置處的高度差，從而能夠避免位于間隙內(nèi)拐角位置處的膜層產(chǎn)生端差，消除因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向污漬)的問題。

進一步優(yōu)選的，所述顯示區(qū)02還包括第二信號線，第二信號線與第一信號線30異層設(shè)置；在此基礎(chǔ)上，如圖5(a)、圖5(b)、和圖6所示，所述走線10還包括第二子走線12；第二子走線12與第二信號線同層且電連接；第二子走線12與第一子走線11間隔排布，且第二子走線12與第一子走線11的厚度相同。

需要說明的是，第一，由于第一信號線30和第二信號線異層設(shè)置，即，第一子走線11和第二子走線12異層設(shè)置，為了簡化工藝，填平層20可在第一子走線11和第二子走線12都形成之后形成。

其中，顯示區(qū)02包括異層設(shè)置的第一信號線30和第二信號線時，第一信號線30和第二信號線之間應(yīng)設(shè)置有絕緣層。

第二，不對第一信號線30、第二信號線、第一子走線11和第二子走線12的布線方式進行限定，只要使第二子走線12與第一子走線11間隔排布即可。

當布線區(qū)01內(nèi)設(shè)置間隔排布的第一子走線11和第二子走線12，且第一子走線11和第二子走線12均沿第一方向至第二方向延伸時，本發(fā)明實施例通過將第一子走線11、第二子走線12、填平層20的厚度設(shè)置為相同，可以完全消除第一子走線11和第二子走線12與第一子走線11和第二子走線12之間的間隙位置處的高度差，從而能夠避免位于間隙內(nèi)拐角位置處的膜層產(chǎn)生端差，消除因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向污漬)的問題。

基于上述，優(yōu)選的，填平層20僅設(shè)置在布線區(qū)01。即，填平層20僅包含填平圖案21。

本發(fā)明實施例通過僅將填平層20設(shè)置在布線區(qū)01，在解決端差引起顯示不均勻問題的基礎(chǔ)上，可以避免增加基板的厚度。

下面結(jié)合具體實施例，對本發(fā)明實施例提供的基板進行說明：

實施例一

如圖7(a)和圖7(b)所示，提供一種基板，包括顯示區(qū)02和布線區(qū)01，顯示區(qū)02包括設(shè)置在襯底100上的第一信號線30，即柵線、與柵線同層且電連接的柵極31、設(shè)置在柵極31遠離襯底100一側(cè)的柵絕緣層32、填平層20、有源層41、第二信號線40，即數(shù)據(jù)線、以及與數(shù)據(jù)線同層且電連接的源極42、以及漏極43。

所述基板還包括設(shè)置在布線區(qū)01內(nèi)沿第一方向延伸至第二方向的第一子走線11，即柵線引線，第一方向與第二方向相交，第一子走線11與柵線同層且電連接。

其中，填平層20設(shè)置在布線區(qū)01，填平層20包含填平圖案21，填平圖案21與第一子走線11之間的間隙對應(yīng)，且填平層20的厚度與第一子走線11的厚度相同。

此處，當布線區(qū)01內(nèi)只有第一子走線11沿第一方向至第二方向延伸時，通過將填平層20設(shè)置在柵絕緣層32上方，一方面，使得填平層20可以采用與柵絕緣層32相同的成膜工藝成膜，從而簡化制備工序；另一方面，盡早填平第一子走線11之間的間隙，可以避免后續(xù)膜層在成膜過程中產(chǎn)生端差，從而較好的改善因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向污漬)的問題。

實施例二

如圖8所示，提供一種基板，包括顯示區(qū)02和布線區(qū)01，顯示區(qū)02包括設(shè)置在襯底100上的第一信號線30，即柵線、與柵線同層且電連接的柵極31、設(shè)置在柵極31遠離襯底100一側(cè)的柵絕緣層32、有源層41、第二信號線40，即數(shù)據(jù)線、與數(shù)據(jù)線同層且電連接的源極42、漏極43、鈍化層50、以及填平層20。

所述基板還包括設(shè)置在布線區(qū)01內(nèi)沿第一方向延伸至第二方向的第一子走線11，即柵線引線和第二子走線12，即數(shù)據(jù)線引線，第一方向與第二方向相交，第一子走線11與第二子走線12間隔排布；且第一子走線11與柵線同層且電連接，第二子走線12與數(shù)據(jù)線同層且電連接。

其中，填平層20設(shè)置在布線區(qū)01，填平層20包含填平圖案21，填平圖案21與第一子走線11與第二子走線12之間的間隙對應(yīng)，且第一子走線11、第二子走線12、以及填平層20的厚度相同。

此處，當布線區(qū)01內(nèi)包含間隔排布的第一子走線11和第二子走線12，且第一子走線11和第二子走線12均沿第一方向至第二方向延伸時，通過將填平層20設(shè)置在鈍化層50上方，使得填平層20可以采用與鈍化層50相同的成膜工藝成膜，從而簡化制備工序。

以上實施例僅為本發(fā)明給出的具體實施方式，并不能完全涵蓋本發(fā)明所保護的全部實施方式。其中，上述實施例中各特征的任意組合均屬于本發(fā)明保護的范圍，此處不再贅述。

本發(fā)明實施例還提供一種顯示面板，包括上述基板。

其中，所述顯示面板例如可以為液晶顯示面板或有機電致發(fā)光二極管顯示面板。

當顯示面板為液晶顯示面板時，所述基板還包括與漏極43電連接的像素電極；進一步的還包括公共電極。在此基礎(chǔ)上，所述顯示面板還包括對盒基板，對盒基板可以包括黑矩陣和彩膜。此處，彩膜可以設(shè)置在對盒基板上，也可設(shè)置在陣列基板上；公共電極可以設(shè)置在基板上，也可設(shè)置在對盒基板上。

當顯示面板為機電致發(fā)光二極管顯示面板時，所述基板還包括與漏極43電連接的陽極、陰極、以及位于陽極和陰極之間的有機材料功能層。所述顯示面板還包括封裝基板。

本發(fā)明實施例提供一種顯示面板，通過在基板上的走線10之間的間隙對應(yīng)處設(shè)置填平圖案21，來降低走線10與走線10之間的間隙位置處的高度差，這樣一來，走線10遠離襯底100一側(cè)的其他膜層在成膜的過程中，位于間隙內(nèi)拐角位置處的膜層相對位于間隙內(nèi)非拐角位置處的膜層，出現(xiàn)端差的嚴重程度會減弱，可改善現(xiàn)有技術(shù)中因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向污漬)的現(xiàn)象，因而可提高產(chǎn)品良率。

本發(fā)明實施例還提供一種基板的制備方法，所述基板包括布線區(qū)01，布線區(qū)01中形成有沿第一方向至第二方向延伸的走線10，第一方向和第二方向相交；走線10與走線10之間的間隙具有高度差；所述方法還包括：在基板的襯底100上形成填平層20，填平層20包括與走線11之間的間隙對應(yīng)的填平圖案21，用于降低走線10與走線10之間間隙的高度差。

本發(fā)明實施例提供一種基板的制備方法，通過在走線10之間的間隙對應(yīng)處形成填平圖案21，來降低走線10與走線10之間的間隙位置處的高度差，這樣一來，走線10遠離襯底100一側(cè)的其他膜層在成膜的過程中，位于間隙內(nèi)拐角位置處的膜層相對位于間隙內(nèi)非拐角位置處的膜層，出現(xiàn)端差的嚴重程度會減弱，當將基板應(yīng)用于顯示面板時，可改善現(xiàn)有技術(shù)中因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向污漬)的現(xiàn)象，因而可提高產(chǎn)品良率。

可選的，走線10包括第一子走線11，如圖9所示，所述方法具體包括如下步驟：

S10、參考圖7(a)和7(b)所示，在襯底100上形成柵線(即，第一信號線30)、柵極31和第一子走線11，柵線分別與柵極31和第一子走線11連接。

其中，柵線和柵極31位于顯示區(qū)02，第一子走線11位于布線區(qū)01。

S20、參考圖7(a)和7(b)所示，在形成有柵極31、柵線、第一子走線11的襯底100上形成柵絕緣層32。

S30、參考圖7(a)和7(b)所示，在形成有柵絕緣層32的襯底100上形成填平層20。

此處，填平層20可僅形成在布線區(qū)01，也可從布線區(qū)01延伸至顯示區(qū)02。

其中，填平層20的厚度與第一子走線11的厚度相同。

S40、參考圖7(a)和7(b)所示，在形成有填平層20的襯底100上形成有源層41。

S50、在形成有源層41的襯底100上形成數(shù)據(jù)線、源極42和漏極43，數(shù)據(jù)線與源極42相連。

當布線區(qū)01內(nèi)只有第一子走線11沿第一方向至第二方向延伸時，本發(fā)明實施例通過使填平層20的厚度與第一子走線11的厚度相同，可以完全消除第一子走線11與所述第一子走線之間的間隙位置處的高度差，從而能夠避免位于間隙內(nèi)拐角位置處的膜層產(chǎn)生端差，消除因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向污漬)的問題。此外，通過將填平層20形成在柵絕緣層之后，使得填平層20可以采用與柵絕緣層相同的成膜工藝成膜，從而簡化制備工序，而且可避免對有源層41造成影響。

可選的，走線10包括間隔排布的第一子走線11和第二子走線12，且第一子走線11和第二子走線12均沿第一方向延伸至第二方向，如圖10所示，所述方法具體包括：

S100、參考圖8所示，在襯底100上形成柵線(即，第一信號線30)、柵極31、第一子走線11，柵線分別與柵極31和第一子走線11連接。

其中，柵線和柵極31位于顯示區(qū)02，第一子走線11位于布線區(qū)01。

S200、參考圖8所示，在形成有柵極31、柵線、第一子走線11的襯底100上形成柵絕緣層32。

S300、參考圖8所示，在形成有柵絕緣層32的襯底100上形成有源層41。

S400、在形成有源層41的襯底100上形成數(shù)據(jù)線(即，第二信號線)、源極42、漏極43和第二子走線12，數(shù)據(jù)線分別與源極42和第二子走線12連接。

S500、在形成有數(shù)據(jù)線、源極42、漏極43和第二子走線12的襯底100上形成鈍化層50。

S600、在形成有鈍化層50的襯底100上形成填平層20。

此處，填平層20可僅形成在布線區(qū)01，也可從布線區(qū)01延伸至顯示區(qū)02。

其中，第一子走線11、第二子走線12、以及填平層20的厚度相同。

當布線區(qū)01內(nèi)包含間隔排布的第一子走線11和第二子走線12，且第一子走線11和第二子走線12均沿第一方向至第二方向延伸時，本發(fā)明實施例通過使第一子走線11、第二子走線12、填平層20的厚度相同，可以完全消除第一子走線11和第二子走線12與第一子走線和第二子走線之間的間隙位置處的高度差，從而能夠避免位于間隙內(nèi)拐角位置處的膜層產(chǎn)生端差，消除因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向污漬)的問題。此外，通過將填平層20形成在鈍化層50遠離襯底100一側(cè)，使得填平層20可以采用與鈍化層50相同的成膜工藝成膜，從而簡化制備工序。

需要說明的是，對于實施例一和實例二，制備方法中形成各膜層可以是通過成膜，光刻膠涂布，曝光，顯影，刻蝕，剝離的步驟，來形成所需圖案。

此外，根據(jù)基板的類型，當所述基板為液晶顯示面板的基板時，其制備方法還應(yīng)包括形成像素電極、公共電極等。當所述基板為有機電致發(fā)光二極管顯示裝置時，其制備方法還應(yīng)包括形成陽極、有機材料功能層和陰極；其中，有機材料功能層和陰極可通過蒸鍍工藝形成。

本發(fā)明實施例還提供一種掩模板200，用于形成上述基板的制備方法中的填平層20。如圖11所示，所述掩模板200包括間隔排布的完全透光部分210和完全不透光部分220，完全透光部分210沿第一方向至第二方向延伸，第一方向和第二方向相交。

其中，當將掩模板200應(yīng)用于制備上述基板中的填平層20時，掩模板200的完全透光部分210與基板上的走線10對應(yīng)，且涂覆在填平層膜層表面的光刻膠應(yīng)為正性光刻膠。

本發(fā)明實施例提供一種掩模板200，通過使掩模板200包括間隔排布的完全透光部分210和完全不透光部分220，并使完全透光部分210沿第一方向至第二方向延伸，第一方向和第二方向相交。這樣一來，將掩模板200用于制備上述基板中的填平層20時，能夠制備出包含填平圖案21的填平層20，從而使基板在應(yīng)用于顯示面板時，可改善現(xiàn)有技術(shù)中因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向污漬)的現(xiàn)象，因而可提高產(chǎn)品良率。

本發(fā)明實施例還提供一種掩模板200，用于形成上述基板的制備方法中的填平層20。如圖12所示，所述掩模板200包括間隔排布的完全透光部分210和完全不透光部分220，完全不透光部分220沿第一方向至第二方向延伸，第一方向和第二方向相交。

其中，當將掩模板200應(yīng)用于制備上述基板中的填平層20時，掩模板200的完全不透光部分220與基板上的走線10對應(yīng)，且涂覆在填平層膜層表面的光刻膠應(yīng)為負性光刻膠。

本實施例提供的掩模板200與上述掩模板200的有益效果相同，此處不再贅述。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實施方式，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護范圍為準。