本發(fā)明實(shí)施例涉及芯片封裝領(lǐng)域,尤其涉及一種芯片的封裝工藝和封裝結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù):
芯片封裝就是把生產(chǎn)出來(lái)的集成電路裸片放在一塊起到承載作用的基板上,把電極引出來(lái),然后固定包裝成為一個(gè)整體。在芯片的封裝過(guò)程中,一般是將裸片放置在封裝基板上并對(duì)準(zhǔn)放置位點(diǎn),使得焊球?qū)?zhǔn)基板上的預(yù)焊料。基板通常由有機(jī)材料或?qū)訅翰牧辖M成,后續(xù)再利用加熱回焊,形成芯片與封裝基板之間的電連接。芯片封裝是半導(dǎo)體行業(yè)極其重要的一個(gè)組成部分,現(xiàn)有的封裝結(jié)構(gòu)不能對(duì)芯片進(jìn)行針對(duì)性和有效地保護(hù)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明提供一種芯片的封裝工藝和封裝結(jié)構(gòu),以實(shí)現(xiàn)對(duì)芯片進(jìn)行更完善的保護(hù)。
第一方面,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種芯片的封裝工藝,包括:
提供襯底;
在所述襯底中形成腔體,將至少一個(gè)設(shè)置有凸臺(tái)的芯片設(shè)置在所述腔體的底面,并使所述襯底的上表面高于所述芯片的電極上表面,其中所述凸臺(tái)位于所述芯片的電極上;
在所述腔體中形成保護(hù)層,并在所述保護(hù)層和所述襯底上形成與各所述凸臺(tái)上表面電連接的多條導(dǎo)線;
在所述多條導(dǎo)線和所述保護(hù)層上形成絕緣層,并在所述絕緣層上形成至少一個(gè)窗口,以設(shè)置與各所述導(dǎo)線電連接的焊球。
可選的,在上述封裝工藝中,所述在所述腔體中形成保護(hù)層包括:
在所述腔體中形成保護(hù)層;
處理所述保護(hù)層和各所述凸臺(tái)以露出各所述凸臺(tái)的上表面,且使各所述凸臺(tái)的上表面、所述保護(hù)層的上表面與所述襯底的上表面平齊。
可選的,在上述封裝工藝中,所述在所述保護(hù)層和所述襯底上形成與各所述凸臺(tái)上表面電連接的多條導(dǎo)線包括:
采用重布線層工藝在所述保護(hù)層和所述襯底上形成與各所述凸臺(tái)上表面電連接的多條導(dǎo)線。
可選的,在上述封裝工藝中,在所述提供襯底之前,包括:
在所述芯片的各電極上分別形成凸臺(tái)。
可選的,在上述封裝工藝中,所述凸臺(tái)為金屬塊或金屬柱。
可選的,在上述封裝工藝中,所述襯底由金屬、塑料、陶瓷或樹脂中的至少一種構(gòu)成。
可選的,在上述封裝工藝中,所述芯片為有源芯片或無(wú)源芯片。
可選的,在上述封裝工藝中,所述導(dǎo)線為金屬線。
第二方面,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種芯片的封裝結(jié)構(gòu),包括:
襯底,所述襯底中形成有腔體;
至少一個(gè)芯片,設(shè)置在所述腔體的底面,所述芯片的電極上形成有凸臺(tái),所述芯片的電極上表面低于所述襯底的上表面;
保護(hù)層,形成所述腔體中;
多條導(dǎo)線,形成于所述保護(hù)層和所述襯底上,且與各所述凸臺(tái)上表面電連接;
絕緣層,形成于所述導(dǎo)線和所述保護(hù)層上,所述絕緣層上形成有至少一個(gè)窗口;
多個(gè)焊球,形成于所述絕緣層上,通過(guò)所述至少一個(gè)窗口與各所述導(dǎo)線電連接。
本發(fā)明實(shí)施例提供了一種芯片的封裝工藝和封裝結(jié)構(gòu),首先在襯底中形成腔體,將至少一個(gè)設(shè)置有凸臺(tái)的芯片設(shè)置在腔體的底面,并使襯底的上表面高于芯片的電極上表面,在腔體中形成保護(hù)層,通過(guò)使用腔體和保護(hù)層使得芯片被密封起來(lái),避免被損傷;然后在保護(hù)層和襯底上形成與各凸臺(tái)上表面電連接的多條導(dǎo)線,在多條導(dǎo)線和保護(hù)層上形成絕緣層,并在絕緣層上形成至少一個(gè)窗口,以設(shè)置與各導(dǎo)線電連接的焊球,通過(guò)使用多條導(dǎo)線和凸臺(tái)將芯片的電極引出到焊球上,使得通過(guò)焊球能夠與芯片進(jìn)行數(shù)據(jù)傳輸。
附圖說(shuō)明
圖1A是本發(fā)明實(shí)施例一中提供的一種芯片的封裝工藝流程示意圖;
圖1B-1F是本發(fā)明實(shí)施例一中提供的一種芯片的封裝工藝中各步驟的結(jié)構(gòu)剖面示意圖;
圖2為本實(shí)施例二中提供的一種芯片的封裝工藝一步驟的結(jié)構(gòu)剖面示意圖;
圖3為本實(shí)施例三中提供的一種芯片的封裝結(jié)構(gòu)剖面示意圖;
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明??梢岳斫獾氖?,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用于解釋本發(fā)明,而非對(duì)本發(fā)明的限定。另外還需要說(shuō)明的是,為了便于描述,附圖中僅示出了與本發(fā)明相關(guān)的部分而非全部結(jié)構(gòu)。
實(shí)施例一
圖1A是本發(fā)明實(shí)施例一中提供的一種芯片的封裝工藝流程示意圖,圖1B-1F是本發(fā)明實(shí)施例一中提供的一種芯片的封裝工藝中各步驟的結(jié)構(gòu)剖面示意圖。參考圖1A-1F,本實(shí)施例提供的封裝工藝具體包括如下步驟:
步驟110、提供襯底,在襯底中形成腔體。
參考圖1B,通過(guò)刻蝕、電鍍、注塑、壓鑄等工藝,可以制出帶有腔體111的襯底11。如果芯片的功率較大,則可以選用金屬襯底來(lái)封裝芯片;如果芯片,是高頻率芯片,則可以選用陶瓷襯底來(lái)封裝芯片。實(shí)際設(shè)計(jì)中,會(huì)根據(jù)芯片的特點(diǎn)來(lái)選擇合適的襯底材料。
步驟120、將至少一個(gè)設(shè)置有凸臺(tái)的芯片設(shè)置在腔體的底面,并使襯底的上表面高于芯片的電極上表面。
參考圖1C,芯片12可以有多個(gè),圖中示意性的僅畫出一個(gè),。在芯片12的電極上形成有凸臺(tái)121,凸臺(tái)121用于延伸芯片12的電極,使其能夠與其他層相連接,比如與導(dǎo)線層中的導(dǎo)線連接。在形成凸臺(tái)121之后,將帶有凸臺(tái)121的芯片12貼在腔體111的底面上,可以采用貼片工藝來(lái)實(shí)現(xiàn)芯片的貼片過(guò)程。另外,襯底11的上表面高于芯片12的電極上表面,這樣芯片就會(huì)完全處于腔體111之中,利于對(duì)芯片進(jìn)行更完善的保護(hù)。
步驟130、在腔體中形成保護(hù)層,并在保護(hù)層和襯底上形成與各凸臺(tái)上表面電連接的多條導(dǎo)線。
參考圖1D,在腔體中填充保護(hù)層13,保護(hù)層13完全覆蓋在芯片12之上。在形成保護(hù)層13后,在其上方形成與各凸臺(tái)121的上表面電連接的多條導(dǎo)線14,從而將各芯片12的電極引出到導(dǎo)線14上。
步驟140、在多條導(dǎo)線和保護(hù)層上形成絕緣層,并在絕緣層上形成至少一個(gè)窗口。
參考圖1E,在所有導(dǎo)線14和保護(hù)層13上形成絕緣層15,在絕緣層15中形成至少一個(gè)窗口151,窗口151用于將第一導(dǎo)線14的表面露出。在形成窗口151時(shí),可以選擇刻蝕工藝或者其他工藝來(lái)完成這一過(guò)程。
步驟150、通過(guò)窗口設(shè)置與各導(dǎo)線電連接的焊球。
參考圖1F,在形成窗口151后,在窗口151所在位置形成與各導(dǎo)線14電連接的焊球16,從而通過(guò)焊球16將芯片12的電極引出。
可選的,在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上,在提供襯底之前,包括:在芯片12的各電極上分別形成凸臺(tái)121??梢赃x擇通過(guò)電鍍、植球或印刷等工藝在芯片12的各電極上形成凸臺(tái)121。
可選的,在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上,凸臺(tái)121可以為金屬塊或金屬柱。根據(jù)實(shí)際需要,凸臺(tái)也可以設(shè)計(jì)為其他形狀。
可選的,在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上,襯底11可以由金屬、塑料、陶瓷或樹脂中的至少一種構(gòu)成。根據(jù)要封裝保護(hù)的芯片12的特點(diǎn),可以選擇相應(yīng)的襯底材料來(lái)形成襯底,使得能夠更有效的保護(hù)芯片12。
可選的,在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上,導(dǎo)線14可以為金屬線,根據(jù)實(shí)際需要,也可以為其他導(dǎo)電材料,比如透明電極材料等。
可選的,在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上,芯片為有源芯片或無(wú)源芯片。
本發(fā)明提供了一種芯片的封裝工藝,首先在襯底中形成腔體,將至少一個(gè)設(shè)置有凸臺(tái)的芯片設(shè)置在腔體的底面,并使襯底的上表面高于芯片的電極上表面,在腔體中形成保護(hù)層,通過(guò)使用腔體和保護(hù)層使得芯片被密封起來(lái),避免被損傷;然后在保護(hù)層和襯底上形成與各凸臺(tái)上表面電連接的多條導(dǎo)線,在多條導(dǎo)線和保護(hù)層上形成絕緣層,并在絕緣層上形成至少一個(gè)窗口,以設(shè)置與各導(dǎo)線電連接的焊球,通過(guò)使用多條導(dǎo)線和凸臺(tái)將芯片的電極引出到焊球上,使得通過(guò)焊球能夠與芯片進(jìn)行數(shù)據(jù)傳輸。
實(shí)施例二
本實(shí)施例以上述實(shí)施例為基礎(chǔ),將所述在所述腔體中形成保護(hù)層具體為:處理所述保護(hù)層和各所述凸臺(tái)以露出各所述凸臺(tái)的上表面,且使各所述凸臺(tái)的上表面、所述保護(hù)層的上表面與所述襯底的上表面平齊。
圖2為本實(shí)施例二中提供的一種芯片的封裝工藝一步驟的結(jié)構(gòu)剖面示意圖,參考圖2,處理保護(hù)層13和各凸臺(tái)121以露出各凸臺(tái)121的上表面,在形成保護(hù)層13后,保護(hù)層13一般會(huì)覆蓋在各凸臺(tái)121的上表面,則需要對(duì)保護(hù)層和各凸臺(tái)121進(jìn)行研磨或者刻蝕,使各凸臺(tái)121的上表面漏出,且使各凸臺(tái)121的上表面、保護(hù)層13的上表面與襯底11的上表面平齊。
可選的,在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上,在所述保護(hù)層和所述襯底上形成與各所述凸臺(tái)上表面電連接的多條導(dǎo)線包括:采用重布線層工藝在所述保護(hù)層和所述襯底上形成與各所述凸臺(tái)上表面電連接的多條導(dǎo)線。具體的,采用重布線層工藝在保護(hù)層13和襯底11上上形成與各凸臺(tái)121上表面電連接的導(dǎo)線。
可選的,在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上,在所述提供襯底之前,包括:在所述芯片的各電極上分別形成凸臺(tái)。具體的,選用在芯片12的電極表面進(jìn)行電鍍、植球和/或印刷等工藝來(lái)形成凸臺(tái)121。
本發(fā)明提供了一種芯片的封裝工藝,首先在襯底中形成腔體,將至少一個(gè)設(shè)置有凸臺(tái)的芯片設(shè)置在腔體的底面,并使襯底的上表面高于芯片的電極上表面,處理保護(hù)層和各凸臺(tái)以露出各凸臺(tái)的上表面,且使各凸臺(tái)的上表面、保護(hù)層的上表面與襯底的上表面平齊,通過(guò)使用腔體和保護(hù)層使得芯片被密封起來(lái),避免被損傷;然后在保護(hù)層和襯底上形成與各凸臺(tái)上表面電連接的多條導(dǎo)線,在多條導(dǎo)線和保護(hù)層上形成絕緣層,并在絕緣層上形成至少一個(gè)窗口,以設(shè)置與各導(dǎo)線電連接的焊球,通過(guò)使用多條導(dǎo)線和凸臺(tái)將芯片的電極引出到焊球上,使得通過(guò)焊球能夠與芯片進(jìn)行數(shù)據(jù)傳輸。
實(shí)施例三
圖3為本實(shí)施例三中提供的一種芯片的封裝結(jié)構(gòu)剖面示意圖,參考圖3,本發(fā)明實(shí)施例中提供的一種芯片的封裝結(jié)構(gòu),具體包括:襯底31、至少一個(gè)芯片32、保護(hù)層33、多條第一導(dǎo)線34、絕緣層35和多個(gè)焊球36。
參考圖3,具體的,所述襯底31中形成有腔體;
至少一個(gè)芯片32,設(shè)置在所述腔體的底面,所述芯片32的電極上形成有凸臺(tái)321,所述芯片32的電極上表面低于所述襯底31的上表面;
保護(hù)層33,形成所述腔體中;
多條導(dǎo)線34,形成于所述保護(hù)層33和所述襯底31上,且與各所述凸臺(tái)321上表面電連接;
絕緣層35,形成于所述導(dǎo)線34和所述保護(hù)層33上,所述絕緣層35上形成有至少一個(gè)窗口;
多個(gè)焊球36,形成于所述絕緣層35上,通過(guò)所述至少一個(gè)窗口與各所述導(dǎo)線34電連接。
本發(fā)明實(shí)施例提供了一種芯片的封裝結(jié)構(gòu),首先在襯底中形成腔體,將至少一個(gè)設(shè)置有凸臺(tái)的芯片設(shè)置在腔體的底面,并使襯底的上表面高于芯片的電極上表面,在腔體中形成保護(hù)層,通過(guò)使用腔體和保護(hù)層使得芯片被密封起來(lái),避免被損傷;然后在保護(hù)層和襯底上形成與各凸臺(tái)上表面電連接的多條導(dǎo)線,在多條導(dǎo)線和保護(hù)層上形成絕緣層,并在絕緣層上形成至少一個(gè)窗口,以設(shè)置與各導(dǎo)線電連接的焊球,通過(guò)使用多條導(dǎo)線和凸臺(tái)將芯片的電極引出到焊球上,使得通過(guò)焊球能夠與芯片進(jìn)行數(shù)據(jù)傳輸。
注意,上述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例及所運(yùn)用技術(shù)原理。本領(lǐng)域技術(shù)人員會(huì)理解,本發(fā)明不限于這里所述的特定實(shí)施例,對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)能夠進(jìn)行各種明顯的變化、重新調(diào)整和替代而不會(huì)脫離本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此,雖然通過(guò)以上實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了較為詳細(xì)的說(shuō)明,但是本發(fā)明不僅僅限于以上實(shí)施例,在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的情況下,還可以包括更多其他等效實(shí)施例,而本發(fā)明的范圍由所附的權(quán)利要求范圍決定。