本實(shí)用新型涉及一種刻蝕系統(tǒng)，具體為一種光伏硅片均勻刻蝕裝置，屬于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

半導(dǎo)體制造工藝是一種平面制造工藝，該工藝結(jié)合光刻、刻蝕、沉積、離子注入多種工藝，需要在同一襯底上形成大量各種類型的復(fù)雜器件，并將其互相連接以具有完整的電子功能。其中，任何一步的工藝出現(xiàn)偏差，都可能會(huì)造成電路的性能參數(shù)偏離設(shè)計(jì)值。目前，隨著超大規(guī)模集成電路的器件特征尺寸不斷地比例縮小，集成度不斷地提高，對(duì)各步工藝的控制及其工藝結(jié)果的精確度提出了更高的要求，刻蝕，它是半導(dǎo)體制造工藝，微電子制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當(dāng)重要的步驟，目前的刻蝕系統(tǒng)只能調(diào)整一個(gè)刻蝕參數(shù)即刻蝕時(shí)間來控制目標(biāo)值，而不能調(diào)整刻蝕的均勻性，導(dǎo)致生產(chǎn)出的產(chǎn)品合格率大大降低，增大生產(chǎn)成本，因此針對(duì)上述問題，我們提出了一種光伏硅片均勻刻蝕裝置。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型提供一種光伏硅片均勻刻蝕裝置，通過控制終端內(nèi)設(shè)置有刻蝕均勻系統(tǒng)，解決了現(xiàn)有的刻蝕系統(tǒng)刻蝕不均勻的問題。

為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了如下的技術(shù)方案：

本實(shí)用新型提供一種光伏硅片均勻刻蝕裝置，包括運(yùn)行控制器、進(jìn)料口、刻蝕槽、硅片清洗噴頭、堿洗槽、去PSG槽、分刀式吹干機(jī)和出料口，所述控制終端底側(cè)設(shè)有進(jìn)料口，所述進(jìn)料口與刻蝕槽固定連接，所述刻蝕槽內(nèi)安裝有硅片清洗噴頭，所述刻蝕槽一端與堿洗槽固定連接，所述堿洗槽一端與去PSG槽固定連接，所述去PSG槽一端與分刀式吹干機(jī)連接，所述分刀式吹干機(jī)一端設(shè)置有出料口。

作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述堿洗槽內(nèi)設(shè)置有所述硅片清洗噴頭。

作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述去PSG槽內(nèi)設(shè)置有所述硅片清洗噴頭。

作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述刻蝕槽與所述堿洗槽內(nèi)設(shè)有多種強(qiáng)腐蝕性化學(xué)藥品。

本實(shí)用新型所達(dá)到的有益效果是：

本實(shí)用新型適應(yīng)性強(qiáng)，表面刻蝕均勻性好、對(duì)硅片損傷少，幾乎適用于所有的金屬、玻璃、塑料等材料，相對(duì)于傳統(tǒng)的刻蝕系統(tǒng)，本實(shí)用新型通過控制終端收集數(shù)據(jù)，對(duì)收集到的數(shù)據(jù)進(jìn)行分析，通過調(diào)整刻蝕均勻性系統(tǒng)調(diào)整刻蝕均勻性，有效地提高工作效率，具有良好的經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益，適宜推廣使用。

附圖說明

附圖用來提供對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與本實(shí)用新型的實(shí)施例一起用于解釋本實(shí)用新型，并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的限制。

在附圖中：

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)圖圖；

圖中標(biāo)號(hào)：1、控制終端；2、進(jìn)料口；3、刻蝕槽；4、硅片清洗噴頭；5、堿洗槽；6、去PSG槽；7、分刀式吹干機(jī)；8、出料口。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行說明，應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的優(yōu)選實(shí)施例僅用于說明和解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。

實(shí)施例：如圖1所示，本實(shí)用新型提供一種光伏硅片均勻刻蝕裝置，包括控制終端1、進(jìn)料口2、刻蝕槽3、硅片清洗噴頭4、堿洗槽5、去PSG槽6、分刀式吹干機(jī)7和出料口8，控制終端1底側(cè)設(shè)有進(jìn)料口2，進(jìn)料口2與刻蝕槽3固定連接，刻蝕槽3內(nèi)安裝有硅片清洗噴頭4，刻蝕槽3一端與堿洗槽5固定連接，堿洗槽5一端與去PSG槽6固定連接，去PSG槽6一端與分刀式吹干機(jī)7連接，分刀式吹干機(jī)7一端設(shè)置有出料口8。

堿洗槽5內(nèi)設(shè)置有硅片清洗噴頭4，硅片清洗噴頭4可以有效清洗產(chǎn)品在堿洗槽5內(nèi)洗滌時(shí)所粘上的堿性物質(zhì)。

去PSG槽6內(nèi)設(shè)置有硅片清洗噴頭4，硅片清洗噴頭4可以有效清洗產(chǎn)品在PSG槽6內(nèi)粘上的雜質(zhì)。

刻蝕槽3與堿洗槽5內(nèi)設(shè)有多種強(qiáng)腐蝕性化學(xué)藥品，刻蝕槽3的酸性物質(zhì)對(duì)產(chǎn)品起到了很好地刻蝕作用，堿洗槽5內(nèi)的強(qiáng)堿物質(zhì)對(duì)于強(qiáng)酸可以起到很好的一個(gè)中和作用。

本實(shí)用新型在使用時(shí)，啟動(dòng)設(shè)備，物料從進(jìn)料口進(jìn)入刻蝕槽內(nèi)，在蝕槽內(nèi)先對(duì)物料進(jìn)行噴蠟，噴蠟完成后使用KOH和BDG對(duì)產(chǎn)品去除蠟和多孔硅，之后使用HF和HCL對(duì)物料去除磷硅玻璃和金屬離子，通過控制終端收集數(shù)據(jù)，對(duì)收集到的數(shù)據(jù)進(jìn)行分析，通過調(diào)整刻蝕均勻系統(tǒng)調(diào)整刻蝕均勻性，刻蝕完成后使用硅片清洗噴頭對(duì)物料進(jìn)行清洗，在堿洗槽5內(nèi)的強(qiáng)堿物質(zhì)可 以很好對(duì)在刻蝕槽3內(nèi)粘上的強(qiáng)酸物質(zhì)起到中和作用，在進(jìn)行清洗和烘干后就可以出料。

本實(shí)用新型所達(dá)到的有益效果是：

本實(shí)用新型適應(yīng)性強(qiáng)，表面刻蝕均勻性好、對(duì)硅片損傷少，幾乎適用于所有的金屬、玻璃、塑料等材料，相對(duì)于傳統(tǒng)的刻蝕系統(tǒng)，本實(shí)用新型通過控制終端收集數(shù)據(jù)，對(duì)收集到的數(shù)據(jù)進(jìn)行分析，通過調(diào)整刻蝕均勻系統(tǒng)調(diào)整刻蝕均勻性，有效地提高工作效率，具有良好的經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益，適宜推廣使用。

最后應(yīng)說明的是：以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本實(shí)用新型，盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。