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      一種潔凈室用晶片清洗工作臺的制作方法

      文檔序號:11021077閱讀:353來源:國知局
      一種潔凈室用晶片清洗工作臺的制作方法
      【專利摘要】一種潔凈室用晶片清洗工作臺,涉及空氣凈化裝置領(lǐng)域,尤其是一種潔凈室用晶片清洗工作臺,該工作臺是一個柜體,該柜體分為上中下三個部分,上部為空氣循環(huán)系統(tǒng),中部為工作區(qū)域,下部是一個支撐臺。本實(shí)用新型的一種潔凈室用晶片清洗工作臺,設(shè)計科學(xué),使用方便,把清洗窗口、甩干窗口及驗(yàn)片窗口整合在同一操作臺上,實(shí)現(xiàn)了在及時排出清洗晶片產(chǎn)生的有害氣體的同時,減少了晶片再次受到沾污的機(jī)會,大大提高了生產(chǎn)效率。
      【專利說明】
      一種潔凈室用晶片清洗工作臺
      技術(shù)領(lǐng)域
      [0001]本實(shí)用新型涉及空氣凈化裝置領(lǐng)域,尤其是一種潔凈室用晶片清洗工作臺。
      【背景技術(shù)】
      [0002]半導(dǎo)體器件的性能、穩(wěn)定性和電路的成品率受襯底表面化學(xué)沾污和微粒沾污影響最大,因此對襯底表面進(jìn)行有效的清洗非常重要。在晶片清洗過程中,需要創(chuàng)建和維持超清潔的條件,嚴(yán)格地控制清潔環(huán)境,避免晶片再次受到沾污。目前潔凈室里用的晶片清洗臺大都是普通通風(fēng)柜,晶片容易受到污染,難于保持高潔凈度的表面,嚴(yán)重影響了企業(yè)的生產(chǎn)效率。
      【實(shí)用新型內(nèi)容】
      [0003]本實(shí)用新型所要解決的就是目前普通通風(fēng)柜不能避免晶片受到沾污,影響襯底清潔度的問題,提供一種潔凈室用晶片清洗工作臺。
      [0004]—種潔凈室用晶片清洗工作臺,其特征在于該工作臺是一個柜體,該柜體分為上中下三個部分,上部為空氣循環(huán)系統(tǒng),中部為工作區(qū)域,下部是一個支撐臺;其中:空氣循環(huán)系統(tǒng)包括高效過濾器、靜壓箱、風(fēng)機(jī)和抽風(fēng)管,高效過濾器頂端設(shè)置靜壓箱,靜壓箱頂部開口處設(shè)置有風(fēng)機(jī),靜壓箱后側(cè)中央設(shè)置抽風(fēng)管;工作區(qū)域分為操作區(qū)和流通區(qū),操作區(qū)包括矩形橫桿、垂直隔板和操作窗口,矩形橫桿底端安裝操作窗口,操作窗口通過兩塊垂直隔板分隔為清洗窗口、甩干窗口及驗(yàn)片窗口,清洗窗口中設(shè)置有清洗槽,清洗槽里設(shè)置擺放臺面,擺放臺面底部設(shè)置支撐腳,甩干窗口和驗(yàn)片窗口中設(shè)置載物隔板,流通區(qū)由前擋板、水平隔板、導(dǎo)流板、斜向?qū)Я靼濉⒈嘲搴蜕w板構(gòu)成,載物隔板和導(dǎo)流板設(shè)置通風(fēng)圓孔。
      [0005]所述的抽風(fēng)管上安裝手動閥門。
      [0006]所述的甩干窗口正面設(shè)置塑鋼窗,塑鋼窗通過合頁固定在矩形橫桿上。
      [0007]所述的垂直隔板底端設(shè)置矩形通道。
      [0008]本實(shí)用新型的一種潔凈室用晶片清洗工作臺,設(shè)計科學(xué),使用方便,把清洗窗口、甩干窗口及驗(yàn)片窗口整合在同一操作臺上,實(shí)現(xiàn)了在及時排出清洗晶片產(chǎn)生的有害氣體的同時,減少了晶片再次受到沾污的機(jī)會,大大提高了生產(chǎn)效率。
      【附圖說明】

      [0009]圖1為本實(shí)用新型的俯視圖;
      [0010]圖2為本實(shí)用新型的側(cè)視圖;
      [0011]圖3為本實(shí)用新型的正視圖;
      [0012]圖4為本實(shí)用新型側(cè)視圖的剖視圖;
      [0013]圖5為本實(shí)用新型架體俯視圖的剖視圖;
      [0014]圖6為本實(shí)用新型的正面剖視圖。
      [0015]其中,I支撐腳,2風(fēng)機(jī),3靜壓箱,4抽風(fēng)管,5手動閥門,6蓋板,7側(cè)板,8矩形橫桿,9背板,10高效過濾器,11垂直隔板,12通風(fēng)圓孔,13清洗窗口,14甩干窗口,15驗(yàn)片窗口,16塑鋼窗,17導(dǎo)流板,18合頁,19斜向?qū)Я靼澹?0操作窗口,21前擋板,22載物隔板,23水平隔板,24矩形通道、25擺放臺面、26清洗槽。
      【具體實(shí)施方式】
      [0016]下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
      [0017]實(shí)施例1:一種潔凈室用晶片清洗工作臺,該工作臺是一個柜體,該柜體分為上中下三個部分,上部為空氣循環(huán)系統(tǒng),中部為工作區(qū)域,下部是一個支撐臺;其中:空氣循環(huán)系統(tǒng)包括高效過濾器10、靜壓箱3、風(fēng)機(jī)2和抽風(fēng)管4,高效過濾器10頂端設(shè)置靜壓箱3,靜壓箱3頂部開口處設(shè)置有風(fēng)機(jī)2,靜壓箱3后側(cè)中央設(shè)置抽風(fēng)管4,抽風(fēng)管4上安裝手動閥門5,方便控制抽風(fēng)管4進(jìn)行抽風(fēng);工作區(qū)域分為操作區(qū)和流通區(qū),操作區(qū)包括矩形橫桿8、垂直隔板11和操作窗口 20,矩形橫桿8底端安裝操作窗口 20,操作窗口 20通過兩塊垂直隔板11分隔為清洗窗口 13、甩干窗口 14及驗(yàn)片窗口 15,垂直隔板11底端設(shè)置矩形通道24,方便傳送晶片,清洗窗口 13中設(shè)置有清洗槽26,清洗槽26里設(shè)置擺放臺面25,擺放臺面25底部設(shè)置支撐腳I,甩干窗口 14和驗(yàn)片窗口 15中設(shè)置載物隔板22,方便在甩干和驗(yàn)片的過程中擺放晶片,甩干窗口 14正面設(shè)置塑鋼窗16,塑鋼窗16通過合頁18固定在矩形橫桿8上,流通區(qū)由前擋板21、水平隔板23、導(dǎo)流板17、斜向?qū)Я靼?9、背板9和蓋板6構(gòu)成,載物隔板22和導(dǎo)流板17設(shè)置通風(fēng)圓孔12,保證清洗工作臺通風(fēng)良好。
      [0018]清洗晶片時,潔凈室內(nèi)空氣首先由風(fēng)機(jī)2壓入上靜壓箱3中,然后經(jīng)過高效空氣過濾器10吹出高潔凈空氣流經(jīng)清洗窗口 13、甩干窗口 14及驗(yàn)片窗口 15,打開手動閥門5,清洗窗口 13中的高潔凈空氣和有害氣體經(jīng)導(dǎo)流板17上的通風(fēng)圓孔12由抽風(fēng)管4排出潔凈室外,同時,甩干窗口 14和驗(yàn)片窗口 15中的高潔凈空氣經(jīng)載物隔板22和導(dǎo)流板17上的通風(fēng)圓孔12由抽風(fēng)管4排出潔凈室外,在空氣流通良好的環(huán)境下將晶片依次通過清洗窗口 13、甩干窗口14和驗(yàn)片窗口 15進(jìn)行清洗、甩干及驗(yàn)片,方便有效的進(jìn)行晶片的清潔工作。
      [0019]以上僅為本實(shí)用新型的一種實(shí)施方式,只要使用了以上所述的結(jié)構(gòu),均應(yīng)落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種潔凈室用晶片清洗工作臺,其特征在于該工作臺是一個柜體,該柜體分為上中下三個部分,上部為空氣循環(huán)系統(tǒng),中部分為工作區(qū)域,下部分是一個支撐臺;其中:空氣循環(huán)系統(tǒng)包括高效過濾器(10)、靜壓箱(3)、風(fēng)機(jī)(2)和抽風(fēng)管(4),高效過濾器(10)頂端設(shè)置靜壓箱(3),靜壓箱(3)頂部開口處設(shè)置有風(fēng)機(jī)(2),靜壓箱(3)后側(cè)中央設(shè)置抽風(fēng)管(4);工作區(qū)域分為操作區(qū)和流通區(qū),操作區(qū)包括矩形橫桿(8)、垂直隔板(11)和操作窗口(20),矩形橫桿(8)底端安裝操作窗口(20),操作窗口(20)通過兩塊垂直隔板(11)分隔為清洗窗口(13 )、甩干窗口( 14)及驗(yàn)片窗口( 15 ),清洗窗口( 13)中設(shè)置有清洗槽(26 ),清洗槽(26 )里設(shè)置擺放臺面(25),擺放臺面(25)底部設(shè)置支撐腳(1),甩干窗口(14)和驗(yàn)片窗口(15)中設(shè)置載物隔板(22),流通區(qū)由前擋板(21)、水平隔板(23)、導(dǎo)流板(17)、斜向?qū)Я靼?19)、背板(9)和蓋板(6)構(gòu)成,載物隔板(22)和導(dǎo)流板(17)設(shè)置通風(fēng)圓孔(12)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種潔凈室用晶片清洗工作臺,其特征在于所述的抽風(fēng)管(4)上安裝手動閥門(5)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種潔凈室用晶片清洗工作臺,其特征在于所述的甩干窗口(14)正面設(shè)置塑鋼窗(16),塑鋼窗(16)通過合頁固定在矩形橫桿(8)上。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種潔凈室用晶片清洗工作臺,其特征在于所述的垂直隔板(11)底端設(shè)置矩形通道(24)。
      【文檔編號】H01L21/67GK205723474SQ201620672887
      【公開日】2016年11月23日
      【申請日】2016年6月30日
      【發(fā)明人】肖祥江, 李蘇濱, 惠峰, 李雪峰, 柳廷龍, 李武芳, 周, 周一, 楊海超, 候振海, 囤國超, 田東
      【申請人】云南中科鑫圓晶體材料有限公司, 昆明云鍺高新技術(shù)有限公司, 云南鑫耀半導(dǎo)體材料有限公司
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