1.一種顯示基板的制作方法，其特征在于，包括：
在襯底上依次形成開(kāi)關(guān)器件層和第一電極層；
形成圖形化像素定義層以及位于所述圖形化像素定義層上的圖形化疏水材料層，所述圖形化像素定義層定義出多個(gè)子像素區(qū)域；
依次在所述多個(gè)子像素區(qū)域內(nèi)形成有機(jī)發(fā)光層和第二電極層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，形成圖形化像素定義層以及位于所述圖形化像素定義層上的圖形化疏水材料層，包括：
在所述開(kāi)關(guān)器件層和所述第一電極層上形成像素定義層；
在所述像素定義層上形成疏水材料層；
在所述疏水材料層遠(yuǎn)離所述像素定義層的一側(cè)進(jìn)行曝光處理；
對(duì)所述像素定義層進(jìn)行顯影，以去除部分所述像素定義層以及位于所述部分像素定義層上的疏水材料層，獲得所述圖形化像素定義層以及所述圖形化疏水材料層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，采用旋轉(zhuǎn)式涂布或狹縫式涂布的方式將所述疏水材料層形成于所述像素定義層上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述圖形化疏水材料層的厚度取值范圍為0.1nm至20nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述圖形化像素定義層的厚度取值范圍為1μm至5μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述圖形化疏水材料層的材料包括含氟聚合物。
7.一種顯示基板，其特征在于，包括：
襯底；
形成在所述襯底上的開(kāi)關(guān)器件層；
形成在所述開(kāi)關(guān)器件層上的第一電極層；
形成在所述第一電極層上的圖形化像素定義層，所述圖形化像素定義層限定出多個(gè)子像素區(qū)域；
形成在所述圖形化像素定義層上的圖形化疏水材料層；
以及，形成在所述多個(gè)子像素區(qū)域內(nèi)的有機(jī)發(fā)光層和第二電極層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示基板，其特征在于，所述圖形化疏水材料層的厚度取值范圍為0.1nm至20nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示基板，其特征在于，所述圖形化疏水材料層的材料包括含氟聚合物。
10.一種顯示面板，其特征在于，包括權(quán)利要求7-9任一項(xiàng)所述的顯示基板。