本發(fā)明涉及金屬化鍍膜技術(shù)，尤其涉及一種電容器用錫鋅鋁金屬化鍍膜工藝。
背景技術(shù)：
金屬化薄膜電容是以有機(jī)塑料薄膜(常見(jiàn)薄膜材料有：聚乙酯、聚丙烯、聚碳酸酯等)做介質(zhì)，以金屬化薄膜(即在有機(jī)塑料薄膜的表面蒸鍍一層或多層金屬膜代替?zhèn)鹘y(tǒng)金屬箔)做電極，通過(guò)卷繞等方式制成的電容，具有優(yōu)異的電氣特性、高穩(wěn)定性、長(zhǎng)壽命以及體積小等特性，可用于多種場(chǎng)所。
因?yàn)榻饘倩∧拥暮穸冗h(yuǎn)小于金屬箔的厚度，因此卷繞后體積比金屬箔式電容體積小很多。金屬化薄膜電容的最大優(yōu)點(diǎn)是“自愈”特性。所謂自愈特性就是假如薄膜介質(zhì)由于在某點(diǎn)存在缺陷以及在過(guò)電壓作用下出現(xiàn)擊穿短路，而擊穿點(diǎn)的金屬化層可在電弧作用下瞬間熔化蒸發(fā)而形成一個(gè)很小的無(wú)金屬區(qū)，使電容的兩個(gè)極片重新相互絕緣而仍能繼續(xù)工作，因此極大提高了電容器工作的可靠性。由于金屬化薄膜電容器存在諸多特點(diǎn)而被廣泛用于家電行業(yè)，如冰箱、洗衣機(jī)、電風(fēng)扇等。
目前金屬化薄膜電容器行業(yè)普遍采用的是鋁和鋅復(fù)合金屬化薄膜鍍層工藝，即在真空條件下，在基膜上先鍍一層金屬鋁用于打底，然后再鍍鋅，從而形成鋁在內(nèi)、鋅在外的雙層復(fù)合金屬薄膜層。鋅鋁復(fù)合金屬化薄膜的最大缺點(diǎn)就是金屬化薄膜在電容器制作和使用過(guò)程中極易出現(xiàn)空氣氧化問(wèn)題，影響其性能。
為解決金屬化薄膜的空氣氧化問(wèn)題，目前國(guó)際已推出一種銀、鋅、鋁復(fù)合金屬化薄膜技術(shù)，即在真空條件下，在基膜上先鍍一層銀(屬于貴金屬)用于打底，然后再鍍鋅，最后再鍍鋁，金屬鋁與空氣中的氧發(fā)生氧化反應(yīng)形成al2o3，該al2o3均勻地覆蓋在金屬化薄膜的最外層形成致密的保護(hù)層，可以阻止內(nèi)部的金屬層繼續(xù)發(fā)生氧化反應(yīng)，從而降低或影響其性能。這種銀、鋅、鋁復(fù)合金屬化薄膜技術(shù)國(guó)內(nèi)也有少量的引進(jìn)，但由于該技術(shù)是采用貴金屬銀作為打底，成本高昂，所以該技術(shù)沒(méi)有在國(guó)內(nèi)被廣泛采用。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明是為了解決上述不足，提供了一種電容器用錫鋅鋁金屬化鍍膜工藝。
本發(fā)明的上述目的通過(guò)以下的技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)：一種電容器用錫鋅鋁金屬化鍍膜工藝，其特征在于：在真空條件下，先在基膜上蒸鍍一層錫做打底金屬，形成底錫層；然后在底錫層上再蒸鍍一層鋅，形成中間鋅層；最后在中間鋅層上再蒸鍍一層鋁，形成鋁外層；鋁外層與空氣中的氧元素發(fā)生化學(xué)反應(yīng)后形成al2o3，該al2o3均勻地覆蓋在金屬化薄膜的最外層，形成致密保護(hù)層。
所述底錫層的蒸鍍使用錫蒸發(fā)源，錫蒸發(fā)源采用金屬鉬或鎢等高熔點(diǎn)的金屬制作，將錫料放入其中，在真空條件下加熱到880-920℃，錫蒸汽鍍到基膜上。
所述中間鋅層的蒸鍍使用鋅蒸發(fā)源，鋅蒸發(fā)源的鋅料放在鐵槽內(nèi)，用鋅爐加熱至600～700℃，鋅蒸汽通過(guò)鋅噴嘴，鍍到基膜的底錫層上。
所述鋁外層的蒸鍍使用鋁蒸發(fā)源，鋁蒸發(fā)源采用了氮化硼蒸發(fā)舟，將8根或10根鋁絲通過(guò)送絲機(jī)構(gòu)送到鋁舟上熔化，鋁蒸汽鍍到基膜的中間鋅層上。
本發(fā)明的工藝能夠有效地保護(hù)內(nèi)部的金屬發(fā)生氧化，有效地解決了鋅、鋁復(fù)合金屬化薄膜的氧化問(wèn)題。同時(shí)采用金屬錫替代貴金屬銀作為打底金屬，降低了成本，有效改善了銀、鋅、鋁復(fù)合金屬化薄膜制作技術(shù)成本高昂、難以普及的缺點(diǎn)。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比的優(yōu)點(diǎn)是：本發(fā)明是采用錫、鋅、鋁復(fù)合金屬化薄膜技術(shù)，既能夠有效地解決鋅、鋁復(fù)合金屬化薄膜在制作和使用過(guò)程中的空氣氧化問(wèn)題，又極大程度地改善了銀、鋅、鋁復(fù)合金屬化薄膜制作技術(shù)成本高昂、難以普及的問(wèn)題。
附圖說(shuō)明
圖1是通過(guò)本發(fā)明工藝制成的產(chǎn)品鍍膜結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步詳述。
如圖1所示，一種電容器用錫鋅鋁金屬化鍍膜工藝，在真空條件下，先在基膜1上蒸鍍一層錫做打底金屬，形成底錫層2；然后在底錫層2上再蒸鍍一層鋅，形成中間鋅層3；最后在中間鋅層3上再蒸鍍一層鋁，形成鋁外層4；鋁外層4與空氣中的氧元素發(fā)生化學(xué)反應(yīng)后形成al2o3，該al2o3均勻地覆蓋在金屬化薄膜的最外層，形成致密保護(hù)層5。
所述底錫層的蒸鍍使用錫蒸發(fā)源，錫蒸發(fā)源采用金屬鉬或鎢等高熔點(diǎn)的金屬制作，將錫料放入其中，在真空條件下加熱到880-920℃，錫蒸汽鍍到基膜上。
所述中間鋅層的蒸鍍使用鋅蒸發(fā)源，鋅蒸發(fā)源的鋅料放在鐵槽內(nèi)，用鋅爐加熱至600～700℃，鋅蒸汽通過(guò)鋅噴嘴，鍍到基膜的底錫層上。
所述鋁外層的蒸鍍使用鋁蒸發(fā)源，鋁蒸發(fā)源采用了氮化硼蒸發(fā)舟，將8根或10根鋁絲通過(guò)送絲機(jī)構(gòu)送到鋁舟上熔化，鋁蒸汽鍍到基膜的中間鋅層上。
以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專(zhuān)利范圍，凡是利用本發(fā)明說(shuō)明書(shū)及實(shí)施例內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專(zhuān)利保護(hù)范圍內(nèi)。