本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種oled顯示面板的制作方法及oled顯示面板。

背景技術(shù)：

有機發(fā)光二極管顯示裝置(organiclightemittingdisplay，oled)具有自發(fā)光、驅(qū)動電壓低、發(fā)光效率高、響應(yīng)時間短、清晰度與對比度高、近180°視角、使用溫度范圍寬，可實現(xiàn)柔性顯示與大面積全色顯示等諸多優(yōu)點，被業(yè)界公認為是最有發(fā)展?jié)摿Φ娘@示裝置。

oled器件通常包括：基板、設(shè)于基板上的陽極、設(shè)于陽極上的空穴注入層、設(shè)于空穴注入層上的空穴傳輸層、設(shè)于空穴傳輸層上的發(fā)光層、設(shè)于發(fā)光層上的電子傳輸層、設(shè)于電子傳輸層上的電子注入層、及設(shè)于電子注入層上的陰極。oled器件的發(fā)光原理為半導(dǎo)體材料和有機發(fā)光材料在電場驅(qū)動下，通過載流子注入和復(fù)合導(dǎo)致發(fā)光。具體的，oled器件通常采用ito像素電極和金屬電極分別作為器件的陽極和陰極，在一定電壓驅(qū)動下，電子和空穴分別從陰極和陽極注入到電子傳輸層和空穴傳輸層，電子和空穴分別經(jīng)過電子傳輸層和空穴傳輸層遷移到發(fā)光層，并在發(fā)光層中相遇，形成激子并使發(fā)光分子激發(fā)，后者經(jīng)過輻射弛豫而發(fā)出可見光。

在有源矩陣(activematrix，am)有機發(fā)光二極管顯示裝置中,控制oled器件的薄膜晶體管(thinfilmtransistor，tft)通常制作于陽極一側(cè)，這就要求tft必須是p型，而常規(guī)的非晶硅tft和多晶硅tft的n型遷移率明顯大于其p型遷移率。若采用倒置型oled器件結(jié)構(gòu)便能夠使性能優(yōu)越的n型薄膜晶體管應(yīng)用于amoled顯示裝置的像素電路中，增加了amoled顯示裝置驅(qū)動電路設(shè)計的選擇。

噴墨打印(ink-jetprinting，ijp)技術(shù)具有材料利用率高等優(yōu)點，是解決大尺寸oled顯示器成本問題的關(guān)鍵技術(shù)，ijp技術(shù)在oled器件發(fā)光層的制備中，相比于傳統(tǒng)的真空蒸鍍工藝，具有節(jié)省材料、制程條件溫和、成膜更均勻等諸多優(yōu)點，所以更具應(yīng)用潛力。此方法是利用多個噴嘴將功能材料墨水滴入預(yù)定的像素區(qū)域，待溶劑揮發(fā)后形成所需圖案。

金屬納米粒子以其特殊的體積效應(yīng)、量子尺寸效應(yīng)、表面效應(yīng)和宏觀量子隧道效應(yīng)提供了諸多優(yōu)異的光學(xué)和電學(xué)性能。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種oled顯示面板的制作方法，oled器件采用倒置型結(jié)構(gòu)，且陰極與發(fā)光層之間設(shè)有包含電子傳輸材料和金屬納米粒子的界面修飾層，可以有效提升oled器件的綜合性能，且制作方法簡單。

本發(fā)明的目的還在于提供一種oled顯示面板，oled器件采用倒置型結(jié)構(gòu)，且陰極與發(fā)光層之間設(shè)有包含電子傳輸材料和金屬納米粒子的界面修飾層，可以有效提升oled器件的綜合性能，且制作方法簡單。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種oled顯示面板的制作方法，所述oled顯示面板包括襯底基板、及設(shè)于所述襯底基板上的數(shù)個oled器件，所述oled器件為倒置型oled器件，包括由下至上依次設(shè)置的陰極、發(fā)光層、及陽極，所述陰極與發(fā)光層之間設(shè)有界面修飾層；

所述界面修飾層的制作方法為：

提供界面修飾打印液，所述界面修飾打印液包括電子傳輸材料、金屬納米粒子、表面張力調(diào)節(jié)劑、及粘度調(diào)節(jié)劑，其中，所述金屬納米粒子為表面經(jīng)過修飾的金屬納米粒子，以抑制金屬納米粒子之間的團聚，并增強金屬納米粒子的溶解度，采用噴墨打印的方式將所述界面修飾打印液涂布在陰極上，形成包含電子傳輸材料與金屬納米粒子的界面修飾層。

所述金屬納米粒子為金納米粒子、銀納米粒子、或銅納米粒子；

所述界面修飾打印液中，所述金屬納米粒子為有機胺修飾的金屬納米粒子；

所述電子傳輸材料為氧化鋅、或氧化鈦。

所述表面張力調(diào)節(jié)劑為共溶劑、表面活性劑、咪唑及其衍生物、苯酚、對苯二酚中的一種或幾種的組合；

所述粘度調(diào)節(jié)劑為醇、醚、酯、酚、胺中的一種或幾種的組合。

所述oled器件中，所述陽極與發(fā)光層之間設(shè)有空穴注入層、及空穴傳輸層中的至少一種；

所述陽極的材料包括金、及銀中的至少一種。

本發(fā)明一優(yōu)選實施例中，所述的oled顯示面板的制作方法，具體包括如下步驟：

步驟s1、提供一襯底基板，在所述襯底基板上形成像素定義層，所述像素定義層上設(shè)有間隔設(shè)置的數(shù)個通孔；在所述數(shù)個通孔中分別形成數(shù)個陰極；

步驟s2、提供界面修飾打印液，在所述數(shù)個陰極上采用噴墨打印的方式涂布所述界面修飾打印液，分別得到數(shù)個界面修飾層；

步驟s3、在所述數(shù)個界面修飾層上分別形成數(shù)個發(fā)光層；在所述數(shù)個發(fā)光層上分別形成數(shù)個空穴傳輸層；在所述數(shù)個空穴傳輸層上分別形成數(shù)個陽極；從而在所述像素定義層上的數(shù)個通孔內(nèi)分別形成數(shù)個oled器件。

所述步驟s1中，采用磁控濺射的方法形成所述陰極，所述陰極的材料為透明導(dǎo)電金屬氧化物；

所述步驟s2中，所述界面修飾打印液中的電子傳輸材料為氧化鋅，所述金屬納米粒子為金納米粒子；

所述步驟s3中，采用噴墨打印的方法形成所述發(fā)光層；所述發(fā)光層的材料包括聚(9,9-二辛基芴-2,7-二基)；

所述步驟s3中，采用真空蒸鍍的方法形成所述空穴傳輸層與陽極；所述空穴傳輸層的材料為氧化鉬；所述陽極的材料為銀。

本發(fā)明還提供一種oled顯示面板，包括襯底基板、及設(shè)于所述襯底基板上的數(shù)個oled器件，所述oled器件為倒置型oled器件，包括由下至上依次設(shè)置的陰極、發(fā)光層、及陽極，所述陰極與發(fā)光層之間設(shè)有界面修飾層；

所述界面修飾層由界面修飾打印液通過噴墨打印的方法制作形成，所述界面修飾打印液包括電子傳輸材料、金屬納米粒子、表面張力調(diào)節(jié)劑、及粘度調(diào)節(jié)劑，其中，所述金屬納米粒子為表面經(jīng)過修飾的金屬納米粒子，以抑制金屬納米粒子之間的團聚，并增強金屬納米粒子的溶解度，即所述界面修飾層包含電子傳輸材料與金屬納米粒子。

所述金屬納米粒子為金納米粒子、銀納米粒子、或銅納米粒子；

所述界面修飾打印液中，所述金屬納米粒子為有機胺修飾的金屬納米粒子；

所述電子傳輸材料為氧化鋅、或氧化鈦；

所述表面張力調(diào)節(jié)劑為共溶劑、表面活性劑、咪唑及其衍生物、苯酚、對苯二酚中的一種或幾種的組合；

所述粘度調(diào)節(jié)劑為醇、醚、酯、酚、胺中的一種或幾種的組合；

所述陽極的材料包括金、及銀中的至少一種。

所述的oled顯示面板，還包括設(shè)于所述襯底基板上的像素定義層，所述像素定義層上設(shè)有間隔設(shè)置的數(shù)個通孔，所述數(shù)個oled器件分別設(shè)于所述數(shù)個通孔內(nèi)。

所述oled器件具體包括由下至上依次設(shè)置的陰極、界面修飾層、發(fā)光層、空穴傳輸層、及陽極。

所述陰極的材料為透明導(dǎo)電金屬氧化物；所述界面修飾層中，電子傳輸材料為氧化鋅，金屬納米粒子為金納米粒子；所述發(fā)光層的材料包括聚(9,9-二辛基芴-2,7-二基)；所述空穴傳輸層的材料為氧化鉬；所述陽極的材料為銀。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明提供的一種oled顯示面板的制作方法，采用倒置型結(jié)構(gòu)的oled器件，并采用噴墨打印技術(shù)由界面修飾打印液在oled器件的陰極與發(fā)光層之間制作界面修飾層，所述界面修飾打印液包括電子傳輸材料、金屬納米粒子、表面張力調(diào)節(jié)劑、及粘度調(diào)節(jié)劑，其中，所述金屬納米粒子為表面經(jīng)過修飾的金屬納米粒子，可以抑制金屬納米粒子之間的團聚，并增強金屬納米粒子的溶解度，即該界面修飾層為包含電子傳輸材料與金屬納米粒子的材料層，其電子傳輸材料可以增強載流子從陰極的注入和傳輸，金屬納米粒子通過其表面等離子共振所產(chǎn)生的強大的局部電場，可以增強電子的注入效率，通過將該界面修飾層引入到oled器件的陰極與發(fā)光層之間，可以有效提升oled器件的綜合性能，制作方法簡單。本發(fā)明的oled顯示面板，oled器件為倒置型oled器件，且陰極與發(fā)光層之間還設(shè)有界面修飾層，所述界面修飾層由界面修飾打印液通過噴墨打印的方法制作形成，所述界面修飾打印液包括電子傳輸材料、表面修飾的金屬納米粒子、表面張力調(diào)節(jié)劑、及粘度調(diào)節(jié)劑，通過將界面修飾層應(yīng)用到oled器件當中，可以有效提升oled器件的綜合性能，且制作方法簡單。

為了能更進一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容，請參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細說明與附圖，然而附圖僅提供參考與說明用，并非用來對本發(fā)明加以限制。

附圖說明

下面結(jié)合附圖，通過對本發(fā)明的具體實施方式詳細描述，將使本發(fā)明的技術(shù)方案及其它有益效果顯而易見。

附圖中，

圖1為本發(fā)明的oled顯示面板的制作方法的優(yōu)選實施例的流程圖；

圖2為本發(fā)明的oled顯示面板的制作方法的優(yōu)選實施例的步驟s1的示意圖；

圖3為本發(fā)明的oled顯示面板的制作方法的優(yōu)選實施例的步驟s2的示意圖；

圖4為本發(fā)明的oled顯示面板的制作方法的優(yōu)選實施例的步驟s3的示意圖暨本發(fā)明的oled顯示面板的優(yōu)選實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

為更進一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果，以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實施例及其附圖進行詳細描述。

本發(fā)明首先提供一種oled顯示面板的制作方法，所述oled顯示面板包括襯底基板10、及設(shè)于所述襯底基板10上的數(shù)個oled器件30，所述oled器件30為倒置型oled器件，包括由下至上依次設(shè)置的陰極31、發(fā)光層32、及陽極33，所述陰極31與發(fā)光層32之間設(shè)有界面修飾層34；

所述界面修飾層34的制作方法為：

提供界面修飾打印液，所述界面修飾打印液包括電子傳輸材料、金屬納米粒子、表面張力調(diào)節(jié)劑、及粘度調(diào)節(jié)劑，其中，所述金屬納米粒子為表面經(jīng)過修飾的金屬納米粒子，以抑制金屬納米粒子之間的團聚，并增強金屬納米粒子的溶解度，然后采用噴墨打印的方式將所述界面修飾打印液涂布在陰極31上，從而形成包含電子傳輸材料與金屬納米粒子的界面修飾層34。

具體地，界面修飾層34中的電子傳輸材料，主要用來增強載流子從陰極31的注入和傳輸，其可以采用氧化鋅(zno)、或氧化鈦(tiox)。

具體地，本發(fā)明將包含金屬納米粒子的界面修飾層34設(shè)置在陰極31與發(fā)光層32之間，主要在于利用金屬納米粒子表面等離子共振所產(chǎn)生的強大的局部電場，可以增強電子的注入效率，從而改善oled器件30的性能，所述金屬納米粒優(yōu)選為金、銀、銅等高導(dǎo)電性惰性金屬的納米粒子。

具體地，所述界面修飾打印液中，所述金屬納米粒子的表面具有有機胺配體，即所述金屬納米粒子為有機胺修飾的金屬納米粒子，一方面長鏈的有機胺配體可以有效地抑制金屬納米粒子之間的團聚，從而減少金屬納米粒子上的載流子陷阱，同時減弱激子在金屬納米粒子上的解離；另一方面，有機胺配體的引入，能夠增強金屬納米粒子在常見有機溶劑中的溶解度，使得制備的金屬納米粒子能夠更好的應(yīng)用于溶液加工制程當中。優(yōu)選地，所述有機胺為長鏈烷基胺，其碳鏈長度大于等于16。

具體地，所述表面張力調(diào)節(jié)劑為共溶劑、表面活性劑、咪唑及其衍生物、苯酚、對苯二酚中的一種或幾種的組合；

所述粘度調(diào)節(jié)劑為醇、醚、酯、酚、胺中的一種或幾種的組合，例如，所述粘度調(diào)節(jié)劑為多羥基醇、或二醇醚。

具體地，所述oled器件30中，所述陽極33與發(fā)光層32之間設(shè)有空穴注入層、及空穴傳輸層中的至少一種。

現(xiàn)有oled器件一般采用低功函數(shù)的金屬，如鎂(mg)、鈣(ca)、鋰(li)、銫(cs)作為電極，然而這些金屬的化學(xué)活潑性較高，容易使得器件性能退化，同時也增加了oled器件量產(chǎn)時的工藝控制難度。而本發(fā)明采用倒置型結(jié)構(gòu)的oled器件30，并同時選擇高功函數(shù)的金屬，如金(au)、銀(ag)等作為陽極33，則可有效提高oled器件30電極的穩(wěn)定性，從而有利于進一步提高器件的穩(wěn)定性和壽命。

具體地，所述陽極33的材料為高功函數(shù)的金屬，包括金、及銀中的至少一種。

具體地，如圖1所示，為本發(fā)明的oled顯示面板的制作方法的優(yōu)選實施例，包括如下步驟：

步驟s1、如圖2所示，提供一襯底基板10，在所述襯底基板10上形成像素定義層20，所述像素定義層20上設(shè)有間隔設(shè)置的數(shù)個通孔21；在所述數(shù)個通孔21中分別形成數(shù)個陰極31。

具體地，所述襯底基板10為帶有tft陣列的基板，且tft陣列中的tft為n型tft。

所述步驟s1中，采用磁控濺射的方法形成所述陰極31，所述陰極31的材料為透明導(dǎo)電金屬氧化物，優(yōu)選為氧化銦錫(indiumtinoxide，ito)。

具體地，所述陰極31的厚度為20nm-200nm。

步驟s2、如圖3所示，提供界面修飾打印液，在所述數(shù)個陰極31上采用噴墨打印的方式涂布所述界面修飾打印液，分別得到數(shù)個界面修飾層34。

具體地，所述界面修飾層34的厚度為1nm-200nm。

具體地，所述步驟s2中界面修飾層34中的電子傳輸材料為氧化鋅，金屬納米粒子為金納米粒子。所述界面修飾打印液的具體制備過程為：

1、有機胺修飾的金納米粒子及其溶液的制備：

1.1、將氯化金(aucl3)溶解在烷基胺的溶劑中。

1.2、對體系先抽真空然后通氮氣，反復(fù)操作三次，除掉體系中的水和氧氣。

1.3、升溫至體系回流，加熱攪拌至反應(yīng)完全，冷卻至室溫，即得到有機胺修飾的金納米粒子及其溶液。

2、制備zno納米粒子溶液，將zno納米粒子溶液與上述制得的金納米粒子溶液混合，在該混合液中加入表面張力調(diào)節(jié)劑、及粘度調(diào)節(jié)劑，調(diào)節(jié)其物理性質(zhì)使其適用于噴墨打印，得到界面修飾打印液。

步驟s3、如圖4所示，在所述數(shù)個界面修飾層34上分別形成數(shù)個發(fā)光層32；在所述數(shù)個發(fā)光層32上分別形成數(shù)個空穴傳輸層35；在所述數(shù)個空穴傳輸層35上分別形成數(shù)個陽極33；從而在所述像素定義層20上的數(shù)個通孔21內(nèi)分別形成數(shù)個oled器件30。

具體地，所述步驟s3中，采用噴墨打印的方法形成所述發(fā)光層32；所述發(fā)光層32的材料包括聚(9,9-二辛基芴-2,7-二基)(poly(9,9-di-noctylfluorenyl-2,7-diyl)，pfo)；所述聚(9,9-二辛基芴-2,7-二基)為藍色發(fā)光材料。

具體地，所述發(fā)光層32的厚度為1nm-100nm。

具體地，所述步驟s3中，采用真空蒸鍍的方法形成所述空穴傳輸層35與陽極33；所述空穴傳輸層35的材料為氧化鉬(moo3)；所述陽極33的材料為銀。

具體地，所述空穴傳輸層35的厚度為0.5nm-50nm，所述陽極33的厚度為10nm-2000nm。

本發(fā)明的oled顯示面板的制作方法，oled器件采用倒置型結(jié)構(gòu)，并采用噴墨打印技術(shù)由界面修飾打印液在陰極31與發(fā)光層32之間制作界面修飾層34，所述界面修飾打印液包括電子傳輸材料、金屬納米粒子、表面張力調(diào)節(jié)劑、及粘度調(diào)節(jié)劑，其中，所述金屬納米粒子為表面經(jīng)過修飾的金屬納米粒子，可以抑制金屬納米粒子之間的團聚，并增強金屬納米粒子的溶解度，即該界面修飾層34為包含電子傳輸材料與金屬納米粒子的材料層，其電子傳輸材料可以增強載流子從陰極31的注入和傳輸，金屬納米粒子通過其表面等離子共振所產(chǎn)生的強大的局部電場，可以增強電子的注入效率，通過將界面修飾層34引入到oled器件30的陰極31與發(fā)光層32之間，可以有效提升oled器件的綜合性能，制作方法簡單。

基于上述的oled顯示面板的制作方法，本發(fā)明還提供一種oled顯示面板，采用如上所述的oled顯示面板的制作方法制得，包括襯底基板10及設(shè)于所述襯底基板10上的數(shù)個oled器件30，所述oled器件30為倒置型oled器件，包括由下至上依次設(shè)置的陰極31、發(fā)光層32、及陽極33，所述陰極31與發(fā)光層32之間設(shè)有界面修飾層34；

所述界面修飾層34由界面修飾打印液通過噴墨打印的方法制作形成，所述界面修飾打印液包括電子傳輸材料、表面修飾的金屬納米粒子、表面張力調(diào)節(jié)劑、及粘度調(diào)節(jié)劑。

具體地，界面修飾層34中的電子傳輸材料為氧化鋅、或氧化鈦。

具體地，所述金屬納米粒子中的金屬為金、銀、或銅，即所述金屬納米粒子為金納米粒子、銀納米粒子、或銅納米粒子。

具體地，所述界面修飾打印液中，所述金屬納米粒子的表面具有有機胺配體，即所述金屬納米粒子為有機胺修飾的金屬納米粒子，以抑制金屬納米粒子之間的團聚，并增強金屬納米粒子的溶解度；優(yōu)選地，所述有機胺為長鏈烷基胺，其碳鏈長度大于等于16。

具體地，所述表面張力調(diào)節(jié)劑為共溶劑、表面活性劑、咪唑及其衍生物、苯酚、對苯二酚中的一種或幾種的組合；

所述粘度調(diào)節(jié)劑為醇、醚、酯、酚、胺中的一種或幾種的組合，例如，所述粘度調(diào)節(jié)劑為多羥基醇、或二醇醚。

具體地，所述oled器件30中，所述陽極33與發(fā)光層32之間設(shè)有空穴注入層、及空穴傳輸層中的至少一種。

具體地，所述陽極33的材料為高功函數(shù)的金屬，包括金、及銀中的至少一種，可有效提高oled器件30電極的穩(wěn)定性，從而有利于進一步提高器件的穩(wěn)定性和壽命。

具體地，如圖4所示，為本發(fā)明的oled顯示面板的優(yōu)選實施例，包括襯底基板10、設(shè)于所述襯底基板10上的數(shù)個oled器件30、及設(shè)于所述襯底基板10上的像素定義層20，所述像素定義層20上設(shè)有間隔設(shè)置的數(shù)個通孔21，所述數(shù)個oled器件30分別設(shè)于所述數(shù)個通孔21內(nèi)；所述oled器件30具體包括由下至上依次設(shè)置的陰極31、界面修飾層34、發(fā)光層32、空穴傳輸層35、及陽極33。

具體地，所述陰極31的材料為透明導(dǎo)電金屬氧化物；所述界面修飾層34中，電子傳輸材料為氧化鋅，金屬納米粒子為金納米粒子；所述發(fā)光層32的材料包括聚(9,9-二辛基芴-2,7-二基)；所述空穴傳輸層35的材料為氧化鉬；所述陽極33的材料為銀。

本發(fā)明的oled顯示面板，oled器件30采用倒置型結(jié)構(gòu)，oled器件30的陰極31與發(fā)光層32之間設(shè)有界面修飾層34，所述界面修飾層34由界面修飾打印液通過噴墨打印的方法制作形成，所述界面修飾打印液包括電子傳輸材料、表面修飾的金屬納米粒子、表面張力調(diào)節(jié)劑、及粘度調(diào)節(jié)劑，通過將界面修飾層34應(yīng)用到oled器件30當中，可以有效提升oled器件30的綜合性能，且制作方法簡單。

綜上所述，本發(fā)明的oled顯示面板的制作方法，oled器件采用倒置型結(jié)構(gòu)，并采用噴墨打印技術(shù)由界面修飾打印液在陰極與發(fā)光層之間制作界面修飾層，所述界面修飾打印液包括電子傳輸材料、金屬納米粒子、表面張力調(diào)節(jié)劑、及粘度調(diào)節(jié)劑，其中，所述金屬納米粒子為表面經(jīng)過修飾的金屬納米粒子，可以抑制金屬納米粒子之間的團聚，并增強金屬納米粒子的溶解度，即該界面修飾層為包含電子傳輸材料與金屬納米粒子的材料層，其電子傳輸材料可以增強載流子從陰極的注入和傳輸，金屬納米粒子通過其表面等離子共振所產(chǎn)生的強大的局部電場，可以增強電子的注入效率，通過將該界面修飾層引入到oled器件的陰極與發(fā)光層之間，可以有效提升oled器件的綜合性能，制作方法簡單。本發(fā)明的oled顯示面板，oled器件為倒置型oled器件，且陰極與發(fā)光層之間還設(shè)有界面修飾層，所述界面修飾層由界面修飾打印液通過噴墨打印的方法制作形成，所述界面修飾打印液包括電子傳輸材料、表面修飾的金屬納米粒子、表面張力調(diào)節(jié)劑、及粘度調(diào)節(jié)劑，通過將界面修飾層應(yīng)用到oled器件當中，可以有效提升oled器件的綜合性能，且制作方法簡單。

以上所述，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形，而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護范圍。