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      一種陰離子交換復(fù)合膜及其制備方法和應(yīng)用

      文檔序號(hào):39979333發(fā)布日期:2024-11-15 14:28閱讀:69來(lái)源:國(guó)知局
      一種陰離子交換復(fù)合膜及其制備方法和應(yīng)用

      本發(fā)明屬于離子交換膜,更具體地說(shuō),涉及一種耐久性有機(jī)/無(wú)機(jī)復(fù)合陰離子交換復(fù)合膜及其制備方法與應(yīng)用,主要應(yīng)用于電解水、燃料電池、液流電池、co2電解中。


      背景技術(shù):

      1、氫能是未來(lái)能源體系的重要組成部分,將助推化石能源轉(zhuǎn)型和能源領(lǐng)域碳減排。高能效、低成本、零排放的可再生能源電解水制氫是氫能利用的關(guān)鍵技術(shù)。陰離子交換膜電解槽(aemwe)集成了堿性電解槽(awe)和質(zhì)子交換膜電解槽(pemwe)的優(yōu)點(diǎn),具有電流密度高、能量效率高、響應(yīng)速度快、適應(yīng)彈性負(fù)荷等優(yōu)勢(shì)。尤其是aemwe使用廉價(jià)過(guò)渡金屬催化劑代替pemwe中的貴金屬催化劑,可顯著降低電解槽成本;使用純水或低濃度堿性水溶液為電解液,避免了awe強(qiáng)堿性溶液對(duì)設(shè)備的腐蝕。因此,aemwe是一種極具成本和性能優(yōu)勢(shì)的電解水制氫技術(shù)。

      2、陰離子交換膜(aem)是aemwe的核心部件,一般由聚合物骨架、陽(yáng)離子交換基團(tuán)和氫氧根離子組成,實(shí)現(xiàn)oh-傳遞、隔離氣體等關(guān)鍵作用,對(duì)電解水制氫的效率和耐久性有重要影響。然而,aem主要面臨著oh-離子電導(dǎo)率普遍較低和高溫、強(qiáng)堿性環(huán)境下穩(wěn)定性不足的問(wèn)題。

      3、目前,aem的研究主要集中在基于源頭化學(xué)設(shè)計(jì)聚合物主鏈、側(cè)鏈、陽(yáng)離子交換基團(tuán),優(yōu)化離子通道尺寸、結(jié)構(gòu)和結(jié)構(gòu)取向,調(diào)控膜組分結(jié)構(gòu)和調(diào)控離子輸運(yùn)通道,以提高aem的離子電導(dǎo)率和熱堿穩(wěn)定性。然而aem在電解工況條件下的實(shí)際耐久性遠(yuǎn)差于離位環(huán)境測(cè)定的穩(wěn)定性。例如季銨鹽聚合物離位穩(wěn)定性達(dá)1200h,而基于此聚合物的電解槽耐久性不足72h,這嚴(yán)重限制了基于aem電化學(xué)器件的商業(yè)化進(jìn)程。因此,如何能夠?qū)崿F(xiàn)優(yōu)異的電解槽工況下的原位耐久性,是aem開發(fā)中的重要挑戰(zhàn)。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、1.要解決的問(wèn)題

      2、眾多現(xiàn)有文獻(xiàn)中顯示aem工況與離位穩(wěn)定性存在著巨大差異。然而,并未有現(xiàn)有技術(shù)揭示這種差異存在的根本原因。本發(fā)明中,發(fā)明人通過(guò)原位測(cè)溫實(shí)驗(yàn),發(fā)現(xiàn)電解槽工況下的aem溫度較高,對(duì)其原因進(jìn)行分析,發(fā)現(xiàn)aem的導(dǎo)熱系數(shù)在電解槽所有組件中處于最低水平,電解過(guò)程電流產(chǎn)生焦耳熱等熱量會(huì)聚集在aem內(nèi),進(jìn)而導(dǎo)致機(jī)械性能惡化、離子電導(dǎo)率下降、器件失效等問(wèn)題。這一問(wèn)題成為aem工況與離位穩(wěn)定性巨大差異的主要原因。

      3、基于上述問(wèn)題的發(fā)現(xiàn),針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的aem的電解槽耐久性差的問(wèn)題,本發(fā)明擬通過(guò)減小aem與電解槽中其它組件的導(dǎo)熱差異,從提高aem導(dǎo)熱性的角度,提供一種陰離子交換復(fù)合膜,該陰離子交換復(fù)合膜能有效散熱降低膜溫度,提高陰離子交換復(fù)合膜的耐久性,對(duì)于提高陰離子交換膜的熱堿穩(wěn)定性具有重要意義,且對(duì)今后強(qiáng)耐久性陰離子交換膜的開發(fā)提供了新思路。

      4、2.技術(shù)方案

      5、本發(fā)明從提高陰離子交換膜的導(dǎo)熱性角度,提出了開發(fā)高熱導(dǎo)陰離子交換復(fù)合膜的策略,實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,添加導(dǎo)熱材料可有效提高aem原位耐久性。具體地本發(fā)明提供以下技術(shù)方案:

      6、[陰離子交換復(fù)合膜]

      7、本發(fā)明第一方面提供一種陰離子交換復(fù)合膜,該復(fù)合膜包含組分a和組分b;

      8、所述組分a為含有陽(yáng)離子基團(tuán)的聚合物材料,聚合物材料選自殼聚糖、聚芳基哌啶類、聚乙烯醇類、聚苯醚類、聚醚酮類、聚苯硫醚類、聚苯并咪唑類、聚芳烯吡啶類、聚芳烯-烷基烯類、聚苯乙烯類、全氟磺酸樹脂類、聚(苯乙烯)氧化物類、聚乙烯類和聚(乙烯-共四氟乙烯)類聚合物材料中的一種或多種;

      9、所述組分b為無(wú)機(jī)材料;

      10、所述組分b的熱導(dǎo)率不低于所述組分a的熱導(dǎo)率的5倍;

      11、所述陰離子交換復(fù)合膜的熱導(dǎo)率不低于1.5w?m–1k–1。

      12、優(yōu)選地,組分a與組分b為物理混合,非共價(jià)鍵結(jié)合。

      13、如在此所述的,熱導(dǎo)率的測(cè)試方法是本領(lǐng)域公知的,一般材料的理論熱導(dǎo)率可以通過(guò)文獻(xiàn)中記載得到,也可以通過(guò)以下方法測(cè)試得到:

      14、復(fù)合膜的熱導(dǎo)率可以通過(guò)激光脈沖法、3ω測(cè)試方法、光熱反射法、掃描熱顯微鏡法等得到。

      15、如在此所述的,“聚合物材料”指由鍵重復(fù)連接而成的高分子量(通??蛇_(dá)104~106)化合物。

      16、如在此所述的,“含有陽(yáng)離子基團(tuán)的聚合物材料”指代對(duì)指定聚合物的主鏈或支鏈修飾陽(yáng)離子官能團(tuán)。

      17、本發(fā)明通過(guò)在含有陽(yáng)離子基團(tuán)的聚合物材料中添加高熱導(dǎo)率的無(wú)機(jī)材料,提高陰離子交換復(fù)合膜的導(dǎo)熱性能,進(jìn)而提高陰離子交換復(fù)合膜的電解槽耐久性。

      18、作為本發(fā)明第一方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,所述陰離子交換復(fù)合膜的熱導(dǎo)率不低于2wm–1k–1,進(jìn)一步優(yōu)選為不低于5w?m–1k–1,不低于10w?m–1k–1。陰離子交換復(fù)合膜的熱導(dǎo)率的提高,有利于減小aem與電解槽中其它組件的導(dǎo)熱差異,減少aem熱量聚集;同時(shí)提高復(fù)合膜的熱穩(wěn)定性。

      19、作為本發(fā)明第一方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,所述無(wú)機(jī)材料的理論熱導(dǎo)率不低于5wm–1k–1,進(jìn)一步優(yōu)選為不低于10w?m–1k–1,不低于20w?m–1k–1,不低于50w?m–1k–1,不低于100w?m–1k–1,不低于200w?m–1k–1,不低于300w?m–1k–1,不低于400w?m–1k–1。

      20、作為本發(fā)明第一方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,所述組分b的熱導(dǎo)率不低于所述組分a的熱導(dǎo)率的8倍,進(jìn)一步優(yōu)選為所述組分b的熱導(dǎo)率不低于所述組分a的熱導(dǎo)率的10倍,所述組分b的熱導(dǎo)率不低于所述組分a的熱導(dǎo)率的20倍,所述組分b的熱導(dǎo)率不低于所述組分a的熱導(dǎo)率的50倍,所述組分b的熱導(dǎo)率不低于所述組分a的熱導(dǎo)率的100倍,所述組分b的熱導(dǎo)率不低于所述組分a的熱導(dǎo)率的200倍。

      21、值得說(shuō)明的是,出于提高陰離子交換復(fù)合膜的熱導(dǎo)率的角度考慮,優(yōu)選熱導(dǎo)率越高的組分b無(wú)機(jī)材料。

      22、如在此所述的,“無(wú)機(jī)材料”指代無(wú)機(jī)材料指由無(wú)機(jī)物單獨(dú)或混合其他物質(zhì)制成的材料。通常指由硅酸鹽、鋁酸鹽、硼酸鹽、磷酸鹽、鍺酸鹽等原料和/或氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硫化物、硅化物、鹵化物等原料經(jīng)一定的工藝制備而成的材料。

      23、作為本發(fā)明第一方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,所述無(wú)機(jī)材料選自氮化硼、碳化硅、二硫化鉬、二氧化鋯、二氧化硅、氧化鎂、碳納米管、石墨烯、氮化硅和氧化鋁中的一種或多種。優(yōu)選為氮化硼、碳納米管。

      24、其中,氮化硼的面內(nèi)理論熱導(dǎo)率約為600w?m–1k–1,面外理論熱導(dǎo)率約為30w?m–1k–1,碳納米管的理論熱導(dǎo)率約為6000w?m–1k–1。碳化硅的理論熱導(dǎo)率約為490w?m–1k–1,二硫化鉬的理論熱導(dǎo)率約為40w?m–1k–1,二氧化鋯的理論熱導(dǎo)率約為6.2w?m–1k–1,二氧化硅的理論熱導(dǎo)率約為0.8~1.3w?m–1k–1,氧化鎂的理論熱導(dǎo)率約為36w?m–1k–1,石墨烯的理論熱導(dǎo)率約為5000w?m–1k–1,氮化硅的理論熱導(dǎo)率約為100w?m–1k–1,氧化鋁的理論熱導(dǎo)率約為150w?m–1k–1。

      25、本發(fā)明通過(guò)在具有快速導(dǎo)離子的聚合物膜中引入具有本征高熱導(dǎo)率的無(wú)機(jī)材料,如氮化硼、碳納米管等,在aem中構(gòu)筑出3d連續(xù)導(dǎo)熱網(wǎng)絡(luò),可以形成具有快速熱傳導(dǎo)通道的aem,提高aem原位耐久性。

      26、作為本發(fā)明第一方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,所述無(wú)機(jī)材料優(yōu)選為層狀氮化硼,層狀氮化硼形成的限域空間有助于實(shí)現(xiàn)離子的快速輸運(yùn),進(jìn)而提高陰離子交換膜的電導(dǎo)率。

      27、作為本發(fā)明第一方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,所述陽(yáng)離子基團(tuán)選自含n、含s、季鏻或含金屬配合物的陽(yáng)離子基團(tuán)中的一種或多種。其中,含n陽(yáng)離子基團(tuán)選自非環(huán)狀季銨離子、雜環(huán)季銨離子、胍基、咪唑鎓鹽中的一種或多種。其中,季銨陽(yáng)離子可以為三甲基季銨鹽、苯三甲基季銨鹽、雙環(huán)脂肪族螺旋烷季銨鹽、1-甲基甲氮鎓季銨鹽、1-甲基吡咯啉鎓季銨鹽、奎核啶鎓季銨鹽、1-甲基哌啶鎓季銨鹽、1,4-二甲基哌啶鎓季銨鹽、1,3,5三甲基哌啶鎓季銨鹽和1,2,6-三甲基哌啶鎓季銨鹽等。

      28、如在此所述的,“季銨陽(yáng)離子”指代對(duì)指定聚合物的主鏈或支鏈上修飾季銨官能團(tuán)。

      29、作為本發(fā)明第一方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,以陰離子交換復(fù)合膜總質(zhì)量計(jì),所述陰離子交換復(fù)合膜中無(wú)機(jī)材料的質(zhì)量百分含量選自以下任一組數(shù)值范圍內(nèi)的任一數(shù)值:

      30、1~50%、2~50%、3~50%、4~50%、5~50%、10~50%、15~50%、20~50%、25~50%、30~50%、35~50%、40~50%、45~50%;

      31、1~45%、2~45%、3~45%、4~45%、5~45%、10~45%、15~45%、20~45%、25~45%、30~45%、35~45%、40~45%;

      32、1~40%、2~40%、3~40%、4~40%、5~40%、10~40%、15~40%、20~40%、25~40%、30~40%、35~40%;

      33、1~35%、2~35%、3~35%、4~35%、5~35%、10~35%、15~35%、20~35%、25~35%、30~35%;

      34、1~30%、2~30%、3~30%、4~30%、5~30%、10~30%、15~30%、20~30%、25~30%;

      35、1~25%、2~25%、3~25%、4~25%、5~25%、10~25%、15~25%、20~25%;

      36、1~20%、2~20%、3~20%、4~20%、5~20%、10~20%、15~20%;

      37、1~15%、2~15%、3~15%、4~15%、5~15%、10~15%;

      38、1~10%、2~10%、3~10%、4~10%、5~10%;

      39、1~5%、2~5%、3~5%、4~5%。

      40、優(yōu)選地,以陰離子交換復(fù)合膜總質(zhì)量計(jì),所述陰離子交換復(fù)合膜中無(wú)機(jī)材料的質(zhì)量百分含量為5%~30%,不包含30%;優(yōu)選為5%~29%;進(jìn)一步優(yōu)選為5%~25%;。本發(fā)明通過(guò)在含有陽(yáng)離子基團(tuán)的聚合物材料特別是季銨化的聚合物材料中添加高熱導(dǎo)的無(wú)機(jī)材料,以改善aem的熱導(dǎo)率,減小aem與電解槽中其它組件的導(dǎo)熱差異,減少熱量聚集,進(jìn)一步提高aem在電解工況中的原位耐久性。高導(dǎo)熱的無(wú)機(jī)材料的添加量越高,aem的熱導(dǎo)率越高,但過(guò)高的無(wú)機(jī)材料添加會(huì)導(dǎo)致aem機(jī)械性能發(fā)生改變。并且,實(shí)驗(yàn)表明,aem的電導(dǎo)率并非與高導(dǎo)熱的無(wú)機(jī)材料添加量呈正相關(guān),當(dāng)高導(dǎo)熱的無(wú)機(jī)材料的添加量達(dá)到一定值時(shí),陰離子交換復(fù)合膜的電導(dǎo)率下降。因此,出于aem機(jī)械性能和電導(dǎo)率的考慮,高導(dǎo)熱的無(wú)機(jī)材料的添加量應(yīng)當(dāng)保持在合理的范圍內(nèi)。

      41、作為本發(fā)明第一方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,所述陰離子交換復(fù)合膜的膜厚為5~500μm,優(yōu)選厚度為20~100μm,更優(yōu)選為30~50μm。

      42、[陰離子交換復(fù)合膜的制備方法]

      43、本發(fā)明第二方面提供本發(fā)明第一方面任一實(shí)施方案的陰離子交換復(fù)合膜的制備方法,包括:

      44、步驟一:制備鑄膜液:將含有陽(yáng)離子基團(tuán)的聚合物材料a與無(wú)機(jī)材料b于溶劑中混合;

      45、步驟二:由鑄膜液形成膜。

      46、作為本發(fā)明第二方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,制備方法具體包括:

      47、步驟一:制備鑄膜液;

      48、將含有陽(yáng)離子基團(tuán)的聚合物材料a溶解于溶劑中得到聚合物分散液,同時(shí)將無(wú)機(jī)材料b均勻分散在同種溶劑中得到無(wú)機(jī)材料分散液,并將兩種分散液混合均勻,得到a/b混合的鑄膜液;或者

      49、將聚合物材料a和無(wú)機(jī)材料b直接溶解或分散在同一溶劑中,得到a/b混合的鑄膜液;

      50、步驟二:由鑄膜液形成膜:

      51、使用步驟一中獲得的鑄膜液,通過(guò)不同的鑄膜方法進(jìn)行制膜,所述鑄膜方法選自澆鑄法、刮涂法和涂布法,形成陰離子交換復(fù)合膜。

      52、作為本發(fā)明第二方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,步驟二中,所述聚合物分散液體積百分比為99%~1%,無(wú)機(jī)材料分散液的體積百分比為1%~99%。

      53、作為本發(fā)明第二方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,所述聚合物材料為殼聚糖。

      54、作為本發(fā)明第二方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,所述聚合物材料為聚芳基哌啶類聚合物,例如聚(n-甲基-哌啶-co-對(duì)三聯(lián)苯)。

      55、作為本發(fā)明第二方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,所述無(wú)機(jī)材料為氮化硼。優(yōu)選為層狀氮化硼。

      56、作為本發(fā)明第二方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,所述無(wú)機(jī)材料為碳納米管。

      57、作為本發(fā)明第二方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,步驟一中,所述鑄膜液中a的濃度為0.3g/ml~1.0g/ml。

      58、作為本發(fā)明第二方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,步驟二中,采用澆鑄法、刮涂法或涂布法由鑄膜液形成膜。

      59、作為本發(fā)明第二方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,步驟二中,由鑄膜液形成膜時(shí)蒸發(fā)成膜的環(huán)境壓力為100pa~105pa。

      60、作為本發(fā)明第二方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,步驟二中,蒸發(fā)成膜的溫度為室溫至150℃。

      61、[膜電極組件]

      62、本發(fā)明第三方面提供一種膜電極組件,所述膜電極組件包括本發(fā)明第一方面任一實(shí)施方案的陰離子交換復(fù)合膜,或者包括本發(fā)明第二方面任一實(shí)施方案制備得到的陰離子交換復(fù)合膜;和涂覆于所述陰離子交換復(fù)合膜兩側(cè)的催化劑,所述催化劑包含陰極催化劑和陽(yáng)極催化劑。

      63、作為本發(fā)明第三方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,所述陰極催化劑選自pt/c,nife,nifev,nifeco氫氧化物的一種或幾種。

      64、作為本發(fā)明第三方面任一實(shí)施方案的優(yōu)選,所述陽(yáng)極催化劑iro2,ruo2,nife,nifev,nifeco氫氧化物的一種或幾種。

      65、[電解槽]

      66、本發(fā)明第四方面提供一種電解槽,所述電解槽包括本發(fā)明第一方面任一實(shí)施方案的陰離子交換復(fù)合膜,或者包括本發(fā)明第二方面任一實(shí)施方案制備方法獲得的陰離子交換復(fù)合膜,或者包括本發(fā)明第三方面任一實(shí)施方案所述的膜電極組件。

      67、[陰離子交換復(fù)合膜的應(yīng)用]

      68、本發(fā)明第五方面提供一種本發(fā)明第一方面任一實(shí)施方案的陰離子交換復(fù)合膜、或者本發(fā)明第二方面任一實(shí)施方案制備方法獲得的陰離子交換復(fù)合膜或者本發(fā)明第三方面任一實(shí)施方案所述的膜電極組件在電解水、燃料電池、液流電池、超級(jí)電容器或co2電解中的應(yīng)用。

      69、3.有益效果

      70、與未添加高熱導(dǎo)無(wú)機(jī)材料的aem(如含有陽(yáng)離子基團(tuán)的聚合物)技術(shù)相比,本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)如下:

      71、(1)本發(fā)明首次發(fā)現(xiàn)了導(dǎo)致aem工況與離位穩(wěn)定性存在巨大差異的重要因素,即在電解槽所有組件中,aem的導(dǎo)熱系數(shù)處于最低水平,電解過(guò)程電流產(chǎn)生焦耳熱等熱量聚集在aem內(nèi),進(jìn)而導(dǎo)致機(jī)械性能惡化、離子電導(dǎo)率下降、器件失效,因而現(xiàn)有技術(shù)中的aem的電解槽耐久性差。針對(duì)這一問(wèn)題,本發(fā)明提供了一種陰離子交換復(fù)合膜,該復(fù)合膜在含有陽(yáng)離子基團(tuán)的聚合物材料中添加高熱導(dǎo)無(wú)機(jī)材料,使形成的陰離子交換復(fù)合膜具有高的熱導(dǎo)率,實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,加入高熱導(dǎo)無(wú)機(jī)材料后,陰離子交換復(fù)合膜具有顯著提高的原位耐久性。

      72、(2)進(jìn)一步地,本發(fā)明中實(shí)驗(yàn)表明,無(wú)機(jī)材料在陰離子交換復(fù)合膜中構(gòu)筑3d導(dǎo)熱網(wǎng)絡(luò),可以形成具有快速熱傳導(dǎo)通道的結(jié)構(gòu),形成的限域空間有助于離子的快速傳輸,進(jìn)而提高陰離子交換膜的電導(dǎo)率。

      73、(3)本發(fā)明進(jìn)一步證明,陰離子交換復(fù)合膜中,高熱導(dǎo)無(wú)機(jī)材料特別是層狀氮化硼的添加量在特定范圍內(nèi)時(shí),能夠同時(shí)保證陰離子交換復(fù)合膜的電導(dǎo)率和熱導(dǎo)率,使陰離子交換復(fù)合膜保持較高的原位耐久性。

      74、(4)本發(fā)明的陰離子交換復(fù)合膜的制備方法,僅需將含陽(yáng)離子基團(tuán)的聚合物與高熱導(dǎo)無(wú)機(jī)材料物理混合形成鑄膜液,再制備成膜,制備過(guò)程工藝簡(jiǎn)單,材料選擇范圍廣,條件簡(jiǎn)易。

      75、(5)本發(fā)明的陰離子交換復(fù)合膜由于其高熱導(dǎo)和電導(dǎo)特性,可以抑制聚合物基膜的降解反應(yīng),并有效延長(zhǎng)陰離子交換膜的使用壽命,能夠在多種能源存儲(chǔ)和轉(zhuǎn)換器件中具有良好的應(yīng)用前景,例如可應(yīng)用于包括電解水制氫、燃料電池、液流電池、co2電解等多個(gè)領(lǐng)域。

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