內(nèi)嵌線(xiàn)圈式縱磁真空滅弧室觸頭的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種真空滅弧室觸頭,特別是涉及一種內(nèi)嵌線(xiàn)圈式縱磁真空滅弧室觸頭,屬于高壓電器設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有高壓真空滅弧室觸頭大多采用杯狀縱磁及傳統(tǒng)線(xiàn)圈式縱磁觸頭結(jié)構(gòu),其中杯狀縱磁真空滅弧室觸頭杯壁開(kāi)有斜槽,傳統(tǒng)線(xiàn)圈式縱磁真空滅弧室觸頭導(dǎo)電桿通過(guò)輻條拐臂與線(xiàn)圈觸頭聯(lián)接,使得以上兩種觸頭結(jié)構(gòu)機(jī)械強(qiáng)度大大減弱,從而影響對(duì)觸頭分、合閘的控制,影響開(kāi)斷性能。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003]本發(fā)明的目的就在于解決現(xiàn)有技術(shù)存在的上述問(wèn)題,克服現(xiàn)有真空滅弧室觸頭結(jié)構(gòu)存在的缺陷,提供一種結(jié)構(gòu)合理、緊湊、縱向磁場(chǎng)強(qiáng)度大、機(jī)械強(qiáng)度高的內(nèi)嵌線(xiàn)圈式縱磁真空滅弧室觸頭。
[0004]本發(fā)明給出的技術(shù)解決方案如下。
[0005]一種內(nèi)嵌線(xiàn)圈式縱磁真空滅弧室觸頭,其特點(diǎn)是真空滅弧室觸頭杯內(nèi)嵌有一對(duì)線(xiàn)徑大、匝數(shù)少的內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈3和內(nèi)嵌式動(dòng)線(xiàn)圈8,內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈3和內(nèi)嵌式動(dòng)線(xiàn)圈8與動(dòng)、靜導(dǎo)電桿電氣聯(lián)接,電流流經(jīng)靜導(dǎo)電桿1、內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈3、靜觸頭片5、動(dòng)觸頭片6、內(nèi)嵌式動(dòng)線(xiàn)圈8、動(dòng)導(dǎo)電桿10,在斷口區(qū)域形成一縱向磁場(chǎng),同時(shí),動(dòng)、靜觸頭杯內(nèi)分別嵌有內(nèi)嵌式靜鐵芯2和內(nèi)嵌式動(dòng)鐵芯9,內(nèi)嵌式靜鐵芯2和內(nèi)嵌式動(dòng)鐵芯9上開(kāi)有一貫穿槽。
[0006]內(nèi)嵌式靜鐵芯2和內(nèi)嵌式動(dòng)鐵芯9具有高導(dǎo)磁率,可增強(qiáng)斷口區(qū)域縱向磁場(chǎng)強(qiáng)度。
[0007]內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈3和內(nèi)嵌式動(dòng)線(xiàn)圈8采用導(dǎo)電率高、傳導(dǎo)電流性能好的粗徑銅。
[0008]內(nèi)嵌式靜鐵芯2和內(nèi)嵌式動(dòng)鐵芯9開(kāi)有的貫穿槽可削弱磁場(chǎng)快速變化引起的渦流效應(yīng)。
[0009]當(dāng)電壓等級(jí)提高后,通過(guò)增大內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈3和內(nèi)嵌式動(dòng)線(xiàn)圈8的直徑、匝數(shù)及內(nèi)嵌式靜鐵芯2和內(nèi)嵌式動(dòng)鐵芯9的直徑,以保證觸頭斷口間縱向磁場(chǎng)強(qiáng)度,滿(mǎn)足成功開(kāi)斷所需要求。
[0010]可更改內(nèi)嵌式靜鐵芯2和內(nèi)嵌式動(dòng)鐵芯9的形狀,進(jìn)而改變斷口間縱向磁場(chǎng)分布,形成均勻、非均勻等分布,靈活適用于各電壓等級(jí)。
[0011]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果是。
[0012]①完整的杯壁,較之傳統(tǒng)杯狀縱磁與線(xiàn)圈式縱磁觸頭結(jié)構(gòu),大大增強(qiáng)了觸頭機(jī)械強(qiáng)度。
[0013]②隨著電壓等級(jí)提高,可通過(guò)增大內(nèi)嵌式線(xiàn)圈的直徑、匝數(shù)及內(nèi)嵌式鐵芯的直徑,保證觸頭斷口間縱向磁場(chǎng)強(qiáng)度。
[0014]③可更改內(nèi)嵌式鐵芯的形狀,進(jìn)而改變斷口間縱向磁場(chǎng)分布,形成均勻、非均勻等分布,靈活適用于各電壓等級(jí)。
【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1為本發(fā)明的主視圖。
[0016]圖2為本發(fā)明的靜觸頭結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]圖3為本發(fā)明的動(dòng)、靜線(xiàn)圈結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖4為本發(fā)明的靜鐵芯結(jié)構(gòu)示意圖。
[0019]圖5為本發(fā)明的擴(kuò)展鐵芯結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020]圖中標(biāo)記:1一靜導(dǎo)電桿,2—內(nèi)嵌式靜鐵芯,3—內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈,4一靜觸頭杯,5一靜觸頭片,6—?jiǎng)佑|頭片,7—?jiǎng)佑|頭杯,8—內(nèi)嵌式動(dòng)線(xiàn)圈,9一內(nèi)嵌式動(dòng)鐵芯,10一動(dòng)導(dǎo)電桿。
【具體實(shí)施方式】
[0021]參照?qǐng)D1,靜導(dǎo)電桿I與靜觸頭杯4及靜觸頭片5電氣聯(lián)接,同理,動(dòng)導(dǎo)電桿10與動(dòng)觸頭杯7及動(dòng)觸頭片6進(jìn)行電氣聯(lián)接。靜導(dǎo)電桿1、靜觸頭杯4、靜觸頭片5、動(dòng)觸頭片6、動(dòng)觸頭杯7、動(dòng)導(dǎo)電桿10在觸頭間產(chǎn)生電弧時(shí)與電弧一起構(gòu)成電流流路。
[0022]參照?qǐng)D2,內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈3與靜觸頭杯4及靜觸頭片5聯(lián)接,構(gòu)成產(chǎn)生縱向磁場(chǎng)的電流流路。內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈3外表面附有絕緣漆,實(shí)現(xiàn)線(xiàn)圈與鐵芯之間的絕緣。觸頭片開(kāi)槽,削弱渦流效應(yīng)。
[0023]參照?qǐng)D3,內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈3與內(nèi)嵌式動(dòng)線(xiàn)圈8的旋轉(zhuǎn)方向要保證二者產(chǎn)生的縱向磁場(chǎng)方向一致,其中線(xiàn)圈產(chǎn)生縱向磁場(chǎng)的方向滿(mǎn)足右手螺旋原則。
[0024]參照?qǐng)D4,鐵芯上開(kāi)有一貫穿槽,削弱渦流效應(yīng)。
[0025]參照?qǐng)D5,瓣?duì)罴皥A柱狀鐵芯使得產(chǎn)生不均勻縱向磁場(chǎng),一定程度上利于開(kāi)斷。
[0026]本發(fā)明的工作過(guò)程。
[0027]本發(fā)明觸頭杯內(nèi)嵌有一對(duì)線(xiàn)徑大、匝數(shù)少的內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈和內(nèi)嵌式動(dòng)線(xiàn)圈,內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈和內(nèi)嵌式動(dòng)線(xiàn)圈與動(dòng)、靜導(dǎo)電桿電氣聯(lián)接,電流流經(jīng)靜導(dǎo)電桿、內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈、靜觸頭片、動(dòng)觸頭片、內(nèi)嵌式動(dòng)線(xiàn)圈、動(dòng)導(dǎo)電桿,在斷口區(qū)域形成一縱向磁場(chǎng),動(dòng)、靜觸頭杯內(nèi)分別嵌有內(nèi)嵌式靜鐵芯和內(nèi)嵌式動(dòng)鐵芯。本發(fā)明的內(nèi)嵌線(xiàn)圈式縱磁真空滅弧室觸頭的觸頭杯完整,機(jī)械強(qiáng)度增強(qiáng),進(jìn)而提高觸頭分、合閘初速度,對(duì)真空滅弧室成功開(kāi)斷有積極作用。
[0028]以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已,并不用于限制本發(fā)明,對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō),本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種內(nèi)嵌線(xiàn)圈式縱磁真空滅弧室觸頭,其特征在于真空滅弧室觸頭杯內(nèi)嵌有一對(duì)線(xiàn)徑大、匝數(shù)少的內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈3和內(nèi)嵌式動(dòng)線(xiàn)圈8,內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈3和內(nèi)嵌式動(dòng)線(xiàn)圈8與動(dòng)、靜導(dǎo)電桿電氣聯(lián)接,電流流經(jīng)靜導(dǎo)電桿1、內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈3、靜觸頭片5、動(dòng)觸頭片6、內(nèi)嵌式動(dòng)線(xiàn)圈8、動(dòng)導(dǎo)電桿10,在斷口區(qū)域形成一縱向磁場(chǎng),動(dòng)、靜觸頭杯內(nèi)分別嵌有內(nèi)嵌式靜鐵芯2和內(nèi)嵌式動(dòng)鐵芯9。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的內(nèi)嵌線(xiàn)圈式縱磁真空滅弧室觸頭,其特征在于,內(nèi)嵌式鐵芯(2)和內(nèi)嵌式鐵芯(9)具有高導(dǎo)磁率,可增強(qiáng)斷口區(qū)域縱向磁場(chǎng)強(qiáng)度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的內(nèi)嵌線(xiàn)圈式縱磁真空滅弧室觸頭,其特征在于,內(nèi)嵌式線(xiàn)圈(3)和內(nèi)嵌式線(xiàn)圈(8)采用導(dǎo)電率高的粗徑銅,傳導(dǎo)電流性能好,減少發(fā)熱。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的內(nèi)嵌線(xiàn)圈式縱磁真空滅弧室觸頭,其特征在于,內(nèi)嵌式鐵芯(2)和內(nèi)嵌式鐵芯(9)開(kāi)有一貫穿槽,可削弱磁場(chǎng)快速變化引起的渦流效應(yīng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的內(nèi)嵌線(xiàn)圈式縱磁真空滅弧室觸頭,其特征在于,當(dāng)電壓等級(jí)提高后,通過(guò)增大內(nèi)嵌式線(xiàn)圈(3)和內(nèi)嵌式線(xiàn)圈(8)的直徑、匝數(shù)及內(nèi)嵌式鐵芯(2)和內(nèi)嵌式鐵芯(9)的直徑,以保證觸頭斷口間縱向磁場(chǎng)強(qiáng)度,滿(mǎn)足成功開(kāi)斷所需要求。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的內(nèi)嵌線(xiàn)圈式縱磁真空滅弧室觸頭,其特征在于,更改內(nèi)嵌式鐵芯(2)和內(nèi)嵌式鐵芯(9)的形狀,進(jìn)而改變斷口間縱向磁場(chǎng)分布,形成均勻、非均勻等分布,靈活適用于各電壓等級(jí)。
【專(zhuān)利摘要】一種內(nèi)嵌線(xiàn)圈式縱磁真空滅弧室觸頭,其特點(diǎn)是真空滅弧室觸頭杯內(nèi)嵌有一對(duì)線(xiàn)徑大、匝數(shù)少的內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈(3)和內(nèi)嵌式動(dòng)線(xiàn)圈(8),內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈(3)和內(nèi)嵌式動(dòng)線(xiàn)圈(8)與動(dòng)、靜導(dǎo)電桿電氣聯(lián)接,電流流經(jīng)靜導(dǎo)電桿(1)、內(nèi)嵌式靜線(xiàn)圈(3)、靜觸頭片(5)、動(dòng)觸頭片(6)、內(nèi)嵌式動(dòng)線(xiàn)圈(8)、動(dòng)導(dǎo)電桿(10),在斷口區(qū)域形成一縱向磁場(chǎng),動(dòng)、靜觸頭杯內(nèi)分別嵌有內(nèi)嵌式靜鐵芯(2)和內(nèi)嵌式動(dòng)鐵芯(9)。本發(fā)明的內(nèi)嵌線(xiàn)圈式縱磁真空滅弧室觸頭的觸頭杯完整,機(jī)械強(qiáng)度增強(qiáng),進(jìn)而提高觸頭分、合閘初速度,對(duì)真空滅弧室成功開(kāi)斷有積極作用。
【IPC分類(lèi)】H01H33-664
【公開(kāi)號(hào)】CN104701067
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201310642019
【發(fā)明人】劉曉明, 于德恩, 曹云東
【申請(qǐng)人】沈陽(yáng)工業(yè)大學(xué)
【公開(kāi)日】2015年6月10日
【申請(qǐng)日】2013年12月4日