而可提高彎曲角度W’。
[0062]參考標(biāo)號列表 I承載支架
2保持把手 3環(huán) 3o開口 3u環(huán)周緣 4桿件 5桿件 6環(huán)肩部 7周向肩部 7s端面 8內(nèi)緣 9梯級 10固定器件 11廣品基底 12連接層 13承載基底 13ο上側(cè) 13u周向邊緣
14調(diào)整元件 15，15’驅(qū)動器件16關(guān)節(jié)支承17斜面18基底支架19堆疊部20膜架復(fù)合部21膜22機架22d蓋部23膜架24,24’端部25間隔器件26周向區(qū)段27基部27b底部28保持器件29保持器件A間隔B環(huán)寬度D1內(nèi)徑Da外徑Dk直徑H環(huán)高度M間隔L脫離方向I內(nèi)角D厚度
F1, F2, Fn驅(qū)動力(拉力)G反力
K1, K2, Kn脫離力矩ff, r彎曲角度。
【主權(quán)項】
1.一種用于使產(chǎn)品基底從承載基底脫離的系統(tǒng)，其中所述產(chǎn)品基底通過連接層暫時地連接到所述承載基底以形成堆疊部，所述系統(tǒng)包括: 支撐所述堆疊部的器件； 分離器件，其初始化所述產(chǎn)品基底從所述承載基底脫離，所述分離器件具有從該連接層的周向邊緣穿透到所述堆疊部的所述連接層中的頂端； 第一構(gòu)件，其具有在基本平行于所述承載基底的表面的平面的平面中延伸的表面；以及 從所述第一構(gòu)件延伸的延伸部，其中該延伸部包括被配置成接觸該承載基底的周向邊緣的表面， 其中所述系統(tǒng)施加力到所述承載基底以將所述承載基底遠(yuǎn)離所述產(chǎn)品基底彎曲，從而使所述產(chǎn)品基底從所述承載基底脫離。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述第一構(gòu)件為柔性的。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述延伸部的表面的一端終止于內(nèi)邊緣處，所述內(nèi)邊緣形成所述分離器件的頂端。4.一種用于使產(chǎn)品基底從承載基底脫離的系統(tǒng)，其中所述產(chǎn)品基底通過連接層暫時地連接到所述承載基底以形成堆疊部，所述系統(tǒng)包括: 支撐所述堆疊部的第一支架；以及 接合所述承載基底的第二支架，所述第二支架包括: 肩部，其具有在基本平行于所述承載基底的表面的平面的平面中延伸的肩部表面； 從所述肩部延伸的延伸部，其中該延伸部包括被配置成接觸該承載基底的周向邊緣的表面；以及 分離器件，其初始化所述產(chǎn)品基底從所述承載基底脫離，所述分離器件具有從該連接層的周向邊緣穿透到所述堆疊部的所述連接層中的頂端， 其中所述第二支架施加力到所述承載基底以將所述承載基底遠(yuǎn)離所述產(chǎn)品基底彎曲，從而使所述產(chǎn)品基底從所述承載基底脫離。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其中所述第二支架為柔性的。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其中所述延伸部的表面的一端終止于內(nèi)邊緣處，所述內(nèi)邊緣形成所述分離器件的頂端。7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其中所述系統(tǒng)還包括: 驅(qū)動器件，其用于移動所述第二支架以施加力到所述承載基底來將所述承載基底遠(yuǎn)離所述廣品基底彎曲。8.一種用于使承載基底從產(chǎn)品基底脫離的系統(tǒng)，其中所述承載基底通過連接層暫時地連接到所述產(chǎn)品基底以形成堆疊部，所述系統(tǒng)包括: 可與暫時地連接到所述產(chǎn)品基底的所述承載基底相接合的支架，所述支架包括: 肩部，其具有在基本平行于所述承載基底的表面的平面的平面中延伸的肩部表面； 從所述肩部延伸的延伸部，其中該延伸部包括被配置成接觸該承載基底的周向邊緣的表面；以及 分離器件，其初始化所述承載基底從所述產(chǎn)品基底的脫離，所述分離器件具有從該連接層的周向邊緣穿透到所述堆疊部的所述連接層中的頂端， 其中所述支架施加力到所述承載基底以將所述承載基底遠(yuǎn)離所述產(chǎn)品基底彎曲，從而使所述承載基底從所述產(chǎn)品基底脫離。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中所述支架為柔性的。10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中所述延伸部的斜表面的一端終止于內(nèi)邊緣處，所述內(nèi)邊緣形成所述分離器件的頂端。11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中所述系統(tǒng)還包括: 驅(qū)動器件，其用于移動所述支架以施加力到所述承載基底來將所述承載基底遠(yuǎn)離所述廣品基底彎曲。12.一種用于使承載基底從產(chǎn)品基底脫離的系統(tǒng)，其中所述承載基底通過連接層暫時地連接到所述產(chǎn)品基底以形成堆疊部，所述系統(tǒng)包括: 可與所述承載基底接合的第一支架，所述第一支架包括: 肩部，其具有在基本平行于所述承載基底的表面的平面的平面中延伸的表面，所述承載基底的表面與所述連接層接觸；以及 從所述肩部延伸的延伸部，其中該延伸部具有內(nèi)邊緣，該內(nèi)邊緣提供頂端以接觸所述承載基底的周向邊緣，從而穿透到所述連接層中以初始化使所述承載基底從所述產(chǎn)品基底脫離的脫離過程， 其中所述第一支架施加力到所述承載基底以將所述承載基底遠(yuǎn)離所述產(chǎn)品基底彎曲，從而使所述承載基底從所述產(chǎn)品基底脫離，所述承載基底從所述產(chǎn)品基底的脫離起始于所述承載基底的周向邊緣處。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中所述第一支架為柔性的。14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中所述系統(tǒng)還包括: 第一驅(qū)動器件，其用于移動所述第一支架以施加力到所述承載基底來將所述承載基底遠(yuǎn)離所述產(chǎn)品基底彎曲。15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中所述系統(tǒng)還包括: 可與所述產(chǎn)品基底接合的第二支架。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的系統(tǒng)，其中所述系統(tǒng)還包括: 第二驅(qū)動器件，其用于相對于所述第一支架來移動所述第二支架。17.一種用于使承載基底從產(chǎn)品基底脫離的系統(tǒng)，其中所述承載基底通過連接層暫時地連接到所述產(chǎn)品基底以形成堆疊部，所述系統(tǒng)包括: 用于接合所述承載基底的第一支架，其中所述第一支架包括邊緣，該邊緣提供頂端以接觸所述承載基底的周向邊緣，從而初始化使所述承載基底從所述產(chǎn)品基底脫離的脫離過程；以及 第一器件，其用于移動所述第一支架以施加力到所述承載基底以將所述承載基底遠(yuǎn)離所述產(chǎn)品基底彎曲，從而使所述承載基底從所述產(chǎn)品基底脫離，所述承載基底從所述產(chǎn)品基底的脫尚起始于所述承載基底的周向邊緣處。18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的系統(tǒng)，其中所述第一支架為柔性的。19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的系統(tǒng)，其中所述系統(tǒng)還包括: 可與所述產(chǎn)品基底接合的第二支架。20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的系統(tǒng)，其中所述系統(tǒng)還包括:第二器件，其用于相對于所述第一支架來移動所述第二支架。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于使產(chǎn)品基底從承載基底脫離的系統(tǒng)，其中所述產(chǎn)品基底通過連接層暫時地連接到所述承載基底以形成堆疊部，所述系統(tǒng)包括：支撐所述堆疊部的器件；分離器件，其初始化所述產(chǎn)品基底從所述承載基底脫離，所述分離器件具有從該連接層的周向邊緣穿透到所述堆疊部的所述連接層中的頂端；第一構(gòu)件，其具有在基本平行于所述承載基底的表面的平面的平面中延伸的表面；以及從所述第一構(gòu)件延伸的延伸部，其中該延伸部包括被配置成接觸該承載基底的周向邊緣的表面，其中所述系統(tǒng)施加力到所述承載基底以將所述承載基底遠(yuǎn)離所述產(chǎn)品基底彎曲，從而使所述產(chǎn)品基底從所述承載基底脫離。
【IPC分類】H01L21/687, H01L21/67, H01L21/683
【公開號】CN105097620
【申請?zhí)枴緾N201510619239
【發(fā)明人】J.布格拉夫, D.布格施塔勒
【申請人】Ev 集團(tuán) E·索爾納有限責(zé)任公司
【公開日】2015年11月25日
【申請日】2011年4月11日