包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，第一基板上位于第一區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度比位于第二區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度?。?br>[0057]在第一基板上的第一區(qū)域內(nèi)形成厚度補償層，或/和，在第二基板上與第一區(qū)域?qū)膮^(qū)域內(nèi)形成厚度補償層，厚度補償層和第一區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度與第二區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度相等。
[0058]本說明書中的各個實施例均采用遞進的方式描述，各個實施例之間相同或相似的部分互相參見即可，每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處。尤其，對于方法實施例而言，由于其基本相似于產(chǎn)品實施例，所以描述得比較簡單，相關(guān)之處參見產(chǎn)品實施例的部分說明即可。
[0059]請參閱圖6，厚度補償層設(shè)置在第一基板上，在第一基板上的第一區(qū)域內(nèi)形成厚度補償層包括:
[0060]步驟101、在第一基板上沉積公共電極薄膜層；
[0061]步驟102、通過一次構(gòu)圖工藝，形成互不相連的公共電極層和厚度補償層，其中，厚度補償層位于第一區(qū)域內(nèi)的柵線與第一基板之間。
[0062]上述實施例中，厚度補償層與公共電極層同層設(shè)置，在實際應用中，厚度補償層還可以與像素電極層同層設(shè)置。
[0063]請參閱圖7，在第一基板上的第一區(qū)域內(nèi)形成厚度補償層包括:
[0064]步驟201、在第一基板上依次形成圖形化的公共電極層、柵線層、柵極絕緣層、有源層、源漏極層以及鈍化層；
[0065]步驟202、在鈍化層上沉積像素電極薄膜層；
[0066]步驟203、通過一次構(gòu)圖工藝，形成互不相連的像素電極層和厚度補償層。
[0067]上述實施例中，厚度補償層與公共電極層同層設(shè)置，或者，厚度補償層與像素電極層同層設(shè)置，厚度補償層還可以包括與公共電極層同層設(shè)置的第一補償和與像素電極層同層設(shè)置的第二補償層。
[0068]請參閱圖8，在第一基板上的第一區(qū)域內(nèi)形成厚度補償層包括:
[0069]步驟301、在第一基板上沉積公共電極薄膜層；
[0070]步驟302、經(jīng)過一次構(gòu)圖工藝，形成互不相連的公共電極層和第一補償層，其中，第一補償層位于第一區(qū)域內(nèi)的柵線與第一基板之間；
[0071]步驟303、在第一基板上形成圖形的柵線層、柵極絕緣層、有源層、源漏極層以及鈍化層；
[0072]步驟304、在鈍化層上沉積像素電極薄膜層；
[0073]步驟305、通過一次構(gòu)圖工藝，形成互不相連的像素電極層和第二補償層，厚度補償層包括第一補償層和第二補償層。
[0074]上述實施例中，厚度補償層設(shè)置在第一基板上，具體實施時，厚度補償層還可以設(shè)置在第二基板上，請參閱圖9，在第二基板上與第一區(qū)域?qū)膮^(qū)域內(nèi)形成厚度補償層包括:
[0075]步驟401、在第二基板上依次形成圖形化的黑矩陣層、彩膜層和隔墊物層，隔墊物層包括位于黑矩陣層上的多個隔墊物；
[0076]步驟402、在隔墊物層上沉積補償薄膜層；
[0077]步驟403、通過一次構(gòu)圖工藝，在位于第二基板上與第一區(qū)域?qū)膮^(qū)域內(nèi)的隔墊物上形成厚度補償層。
[0078]以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實施方式】，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應以所述權(quán)利要求的保護范圍為準。
【主權(quán)項】
1.一種顯示基板，包括相對設(shè)置的第一基板和第二基板，所述第一基板包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，所述第一基板上位于所述第一區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度比位于所述第二區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度??；其特征在于， 在所述第一基板與所述第二基板之間設(shè)有厚度補償層，所述厚度補償層與所述第一區(qū)域?qū)?，所述厚度補償層和所述第一區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度與所述第二區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度相等。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述第一基板上依次疊加設(shè)置有圖形化的公共電極層和柵線層，所述厚度補償層位于所述第一區(qū)域內(nèi)的柵線與所述第一基板之間，所述厚度補償層與所述公共電極層同層設(shè)置但互不相連。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述第一基板上依次疊加設(shè)置有圖形化的公共電極層、柵線層、柵極絕緣層、有源層、源漏極層、鈍化層和像素電極層，所述厚度補償層位于所述第一區(qū)域內(nèi)的所述鈍化層上，且所述厚度補償層與所述像素電極層同層設(shè)置但互不相連。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述第一基板上依次疊加設(shè)置有圖形化的公共電極層、柵線層、柵極絕緣層、有源層、源漏極層、鈍化層和像素電極層； 所述厚度補償層包括:第一補償層和第二補償層，其中，所述第一補償層位于所述第一區(qū)域內(nèi)的柵線與所述第一基板之間，所述第一補償層與所述公共電極層同層設(shè)置但互不相連，所述第二補償層位于所述第一區(qū)域內(nèi)的所述鈍化層上，且所述第二補償層與所述像素電極層同層設(shè)置但互不相連。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述第二基板上依次疊加設(shè)置有圖形化的黑矩陣層、彩膜層和隔墊物層，所述厚度補償層位于所述第二基板上與所述第一區(qū)域?qū)膮^(qū)域內(nèi)的隔墊物層上。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述功能層包括金屬功能層。7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一所述的顯示基板，其特征在于，所述第一基板的上方設(shè)置有多個隔墊物枕墊，多個所述隔墊物枕墊與源漏極層同層設(shè)置但互不相連，所述厚度補償層包括與位于第一區(qū)域內(nèi)的所述隔墊物枕墊一一對應的厚度補償墊，且位于所述第一區(qū)域內(nèi)的所述隔墊物枕墊在所述第一基板上的正投影落入對應的所述厚度補償墊在所述第一基板上的正投影內(nèi)。8.—種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置設(shè)置有如權(quán)利要求1-7任一所述的顯示基板。9.一種顯示基板的制作方法，其特征在于，包括: 提供第一基板與第二基板，所述第一基板包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，所述第一基板上位于所述第一區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度比位于所述第二區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度??； 在所述第一基板上的所述第一區(qū)域內(nèi)形成厚度補償層，或/和，在所述第二基板上與所述第一區(qū)域?qū)膮^(qū)域內(nèi)形成所述厚度補償層，所述厚度補償層和所述第一區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度與所述第二區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度相等。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，在所述第一基板上的所述第一區(qū)域內(nèi)形成所述厚度補償層包括: 在所述第一基板上沉積公共電極薄膜層； 通過一次構(gòu)圖工藝，形成互不相連的所述公共電極層和所述厚度補償層，其中，所述厚度補償層位于所述第一區(qū)域內(nèi)的柵線與所述第一基板之間。11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，在所述第一基板上的所述第一區(qū)域內(nèi)形成所述厚度補償層包括: 在所述第一基板上依次疊加形成圖形化的公共電極層、柵線層、柵極絕緣層、有源層、源漏極層以及鈍化層； 在所述鈍化層上沉積像素電極薄膜層； 通過一次構(gòu)圖工藝，形成互不相連的所述像素電極層和所述厚度補償層。12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，在所述第一基板上的所述第一區(qū)域內(nèi)形成所述厚度補償層包括: 在所述第一基板上沉積公共電極薄膜層； 經(jīng)過一次構(gòu)圖工藝，形成互不相連的所述公共電極層和第一補償層，其中，所述第一補償層位于所述第一區(qū)域內(nèi)的柵線與所述第一基板之間，且所述第一補償層分別與所述柵線和所述第一基板接觸； 在所述第一基板上依次疊加形成圖形化的柵線層、柵極絕緣層、有源層、源漏極層以及鈍化層； 在所述鈍化層上沉積像素電極薄膜層； 通過一次構(gòu)圖工藝，形成互不相連的所述像素電極層和第二補償層，所述厚度補償層包括所述第一補償層和所述第二補償層。13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，在所述第二基板上與所述第一區(qū)域?qū)膮^(qū)域內(nèi)形成所述厚度補償層包括: 在所述第二基板上依次疊加形成圖形化的黑矩陣層、彩膜層和隔墊物層，所述隔墊物層包括位于所述黑矩陣層上的多個隔墊物； 在所述隔墊物層上沉積補償薄膜層； 通過一次構(gòu)圖工藝，在位于所述第二基板上與所述第一區(qū)域?qū)膮^(qū)域內(nèi)的所述隔墊物上形成所述厚度補償層。
【專利摘要】本發(fā)明公開一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置，涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，為解決因顯示基板的盒厚不均勻而導致顯示裝置的畫面顯示品質(zhì)降低的問題。所述顯示基板包括相對設(shè)置的第一基板和第二基板，第一基板包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，第一基板上位于第一區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度比位于第二區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度薄；在第一基板與第二基板之間設(shè)有厚度補償層，厚度補償層與第一區(qū)域?qū)?，厚度補償層和第一區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度與第二區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度相等。本發(fā)明通過在第一基板與第二基板之間設(shè)置與第一區(qū)域?qū)暮穸妊a償層，使顯示基板的各個區(qū)域的盒厚均勻，以改善顯示裝置的畫面顯示質(zhì)量。
【IPC分類】H01L27/12, H01L21/77
【公開號】CN105140242
【申請?zhí)枴緾N201510599701
【發(fā)明人】蔣學兵, 張然, 高吉磊
【申請人】京東方科技集團股份有限公司, 合肥鑫晟光電科技有限公司
【公開日】2015年12月9日
【申請日】2015年9月18日