多工作臺或多腔體檢測系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域，并且尤其地，涉及半導(dǎo)體的檢測系統(tǒng)中的產(chǎn)能管理技術(shù)。
【背景技術(shù)】
[0002]檢測系統(tǒng)幫助半導(dǎo)體制造商提尚和保持集成電路(IC)芯片的廣能。半導(dǎo)體制造商以每年接近10億美元的價值購買檢測系統(tǒng)。這樣的資金投資證明檢測系統(tǒng)在制造集成電路芯片過程中的價值。集成電路工業(yè)采用檢測系統(tǒng)檢測在制造過程可能發(fā)生的多種缺陷。提供檢測系統(tǒng)的目的之一是為了監(jiān)測制造過程是否受控。如果不是，則系統(tǒng)可以幫助指明問題的源頭。檢測系統(tǒng)的主要特征是缺陷檢測敏感度和產(chǎn)能。敏感度和產(chǎn)能通常是相關(guān)的，因為大體上來說，敏感度越大通常意味著產(chǎn)能或產(chǎn)能越低。
[0003]半導(dǎo)體制造工業(yè)的發(fā)展對產(chǎn)能管理，尤其是量測和檢測系統(tǒng)提出越來越高的要求。臨界尺寸正持續(xù)地減小，同時晶片尺寸正從200mm增大至300mm，甚至在將來可能更大。經(jīng)濟性正驅(qū)使工業(yè)縮短實現(xiàn)高產(chǎn)能、高價值生產(chǎn)過程的時間。因此，減小從檢測到產(chǎn)能問題至修理它的總的時間決定了半導(dǎo)體制造商的資金回報。
[0004]因此，極為需要方法或檢測系統(tǒng)，其適于能夠提供最有效的產(chǎn)能管理。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本部分旨在概述本發(fā)明的一些方面并簡要地介紹一些優(yōu)選的實施例。為了避免使得本部分的用途不清楚，作出了簡化或刪減。這些簡化或刪減不應(yīng)限制本發(fā)明的保護范圍。
[0006]大體上，本發(fā)明涉及半導(dǎo)體檢測系統(tǒng)中的產(chǎn)能管理技術(shù)。根據(jù)本發(fā)明的一方面，電子束檢測系統(tǒng)包括多工作臺或多腔體，其中腔體或工作臺(N2 2)被布置以形成用于晶片或掩模檢測的一個或多個路線。在每個腔體內(nèi)(或在每個工作臺處)的檢測流程通過其在路線中的次級和所用的相對的多個鏡筒確定。具有N個腔體或工作臺的系統(tǒng)可以同時處理最大數(shù)量N個晶片或掩模。
[0007]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，腔體或工作臺的功能的分配或指派遵循一種方法以最大化總的產(chǎn)能。晶片或掩模隨后在不同的腔體內(nèi)(或在不同的工作臺)檢測或檢查特定類型的特征和關(guān)心的區(qū)域，并且根據(jù)傳遞路線的次級轉(zhuǎn)移。
[0008]根據(jù)本發(fā)明的還一方面，多個腔體或工作臺的至少一個包括組件，該組件通?？梢园ǘ鄠€(例如50-200)單獨的鏡筒，每個鏡筒具有單獨的電子束，因而是多鏡筒電子束檢測系統(tǒng)。多個鏡筒通過它們的功能、權(quán)重和性能進行分配。特定功能的鏡筒(例如檢測、檢查)被用于特定類型的掃描，具有不同性能(例如斑點尺寸)的鏡筒相應(yīng)地被指定用于不同的任務(wù)或關(guān)心的區(qū)域。
[0009]本發(fā)明可以應(yīng)用為方法、系統(tǒng)、設(shè)備或系統(tǒng)的部分，不同的應(yīng)用得到不同的有益效果、優(yōu)點和目的。根據(jù)一個實施例，本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體檢測系統(tǒng)，包括控制器、定位以接收樣品用于在其內(nèi)的第一類型檢測的第一檢測站，以及至少兩個第二檢測站，該至少兩個第二檢測站的每一個配置成實施第二類型檢測，其中該控制器執(zhí)行控制模塊，所述控制模塊配置成當樣品完成第一類型檢測時從所述至少兩個第二檢測站確定一個第二檢測站，所述第二檢測站被確定為使得第一站和第二站之間的時間間斷最小并且逐步地提高檢測精度。
[0010]根據(jù)一個實施例，本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體檢測系統(tǒng)，包括控制器;第一組檢測站，所述第一組檢測站的每一個配置成實施第一類型檢測；第二組檢測站，所述第二組檢測站的每一個配置成執(zhí)行第二類型檢測。第一類型檢測用于檢測樣品上大于預(yù)定尺寸范圍的缺陷并且第二類型檢測用于檢測樣品上小于預(yù)定尺寸范圍的缺陷。控制模塊在控制器內(nèi)執(zhí)行并且配置成確定第二組檢測站的不被占用的一個以接收來自第一組檢測站中的一個的物品，而不會在將被檢測過的物品從一個檢測站移至另一檢測站的時候由于第二組檢測站的被占用的檢測站引起延遲。
[0011 ]根據(jù)一個實施例，一種檢測系統(tǒng)，包括:控制器:
[0012]第一檢測站，定位成接收樣品以便在其中進行第一類型檢測;和
[0013]至少兩個第二檢測站，配置成執(zhí)行第二類型檢測，其中所述控制器被引起執(zhí)行控制模塊，所述控制模塊配置成當樣品完成第一類型檢測時從至少兩個檢測站確定第二檢測站，確定所述第二檢測站使得第一檢測站和第二檢測站之間的時間間斷最短并且檢測精度被逐步提尚。
[0014]根據(jù)一個實施例，控制模塊配置成接收來自第一檢測站的在樣品上的第一類型檢測結(jié)果，并且基于該結(jié)果確定第二檢測站。
[0015]根據(jù)一個實施例，控制模塊配置成當看起來不需要進一步檢測的時候引起樣品被推離進一步的檢測。
[0016]根據(jù)一個實施例，檢測系統(tǒng)包括總的N個檢測站，所述總的N個檢測站包括第一檢測站和至少兩個第二檢測站，在檢測系統(tǒng)中同時處理最大數(shù)量N個樣品。
[0017]根據(jù)一個實施例，樣品是晶片或掩模。
[0018]根據(jù)一個實施例，第一檢測站和至少兩個第二檢測站的至少一個是基于使用多鏡筒的電子束檢測系統(tǒng)。
[0019]根據(jù)一個實施例，多個鏡筒被分成具有不同功能的多組，具有不同功能的多個鏡筒以控制器控制的時間次級工作。
[0020]根據(jù)一個實施例，多個鏡筒被設(shè)置不同的權(quán)重值，具有較高權(quán)重值的多個鏡筒主要用于掃描。
[0021]根據(jù)一個實施例，具有不同性能的多個鏡筒被指派不同的掃描任務(wù)或用于樣品的不同的關(guān)心區(qū)域。
[0022]根據(jù)一個實施例，第一檢測站和至少兩個第二檢測站的至少一個是包括至少一個工作臺的腔體，該至少一個工作臺配置成用特定像素尺寸執(zhí)行一種類型的檢測。
[0023]根據(jù)一個實施例，檢測系統(tǒng)還包括具有多個工作臺的腔體，所述多個工作臺的每一個配置成執(zhí)行一種類型檢測，其中第一檢測站和至少兩個第二檢測站的每一個是工作臺的一個。
[0024]根據(jù)一個實施例，一種檢測系統(tǒng)，包括:
[0025]控制器；
[0026]第一組檢測站，配置成執(zhí)行第一類型檢測；
[0027]第二組檢測站，配置成執(zhí)行第二類型檢測;和
[0028]其中第一類型檢測使用預(yù)定像素尺寸檢測，第二類型檢測使用小于所述預(yù)定像素尺寸檢測，控制模塊通過控制器執(zhí)行并且配置成當從一個檢測站移動被檢測物品至另一檢測站時，在不引起任何延遲的情況下確定第二組檢測站中沒有被占用的一個接收來自第一組檢測站的一個的被檢測物品。
[0029]根據(jù)一個實施例，半導(dǎo)體檢測系統(tǒng)包括總的N個檢測站，所述總的N個檢測站包括第一組檢測站和第二組檢測站，在半導(dǎo)體檢測系統(tǒng)中同時處理最大數(shù)量N個物品。
[0030]根據(jù)一個實施例，所述物品的每一個是晶片或掩模。
[0031]根據(jù)一個實施例，第一組檢測站和第二組檢測站的至少一個是基于使用多鏡筒的電子束檢測工具。
[0032]根據(jù)一個實施例，多個鏡筒被分成具有不同功能的多組，具有不同功能的多個鏡筒以控制器控制的時間次級工作。
[0033]根據(jù)一個實施例，多個鏡筒被設(shè)置不同權(quán)重值，具有較高權(quán)重值的多個鏡筒主要用于掃描。
[0034]根據(jù)一個實施例，具有不同性能的多個鏡筒被指派不同的掃描任務(wù)或用于樣品的不同的關(guān)心區(qū)域。
[0035]根據(jù)一個實施例，第一組檢測站和第二組檢測站的每一個是包括多個工作臺的腔體，多個工作臺的每一個配置成用特定像素尺寸執(zhí)行一種類型的檢測。
[0036]根據(jù)一個實施例，檢測系統(tǒng)還包括具有多個工作臺的腔體，多個工作臺的每一個配置成用特定像素尺寸執(zhí)行一種類型的檢測，其中第一組檢測站和第二組檢測站的每一個是多個工作臺的一個。
[0037]在實施下面的說明書和附圖中示出的實施例中的結(jié)果過程中可以得到前面提到的以及其他的目的、特征、有益效果和優(yōu)點。
【附圖說明】
[0038]通過下面的說明書、未決權(quán)利要求書以及附圖變得更容易理解本發(fā)明的此處和其他的特征、方面以及優(yōu)點，在附圖中:
[0039]圖1示出一種