通過權(quán)重值:多個(gè)鏡筒被設(shè)置不同權(quán)重值，具有較高權(quán)重的多個(gè)鏡筒主要用于掃描；以及
[0078]3.通過性能:具有不同性能的多個(gè)鏡筒被指派不同的掃描任務(wù)或不同的關(guān)心區(qū)域。
[0079]對于不同的圖案或關(guān)心區(qū)域，可以通過遵循特定規(guī)則和法則靈活地應(yīng)用這些模式的組合。
[0080]現(xiàn)在參照圖6A，圖6A示出示例性鏡筒的一部分，而不是相同地使用的全部鏡筒。如圖6A所示，一組鏡筒被選定用以執(zhí)行特定的檢測，例如粗略檢測，而另一組鏡筒被用于隨后的檢測，例如精細(xì)檢測。在一個(gè)實(shí)施例中，在晶片檢測之后，對晶片應(yīng)用檢查過程以便對缺陷進(jìn)行進(jìn)一步分析和分類。有時(shí)候，樣品的僅特定的關(guān)鍵區(qū)域需要檢測。在此情況下，關(guān)鍵區(qū)域可以統(tǒng)一通過使用定制的或計(jì)算的檢測路線檢測，使得全部關(guān)鍵區(qū)域?qū)⒁宰罴逊绞?例如最短的行進(jìn)距離)被選定的鏡筒覆蓋，或通過最快的檢測時(shí)間覆蓋。
[0081]圖6B示出示例性鏡筒的另一部分，在此部分具有較高權(quán)重值的鏡筒具有較高的掃描優(yōu)先級。圖6C示出具有不同性能的鏡筒掃描不同的區(qū)域。對于不同的圖案或關(guān)心的區(qū)域，通過遵循特定規(guī)則和法則可以靈活地應(yīng)用這些模式的組合。例如，給出樣品上關(guān)心區(qū)域位置和任務(wù)、鏡筒的多種配置(功能、權(quán)重以及性能)以及電子束工具的成本因素，可以形成優(yōu)化問題，以便最小化工作臺(tái)必須行進(jìn)用以覆蓋全部關(guān)心區(qū)域的距離，或以特定次級設(shè)置多種功能。在一個(gè)實(shí)施例中，可以以更高的精度執(zhí)行檢測。目的在于最小化將要花費(fèi)在檢測樣品的時(shí)間。
[0082]鏡筒的權(quán)重值可以通過它們的位置、性能或其他因素確定，具有較高權(quán)重值的鏡筒享受掃描的較高優(yōu)先級。隨后通過鏡筒的功能、權(quán)重以及性能或通過這些因素的(遵循特定法則)某些特定組合指派掃描任務(wù)。
[0083]現(xiàn)在參照圖7，圖7示出基于三個(gè)因素:功能、權(quán)重以及性能配置鏡筒的流程圖或過程700。可以在作為模塊的軟件中實(shí)施過程700，或?qū)④浖陀布Y(jié)合起來實(shí)施過程700。為了方便描述過程700，將參照前面的附圖。
[0084]根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，多個(gè)樣品沿移動(dòng)機(jī)構(gòu)(例如傳送帶或機(jī)械臂)移動(dòng)通過一組站。為了有效地使用站的檢測工具或檢測器(例如電子束)的鏡筒，在702，進(jìn)入樣品的布置。在操作過程中，分析樣品的布置以確定樣品的哪個(gè)區(qū)域需要哪種傳感器以進(jìn)行感測或檢查，并且通常以哪種方案進(jìn)行感測或檢查。目的在于最小化需要用于樣品的多種檢測的時(shí)間。
[0085]過程700進(jìn)行至704，根據(jù)在702得到的布置配置鏡筒。圖6A、圖6B以及圖6C是一些可以配置鏡筒的樣品。在706，樣品中的一個(gè)移動(dòng)至設(shè)置用于通過鏡筒檢測的站。鏡筒或其他傳感器中的一個(gè)被設(shè)置成確保該樣品被正確地定位以便檢測。一旦確保樣品正確地定位，則進(jìn)行檢測，如708。
[0086]如上所述，根據(jù)704配置的鏡筒被放置以執(zhí)行它們各自的任務(wù)。依賴于這種配置，一些進(jìn)行掃描，一些進(jìn)行檢查和分析，同時(shí)其他鏡筒可以以相同或不同的方案查看樣品不同的區(qū)域。可選地，過程700進(jìn)行至710，在此相同站的鏡筒可以及時(shí)地配置以根據(jù)不同的功能、權(quán)重或性能針對不同類型的檢測進(jìn)行改變。
[0087]本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該認(rèn)識到，對于任何多鏡筒電子束檢測系統(tǒng)，本發(fā)明將導(dǎo)致較高的平均使用率，更短的掃描時(shí)間，因此導(dǎo)致更高的效率，這轉(zhuǎn)化為更高的產(chǎn)能。
[0088]本發(fā)明已經(jīng)以特定程度的特性足夠詳細(xì)地描述。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解，此處公開的實(shí)施例僅作為示例，在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的前提下可以對布置進(jìn)行多種修改和多個(gè)部分的組合。相應(yīng)地，本發(fā)明的范圍通過未決的權(quán)利要求限定，而不是前述的【具體實(shí)施方式】。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種檢測系統(tǒng)，包括: 控制器: 第一檢測站，定位成接收樣品以便在其中進(jìn)行第一類型檢測;和 至少兩個(gè)第二檢測站，配置成執(zhí)行第二類型檢測，其中所述控制器被引起執(zhí)行控制模塊，所述控制模塊配置成當(dāng)樣品完成第一類型檢測時(shí)從至少兩個(gè)檢測站確定第二檢測站，確定所述第二檢測站使得第一檢測站和第二檢測站之間的時(shí)間間斷最短并且檢測精度被逐步提尚。2.如權(quán)利要求1所述的檢測系統(tǒng)，其中控制模塊配置成接收來自第一檢測站的在樣品上的第一類型檢測結(jié)果，并且基于該結(jié)果確定第二檢測站。3.如權(quán)利要求2所述的檢測系統(tǒng)，其中控制模塊配置成當(dāng)看起來不需要進(jìn)一步檢測的時(shí)候引起樣品被推離進(jìn)一步的檢測。4.如權(quán)利要求3所述的檢測系統(tǒng)，其中檢測系統(tǒng)包括總的N個(gè)檢測站，所述總的N個(gè)檢測站包括第一檢測站和至少兩個(gè)第二檢測站，在檢測系統(tǒng)中同時(shí)處理最大數(shù)量N個(gè)樣品。5.如權(quán)利要求4所述的檢測系統(tǒng)，其中樣品是晶片或掩模。6.如權(quán)利要求4所述的檢測系統(tǒng)，其中第一檢測站和至少兩個(gè)第二檢測站的至少一個(gè)是基于使用多鏡筒的電子束檢測系統(tǒng)。7.如權(quán)利要求6所述的檢測系統(tǒng)，其中多個(gè)鏡筒被分成具有不同功能的多組，具有不同功能的多個(gè)鏡筒以控制器控制的時(shí)間次級工作。8.如權(quán)利要求6所述的檢測系統(tǒng)，其中多個(gè)鏡筒被設(shè)置不同的權(quán)重值，具有較高權(quán)重值的多個(gè)鏡筒主要用于掃描。9.如權(quán)利要求6所述的檢測系統(tǒng)，其中具有不同性能的多個(gè)鏡筒被指派不同的掃描任務(wù)或用于樣品的不同的關(guān)心區(qū)域。10.如權(quán)利要求1所述的檢測系統(tǒng)，其中第一檢測站和至少兩個(gè)第二檢測站的至少一個(gè)是包括至少一個(gè)工作臺(tái)的腔體，該至少一個(gè)工作臺(tái)配置成用特定像素尺寸執(zhí)行一種類型的檢測。11.如權(quán)利要求1所述的檢測系統(tǒng)，還包括具有多個(gè)工作臺(tái)的腔體，所述多個(gè)工作臺(tái)的每一個(gè)配置成執(zhí)行一種類型檢測，其中第一檢測站和至少兩個(gè)第二檢測站的每一個(gè)是工作臺(tái)的一個(gè)。12.—種檢測系統(tǒng)，包括: 控制器； 第一組檢測站，配置成執(zhí)行第一類型檢測； 第二組檢測站，配置成執(zhí)行第二類型檢測;和 其中第一類型檢測使用預(yù)定像素尺寸檢測，第二類型檢測使用小于所述預(yù)定像素尺寸檢測，控制模塊通過控制器執(zhí)行并且配置成當(dāng)從一個(gè)檢測站移動(dòng)被檢測物品至另一檢測站時(shí)，在不引起任何延遲的情況下確定第二組檢測站中沒有被占用的一個(gè)接收來自第一組檢測站的一個(gè)的被檢測物品。13.如權(quán)利要求12所述的檢測系統(tǒng)，其中半導(dǎo)體檢測系統(tǒng)包括總的N個(gè)檢測站，所述總的N個(gè)檢測站包括第一組檢測站和第二組檢測站，在半導(dǎo)體檢測系統(tǒng)中同時(shí)處理最大數(shù)量N個(gè)物品。14.如權(quán)利要求13所述的檢測系統(tǒng)，其中所述物品的每一個(gè)是晶片或掩模。15.如權(quán)利要求13所述的檢測系統(tǒng)，其中第一組檢測站和第二組檢測站的至少一個(gè)是基于使用多鏡筒的電子束檢測工具。16.如權(quán)利要求15所述的檢測系統(tǒng)，其中多個(gè)鏡筒被分成具有不同功能的多組，具有不同功能的多個(gè)鏡筒以控制器控制的時(shí)間次級工作。17.如權(quán)利要求15所述的檢測系統(tǒng)，其中多個(gè)鏡筒被設(shè)置不同權(quán)重值，具有較高權(quán)重值的多個(gè)鏡筒主要用于掃描。18.如權(quán)利要求15所述的檢測系統(tǒng)，其中具有不同性能的多個(gè)鏡筒被指派不同的掃描任務(wù)或用于樣品的不同的關(guān)心區(qū)域。19.如權(quán)利要求12所述的檢測系統(tǒng)，其中第一組檢測站和第二組檢測站的每一個(gè)是包括多個(gè)工作臺(tái)的腔體，多個(gè)工作臺(tái)的每一個(gè)配置成用特定像素尺寸執(zhí)行一種類型的檢測。20.如權(quán)利要求12所述的檢測系統(tǒng)，還包括具有多個(gè)工作臺(tái)的腔體，多個(gè)工作臺(tái)的每一個(gè)配置成用特定像素尺寸執(zhí)行一種類型的檢測，其中第一組檢測站和第二組檢測站的每一個(gè)是多個(gè)工作臺(tái)的一個(gè)。
【專利摘要】本發(fā)明公開一種檢測系統(tǒng)。根據(jù)本發(fā)明一方面，檢測系統(tǒng)包括多工作臺(tái)或多腔體，其中腔體或工作臺(tái)(N≥2)被布置成形成一個(gè)或多個(gè)路線用于晶片或掩模的檢測。每個(gè)腔體中(或在每個(gè)工作臺(tái))的檢測流程通過其在路線中的次級和所用的相對鏡筒確定。對于具有N個(gè)腔體或工作臺(tái)的系統(tǒng)，可以同時(shí)處理最大數(shù)量N個(gè)晶片或掩模。
【IPC分類】H01L21/66
【公開號】CN105702597
【申請?zhí)枴緾N201610082232
【發(fā)明人】馬衛(wèi)民, 孫偉強(qiáng)
【申請人】東方晶源微電子科技（北京）有限公司
【公開日】2016年6月22日
【申請日】2016年2月5日