一種四極質(zhì)譜計的離子源的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型屬于一種離子源，具體涉及一種四極質(zhì)譜計的離子源。
【背景技術】
[0002]在原子光譜試驗中，原子的激光電離率和選擇性對試驗具有重要影響，理想的電離率和選擇性參數(shù)可以大幅提高試驗效率。原子的激光電離率和選擇性主要受激光的波長、功率密度、光斑均勻性、同步延遲等參數(shù)的影響。由于原子光譜試驗過程中激光參數(shù)是不斷變化的，且以往未能實現(xiàn)對激光電離率和選擇性直接或間接的在線檢測，因此無法通過實時調(diào)整激光參數(shù)來獲得理想的原子電離率和選擇性數(shù)值，這對試驗的可控性和試驗效率的提尚極為不利。
[0003]試驗證明通過檢測原子與激光作用后的離子(簡稱光離子)成分、數(shù)量可以換算出原子電離率和選擇性數(shù)據(jù)，這需要一種具備直接檢測離子功能的檢測設備。四極質(zhì)譜計因其離子源結(jié)構(gòu)所限，雖然可以實現(xiàn)對原子成分、數(shù)量的在線分析，不能實現(xiàn)對離子的直接測量。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實用新型為解決現(xiàn)有技術存在的問題而提出，其目的是提供一種四極質(zhì)譜計的離子源。
[0005]本實用新型的技術方案是:一種四極質(zhì)譜計的離子源，包括長方體狀的電離箱，電離箱側(cè)壁形成貫通的入光孔，另一相對側(cè)壁形成原子入射孔，底部的電離底板中形成電離孔，電離箱下方的萃取板、基板上分別形成與電離孔同軸的萃取孔、基板孔，萃取板上下端面分別設置有與電離底板、基板相接觸的陶瓷絕緣柱，形成入射孔的入射板通過兩根支撐柱與基板下端面相連，所述的支撐柱穿過聚焦板的導向孔，聚焦板中心孔處設置有聚焦管，聚焦板下端面與入射板上端面之間設置有入射板絕緣柱，聚焦管、入射孔均與電離孔同軸。
[0006]所述的導向孔、支撐柱之間為間隙配合。
[0007]萃取板上下端面的陶瓷絕緣柱均位于萃取板的端面對角線處。
[0008]原子入射孔孔徑大于電離孔的孔徑。
[0009]本實用新型能夠直接將激光電離后的離子聚焦、萃取和加速引入四極質(zhì)譜計的質(zhì)量分析儀中，使四極質(zhì)譜計具備直接在線檢測離子的功能，實現(xiàn)原子電離率和選擇性的在線測量，從而實時調(diào)整激光參數(shù)，來提高原子光譜試驗的可控性和試驗效率。
【附圖說明】
[0010]圖1是本實用新型的主視圖；
[0011]圖2是本實用新型的俯視圖；
[0012]圖3是本實用新型的電壓分布圖。
[0013]其中:
[0014]I電離箱2入光孔
[0015]3電離孔4陶瓷絕緣柱
[0016]5萃取板6萃取孔[0〇17]7基板8基板孔
[0018]9支撐柱10聚焦板
[0019]11聚焦管12入射板
[0020]13入射孔14質(zhì)量分析儀
[0021]15導向孔16電離底板
[0022]17入射板絕緣柱18原子入射孔。
【具體實施方式】
[0023]以下，參照附圖和實施例對本實用新型進行詳細說明:
[0024]如圖1~3所示，一種四極質(zhì)譜計的離子源，包括長方體狀的電離箱1，電離箱I側(cè)壁形成貫通的入光孔2，另一相對側(cè)壁形成原子入射孔18，底部的電離底板16中形成電離孔3，電離箱I下方的萃取板5、基板7上分別形成與電離孔3同軸的萃取孔6、基板孔8，萃取板5上下端面分別設置有與電離底板16、基板7相接觸的陶瓷絕緣柱4，形成入射孔13的入射板12通過兩根支撐柱9與基板7下端面相連，所述的支撐柱9穿過聚焦板10的導向孔15，聚焦板10中心孔處設置有聚焦管11，聚焦板10下端面與入射板12上端面之間設置有入射板絕緣柱17，聚焦管11、入射孔13均與電離孔3同軸。
[0025]所述的導向孔15、支撐柱9之間為間隙配合。
[0026]萃取板5上下端面的陶瓷絕緣柱4均為四個，且位于萃取板5的端面對角線處，
[0027]原子入射孔18孔徑大于電離孔3的孔徑。
[0028]電離箱I內(nèi)部為激光與原子蒸氣的作用區(qū)即產(chǎn)生離子的區(qū)域，電離箱I頂部的原子入射孔18為原子蒸氣向上飛行的通道，電離箱I側(cè)壁處的入光孔2為激光入光孔，電離箱I連接到+90V電壓上。
[0029]所述的萃取板5與-110V電壓連接。
[0030]所述的基板7與OV電壓連接。
[0031]所述的聚焦板10、聚焦管11與與60V電壓連接。
[0032]所述的入射版13與OV電壓連接。
[0033]本實用新型中中原子在電離箱I內(nèi)被激光電離成為離子，離子在電離箱I電場作用下匯聚，然后被萃取板5牽引穿過電離孔3、基板孔8進入聚焦管11后再次匯聚，最后穿過入射孔13進入到四極質(zhì)譜計的質(zhì)量分析儀14中。
[0034]本實用新型能夠直接將激光電離后的離子聚焦、萃取和加速引入四極質(zhì)譜計的質(zhì)量分析儀中，使四極質(zhì)譜計具備直接在線檢測離子的功能，實現(xiàn)原子電離率和選擇性的在線測量，從而實時調(diào)整激光參數(shù)，來提高原子光譜試驗的可控性和試驗效率。
【主權(quán)項】
1.一種四極質(zhì)譜計的離子源，包括長方體狀的電離箱(I)，其特征在于:電離箱(I)相對側(cè)壁形成貫通的入光孔(2)，另一相對側(cè)壁形成原子入射孔(18)，底部的電離底板(16)中形成電離孔(3)，電離箱(I)下方的萃取板(5)、基板(7)上分別形成與電離孔(3)同軸的萃取孔(6)、基板孔(8)，萃取板(5)上下端面分別設置有與電離底板(16)、基板(7)相接觸的陶瓷絕緣柱(4)，形成入射孔(13)的入射板(12)通過兩根支撐柱(9)與基板(7)下端面相連，所述的支撐柱(9)穿過聚焦板(10)的導向孔(15)，聚焦板(10)中心孔處設置有聚焦管(11 )，聚焦板(10)下端面與入射板(12)上端面之間設置有入射板絕緣柱(17)，聚焦管(11)、入射孔(13)均與電離孔(3)同軸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種四極質(zhì)譜計的離子源，其特征在于:所述的導向孔(15)、支撐柱(9)之間為間隙配合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種四極質(zhì)譜計的離子源，其特征在于:萃取板(5)上下端面的陶瓷絕緣柱(4)均位于萃取板(5)的端面對角線處。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種四極質(zhì)譜計的離子源，其特征在于:原子入射孔(18)孔徑大于電離孔(3)的孔徑。
【專利摘要】本實用新型公開了一種四極質(zhì)譜計的離子源，包括長方體狀的電離箱，電離箱側(cè)壁形成貫通的入光孔，另一相對側(cè)壁形成原子入射孔，底部的電離底板中形成電離孔，電離箱下方的萃取板、基板上分別形成與電離孔同軸的萃取孔、基板孔，萃取板上下端面分別設置有與電離底板、基板相接觸的陶瓷絕緣柱，形成入射孔的入射板通過兩根支撐柱與基板下端面相連，所述的支撐柱穿過聚焦板的導向孔，聚焦板中心孔處設置有聚焦管，聚焦板下端面與入射板上端面之間設置有入射板絕緣柱，聚焦管、入射孔均與電離孔同軸。本實用新型能夠直接將激光電離后的離子聚焦、萃取和加速引入質(zhì)量分析儀中，從而實時調(diào)整激光參數(shù)，來提高原子光譜試驗的可控性和試驗效率。
【IPC分類】H01J49-14, H01J49-06
【公開號】CN204480995
【申請?zhí)枴緾N201520111427
【發(fā)明人】劉海勇, 張曉衛(wèi), 高鵬
【申請人】核工業(yè)理化工程研究院
【公開日】2015年7月15日
【申請日】2015年2月16日