專利名稱：便攜式電子裝置外殼的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種便攜式電子裝置外殼，特別是指一種在金屬基體表面形成有防指紋鍍層的便攜式電子裝置外殼。
背景技術(shù)：
目前，鐵、鋁等金屬材料因為具有優(yōu)良的加工性能，而廣泛應(yīng)用在汽車、電子、通信等眾多領(lǐng)域。但是，鋁材由于硬度低、耐磨性差，而鐵件暴露在空氣中則容易被腐蝕，因而在使用前需要進行電鍍、烤漆等功能性或裝飾性處理，以彌補材料自身的缺陷。如美國專利第5,783,313號即揭示了一種在金屬基體表面形成鎳、鈀、鉬的復(fù)合鍍層，以提高基體表面的亮度和耐磨性的電鍍方法；而中國專利CN 1030851A號則通過電鍍Zn-Ni合金的方法提高金屬材料的抗腐蝕性能。其它，如計算機、汽車、移動電話等許多具有金屬殼體的產(chǎn)品一般通過烤漆制程提高表面質(zhì)量。但是，上述電鍍、烤漆等制程通常需要浸蝕、水洗、除油等前期準備工序，流程復(fù)雜而且所用的廢液不容易回收，會對環(huán)境造成不同程度污染。
另外，產(chǎn)品經(jīng)上述處理后，表面品質(zhì)雖有所改善，但是這些產(chǎn)品多為日常用品，與人體經(jīng)常接觸，特別是與手指接觸時會在表面留下清晰的指紋。眾所周知，指紋中含有水、灰塵、鹽等腐蝕性物質(zhì)，不僅影響美觀，久而久之，會加速表面的銹蝕，而且在使用過程中需要定期對表面進行擦拭、清洗等工作來清除指紋，造成不便。
創(chuàng)作內(nèi)容本實用新型的目的在于提供一種防指紋的便攜式電子裝置外殼。
本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的便攜式電子裝置外殼包括金屬基體及鍍層，鍍層是經(jīng)等離子化學(xué)氣相沉積而在金屬基體表面形成的含氧硅化物層。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的優(yōu)點在于使用者觸摸而不會在便攜式電子裝置外殼表面留下指紋。

圖1為本實用新型的剖視圖。
圖2為本實用新型所使用的處理裝置的示意圖。
圖3為本實用新型的處理流程示意圖。
具體實施方式請參照圖1所示，本實用新型便攜式電子裝置外殼1可應(yīng)用于移動電話、個人數(shù)字助理(PDA)等產(chǎn)品上，它包括基體10及鍍層12。其中，基體10是金屬板經(jīng)切割、沖壓或其它方法加工制成，厚度通常在0.2～5mm，鍍層12是經(jīng)等離子化學(xué)氣相沉積而在上述基體10的表面沉積獲得的含氧硅化物層，厚度在0.1～10μm之間。
請參看圖2所示，等離子化學(xué)氣相沉積處理裝置由氣源柜1、流量控制器11、真空泵8、真空爐2、設(shè)置在真空爐2內(nèi)的兩相對電極板3、及與電極板3相連的射頻高壓電源4組成。其中真空爐2內(nèi)設(shè)置有氣體入口5、破真空閥6及開孔13，氣體入口5用來分別注入工作氣體TMDS(1，1，3，3-四甲基二硅氧烷)及O2，破真空閥6用來去除真空，開孔13用來將真空爐2與真空泵8相連，閥門7用以控制真空泵8對真空爐2進行抽真空后的壓力使爐內(nèi)始終能保持0.67Pa以下的真空度。另外，所述電極板3一個接地，另一個則與射頻高壓電源4連接。
請參看圖3所示，對基體10表面的處理步驟如下(1)選用粒度介于0.5～1mm之間的石英砂，在使用前烘干，利用壓縮空氣在0.15～0.3MPa壓力下，將石英砂經(jīng)噴嘴噴至待處理的基體10表面進行處理，大概3～5秒鐘，將經(jīng)噴砂處理過的基體10立即放入50g/L碳酸鈉溶液中貯存或進行磷化處理。
(2)將貯存在碳酸鈉溶液中的基體10取出，放入充有少量惰性保護氣體(如氬氣)的烘烤爐內(nèi)預(yù)熱30分鐘，使其溫度達到100～200℃，取出再放到真空爐2內(nèi)電極板3上，關(guān)閉真空爐2，打開閥門7使真空泵8對真空爐2抽真空，使真空爐2內(nèi)的真空度達到0.67Pa以下。
(3)打開流量控制器11，向真空爐2內(nèi)注入工作氣體TMDS及O2，使TMDS的流速保持在50～150cm3/分鐘，O2流量速度為200～300cm3/分鐘，TMDS與O2體積流量比最好保持在2∶5，并利用壓力調(diào)節(jié)閥(圖未示)使真空爐2內(nèi)的壓力控制在2.67～1333.2Pa。
(4)使真空爐2內(nèi)溫度達到150℃左右，接通功率為500W的射頻高壓電源4，使其射頻頻率達到13.56MHz，工作氣體TMDS在射頻高壓作用下進行輝光放電，形成等離子體物理場，在電場力作用下使電離的等離子體和基體10的表面發(fā)生界面反應(yīng)，結(jié)合沉積在基體10的表面，形成鍍層12。
(5)40分鐘至70分鐘后，切斷射頻高壓電源4，并冷卻，最后打開破真空閥6將壓強恢復(fù)到常壓并取出基體10。
經(jīng)上述處理后的便攜式電子裝置外殼，經(jīng)試驗，與手指接觸不會在表面留下指紋，而且表面抗腐蝕能力也有所增強。
權(quán)利要求1.一種便攜式電子裝置外殼，包括由金屬材料制成的基體，其特征在于在所述基體外表面覆有一含氧硅化物(SixOy)的鍍層。
2.如權(quán)利要求1所述的便攜式電子裝置外殼，其特征在于該基體具有經(jīng)噴砂處理之表面。
3.如權(quán)利要求2所述的便攜式電子裝置外殼，其特征在于該含氧硅化物層的厚度小于基體的厚度。
4.如權(quán)利要求3所述的便攜式電子裝置外殼，其特征在于該含氧硅化物層的厚度在0.1～10μm之間。
5.如權(quán)利要求4所述的便攜式電子裝置外殼，其特征在于該基體材料為鈦合金。
專利摘要一種便攜式電子裝置外殼,包括金屬基體及鍍層。鍍層是經(jīng)等離子化學(xué)氣相沉積(Plasma Chemical VapourDeposition)而在該金屬基體表面形成的含氧硅化物(SixOy)層,達到防止使用者因觸摸而在便攜式電子裝置外殼表面留下指紋的效果。
文檔編號G12B9/02GK2519591SQ0125792
公開日2002年10月30日 申請日期2001年11月7日 優(yōu)先權(quán)日2001年11月7日
發(fā)明者簡文山 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司