專利名稱：曝光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及曝光裝置(exposing device)。 技術(shù)背景光蝕刻法(photolithographic method)在涂抹光致抗蝕劑等感光材料 的基板表面上通過曝光裝置感光燒上預(yù)定的圖案，而后通過蝕刻工序在 基板上形成圖案，這種光蝕刻法在各種領(lǐng)域廣泛應(yīng)用，且印刷配線基板 等近年來也使用曝光裝置來制造。在印刷配線基板(print circuit board)的曝光裝置中，如果在光掩模 (photomask)和基板之間存在灰塵，則存在該部分未曝光而成為不合格 產(chǎn)品的問題。在該灰塵中，有例如銅箔那樣其自身沒有粘附性的灰塵和干膜光致 抗蝕劑(dry film photo resist)及抗焊劑(solder resist)那樣其自身具有 粘附性的灰塵，為除去此類灰塵而在曝光裝置中設(shè)置除塵裝置的方案在 日本第3533380號專利，第2847808號專利等中已經(jīng)提出。專利文獻l:日本專利第3533380號專利文獻2:日本專利第2847808號但現(xiàn)狀是，上述現(xiàn)有技術(shù)均為使用清潔輥的構(gòu)造，對抗蝕劑那樣具 有粘附性的灰塵幾乎沒有效果。此外，在曝光裝置中，由于存在真空貼 緊和曝光工序，所以抗蝕劑牢固地附著在掩模及臺板(platen)上，因而 除塵變得更困難，從而使用現(xiàn)有的輥的除塵中存在局限。再有，由于需要用于除去在清潔輥上附著的灰塵的粘附輥機構(gòu)，所 以存在導(dǎo)致裝置大型化、成本上升的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的問題而完成的，其目的是提供使用刮刀(scraper)來進行光掩模及臺板的除塵的曝光裝置。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的曝光裝置具備裝載待曝光印刷配線基 板的臺板；進行將該印刷配線基板裝載于臺板上的基板輸入的基板輸入 裝置；將該印刷配線基板從臺板輸出的基板輸出裝置；以及描繪待曝光 圖案的光掩模，其特征在于，該曝光裝置具備第一刮刀裝置，其與上 述基板輸入裝置聯(lián)動地移動，對上述臺板進行除塵；和第二刮刀裝置， 其與上述基板輸出裝置聯(lián)動地移動，對上述光掩模進行除塵。通過第一及第二刮刀裝置可有效除去臺板和光掩模的具有粘附性的 灰塵。上述第二刮刀裝置在上述基板輸出裝置移動到印刷配線基板位置 期間或上述基板輸出裝置從印刷配線基板位置返回期間中的某一個期間 對光掩模進行除塵即可，此外還可以往復(fù)除塵。上述第一刮刀裝置和第二刮刀裝置優(yōu)選具備接觸對象物的刮刀和將 該刮刀向上述對象物按壓的加壓機構(gòu)，通過該加壓機構(gòu)可保持刮刀和對 象物的接觸，即使刮刀產(chǎn)生磨損等也可保持適當?shù)慕佑|。再有，上述第 一刮刀裝置和第二刮刀裝置優(yōu)選具備可改變該刮刀接觸對象物的接觸角 度的刮刀角度調(diào)整機構(gòu)，通過對刮刀與對象物接觸的角度進行變更調(diào)整， 從而可更有效地進行除塵。此外，上述第一刮刀裝置和第二刮刀裝置還可以構(gòu)成為具備除電裝 置，在除塵前和/或除塵后除去進行除塵的部位所帶的靜電。這樣，在除 塵前可提高除塵效率，在除塵后可防止灰塵的再次附著。再有，通過設(shè)有抽吸由該第一刮刀裝置除去的灰塵的抽吸集塵單元 和抽吸由該第二刮刀裝置除去的灰塵的抽吸集塵單元，可抽吸除去由第 一刮刀裝置和第二刮刀裝置刮取的灰塵。此外，不僅是由該抽吸集塵單 元刮取得灰塵，也可抽吸對象物上的灰塵。根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置，由于即使是粘附性高的灰塵也可有效地進 行除塵，所以具有可實現(xiàn)成品率高的曝光的效果。


圖1是表示本發(fā)明的一個實施方式的示意主視圖。圖2是表示本發(fā)明一個實施方式的第一清潔頭1和第二清潔頭2的 結(jié)構(gòu)的示意主視圖。圖3是表示本發(fā)明一個實施方式的第一清潔頭1和第二清潔頭2的 結(jié)構(gòu)的示意俯視圖。圖4是本發(fā)明一個實施方式的第一清潔頭1的動作說明圖。圖5是本發(fā)明一個實施方式的第二清潔頭2的動作說明圖。標號說明1:第一清潔頭;2:第二清潔頭；3:輸入手；4:輸出手；5:臺板 (platen); 6:掩模保持器；7:曝光臺；9:光源；10:刮刀裝置；11: 刮刀；12:汽缸；15:抽吸嘴；16:除電刷；17:轉(zhuǎn)軸；18:長孔；19: 螺釘；20:曝光部；30:輸入部；40:輸出部。
具體實施方式
下面根據(jù)附圖來說明本發(fā)明的實施方式。圖1是用于制造印刷配線基板的曝光裝置，將被施加了光致抗蝕劑 的印刷配線基板B裝載于臺板5上，通過曝光臺7而可在XYZ及6方向 上移動。在曝光部20中，在基板B的上方配置了安裝在掩模保持器6 (maskholder)上的光掩模M，還在其上設(shè)有光源9。來自光源9的曝光 光束將使描繪在光掩模M上的圖案在基板B上曝光。在上述曝光部20的一側(cè)設(shè)有輸入部30,從前一工序?qū)⒒錌輸入 這里。在輸入部30上設(shè)有輸入手3，由該輸入手3吸附固定基板B，并 將基板B運送到臺板5上。在曝光部20的另一側(cè)設(shè)有輸出部40，且構(gòu)成為在曝光部20處被曝 光的基板B被輸送到這里，并被送往后一工序。在輸出部40上設(shè)有輸出 手4，輸出手4以移動到臺板5上的基板B的位置處，吸附固定基板B 并送至輸出部40的方式構(gòu)成。在上述輸入手3上安裝有第一清潔頭1 。第一清潔頭1安裝在輸入 手3的曝光部20側(cè)，在輸入手3進行輸入動作時，進行臺板5上表面的
除塵。g卩，在輸入手3向曝光部20方向移動時，第一清潔頭l在預(yù)定位 置處與臺板5的上表面接觸，并隨著輸入手3的移動而在臺板5上移動 的同時進行除塵。在輸入手3到達臺板5上時，臺板5上升并接受基板B， 將其吸附固定并下降。然后，輸入手3退到輸入部30。構(gòu)成為通過以上的動作，由第一清潔頭1進行臺板5的除塵。 再有，不僅在基板的輸入期間，通過只使輸入手3移動也可進行除/1、 土o在圖2及圖3中表示第一清潔頭1的結(jié)構(gòu)。后述的第二清潔頭2也 為相同的結(jié)構(gòu)。第一清潔頭1和第二清潔頭2具備刮刀裝置IO、作為抽吸集塵機 的抽吸嘴15以及除電刷16。如圖2及圖3所示，在第一清潔頭1和第二清潔頭2中，刮刀裝置 10可傾斜移動地安裝在第一清潔頭1主體上。刮刀裝置10具有刮刀11， 該刮刀11由汽缸12按壓在作為對象物的掩模M或臺板5上。如圖3所示，刮刀11具有與掩模M、臺板5的寬度大體相同的寬 度，在其兩端由汽缸12可進退地支撐，并以預(yù)定的壓力接觸并按壓掩 模M、臺板4。由于刮刀11隨著使用而磨損，所以可通過汽缸12來補 償該磨損。汽缸12通過其自身的特性來吸收凹凸，并在刮刀11刮取灰塵時具 有緩沖作用。刮刀11以預(yù)定角度接觸掩模M、臺板5，通過預(yù)定的角度調(diào)整機構(gòu) 可調(diào)整其角度。作為角度調(diào)整機構(gòu)可采用各種機構(gòu)，而在本實施方式中， 如圖2所示，構(gòu)成為由轉(zhuǎn)軸17將刮刀裝置10可轉(zhuǎn)動地支撐在清潔頭1 或2上，并通過長孔18和螺釘19以預(yù)定的角度固定。刮刀11構(gòu)成為如圖2所示那樣向前進方向從水平向下預(yù)定角度地接 觸臺板5、掩模M，隨著第一清潔頭1的前進而刮取臺板5、掩模M上 的粘附性的灰塵。在刮刀裝置10的前進方向側(cè)的刮刀11的前端附近，設(shè)有作為抽吸 灰塵單元的抽吸嘴15，來抽吸除去由刮刀ll刮取的粘附性灰塵。此外，
該抽吸嘴15也抽吸并除去臺板5、掩模M上的沒有粘附性的灰塵。第一清潔頭1和第二清潔頭2分別還具備兩個除電刷16，用于除去 臺板5表面或光掩模M的靜電。除電刷16設(shè)于抽吸嘴15之前且刮刀裝 置10之后， 一個在除塵前除去靜電來提高除塵效率。而且，另一個除電 刷16在除塵后除去靜電，具有防止在除塵后灰塵再次附著的功能。接著，對輸出手4進行說明。在輸出手4上安裝有第二清潔頭2。 第二清潔頭2安裝于輸出手4的曝光部20側(cè)，在輸出手4向曝光部20 移動期間進行光掩模M的除塵。此外，如后面所述，也可在輸出動作期 間進行除塵，也可構(gòu)成為用兩者來進行光掩模M的除塵。此外，與基板 的輸出無關(guān)，還可通過僅使輸入手4移動來進行除塵。在輸出手4向曝光部20方向移動時，第二清潔頭2在預(yù)定位置處與 光掩模M接觸，刮刀11接觸掩模M,并隨著輸出手4的移動而在光掩 模M上移動的同時刮取灰塵進行除塵。在輸出手4到達基板B上時，輸 出手4吸附固定基板B，臺板5下降。然后，雖然輸出手4向輸出部40 移動并輸出基板B，但在該輸出時也可以使第二清潔頭2接觸光掩模M 并隨著輸出手4的移動而進行光掩模M上的除塵。再有，輸出手4是除了朝上安裝之外與第一清潔頭1完全相同的結(jié) 構(gòu)，且具備圖2和圖3所示的結(jié)構(gòu)。此外，為在輸出基板B期間也進行除塵，有時需要改變刮刀裝置IO 的傾斜方向。另外，有時也需要改變刮刀裝置10和抽吸嘴15的位置關(guān) 系。在向曝光部20移動期間及輸出期間用兩者迸行除塵的情況下，分別 重新安裝刮刀裝置10和抽吸嘴15，或者可將刮刀裝置10的傾斜變更為 相反方向，從而構(gòu)成為可改變刮刀裝置IO和抽吸嘴15的位置關(guān)系。對以上結(jié)構(gòu)的動作進行說明。首先，根據(jù)圖4來說明第一清潔頭1的動作。首先，從前一工序?qū)?基板B輸入輸入部30。在輸入部30待機的輸入手3抓住(吸附固定) 基板B，并在該狀態(tài)下使輸入手3移動到臺板5上的基板交接位置(去 往路徑)。在輸入手3移動中的預(yù)定位置處，第一清潔頭1的汽缸12工 作，使刮刀ll伸出，并如圖4 (A)所示那樣使刮刀11接觸臺板5的上
表面。抽吸嘴15設(shè)定在接近臺板5上表面的位置處。輸入手3繼續(xù)移動， 在移動中刮刀11刮取在臺板5上附著的灰塵，同時，通過抽吸嘴15來 抽吸已刮取的灰塵。繼續(xù)進行除電刷16的除電。輸入手3到達基板交接 位置后，則如圖4 (B)所示，臺板5上升并接受基板B。此時，第一清 潔頭1位于臺板5的外位置，不與臺板5接觸。接下來，臺板5吸附固定基板B并下降后退。而且，輸入手3回到 輸入部30，臺板5上升，與基板B和光掩模M緊密接觸，光源9點亮進 行曝光。接著，根據(jù)圖5來說明第二清潔頭2的動作。在基板B的曝光結(jié)束時，臺板5和基板B下降，輸出手4從輸出部 40移動到臺板5上的基板交接位置(去往路徑)。在輸入手3移動中的預(yù) 定位置處，如圖5 (A)所示，第二清潔頭2的汽缸12工作，使刮刀ll 伸出，并使刮刀ll接觸光掩模M，輸出手4繼續(xù)移動，通過該移動，刮 刀11刮取、除去在光掩模M上附著的灰塵。該已刮取的灰塵同時由抽吸 嘴15收集。此外，繼續(xù)進行除電刷16的除電。如果輸出手4到達基板 交接位置，則如圖5 (B)所示，曝光臺7和臺板5上升，輸出手4將臺 板5上的已曝光基板B抓住(吸附固定)。而且，臺板5下降后退，輸出 手4移動到輸出部40 (返回路徑)。如上所述，此時也可與去往路徑同樣 地進行除塵。再有，雖然在上述說明中說明了隨著基板的輸入輸出來進行除塵的 動作，但也可不進行基板的輸入輸出而通過僅使輸入手3、輸出手4移動 來進行除塵。根據(jù)以上說明的構(gòu)成，可有效除去掩模M和臺板5的粘附性灰塵。 此外，對于光掩模M，也可對一次曝光進行兩次除塵。特別地，具有通 過臺板5的除塵而可防止在基板B的曝光面的相反面上附著干膜光致抗 蝕劑和抗焊劑等的效果。此外，抽吸嘴15可有效除去由刮刀11刮取的 粘附性灰塵和沒有粘附性的灰塵兩者，從而能可靠除塵。再有，由于通 過除電刷16來除去靜電，所以除塵效率提高，且可防止除塵后的灰塵的 附著。
此外，不需要如使用清潔輥的情況那樣用于除去在清潔輥上附著的 灰塵的粘附輥等機構(gòu)，且裝置體積小并可降低成本。另外，由于第一清潔頭1和第二清潔頭2安裝在輸入手3和輸出手 4上，所以具有不需要設(shè)置新驅(qū)動機構(gòu)等的效果。 .
權(quán)利要求
1. 一種曝光裝置，該曝光裝置具備裝載待曝光印刷配線基板的臺 板；進行將該印刷配線基板裝載于臺板上的基板輸入的基板輸入裝置； 將該印刷配線基板從臺板輸出的基板輸出裝置；以及描繪待曝光圖案的 光掩模，其特征在于，該曝光裝置具備第一刮刀裝置，其與上述基板輸入裝置聯(lián)動地移動，對上述臺板進 行除塵，和第二刮刀裝置，其與上述基板輸出裝置聯(lián)動地移動，對上述光掩模 進行除塵。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于 上述第二刮刀裝置在上述基板輸出裝置移動到印刷配線基板位置期間或上述基板輸出裝置從印刷配線基板位置返回期間中的某一期間對光 掩模進行除塵。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于 上述第二刮刀裝置在上述基板輸出裝置移動到印刷配線基板位置期間對光掩模進行除塵，并在上述基板輸出裝置從印刷配線基板位置返回 期間再次對光掩模進行除塵。
4. 根據(jù)權(quán)利要求l、 2或3所述的曝光裝置，其特征在于-上述第一刮刀裝置和第二刮刀裝置具備接觸對象物的刮刀和將該刮刀向上述對象物按壓的加壓機構(gòu)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l、 2或3所述的曝光裝置，其特征在于 上述第一刮刀裝置和第二刮刀裝置具備接觸對象物的刮刀和可改變該刮刀接觸對象物的接觸角度的刮刀角度調(diào)整機構(gòu)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求l、 2或3所述的曝光裝置，其特征在于-上述第一刮刀裝置和第二刮刀裝置具備除電裝置。
7. 根據(jù)權(quán)利要求l、 2或3所述的曝光裝置，其特征在于 上述第一刮刀裝置具備抽吸由該第一刮刀裝置除去的灰塵的抽吸集塵單元，第二刮刀裝置具備抽吸由該第二刮刀裝置除去的灰塵的抽吸集塵單元。
8.根據(jù)權(quán)利要求l、 2或3所述的曝光裝置，其特征在于上述第一刮刀裝置安裝在基板輸入裝置上，上述第二刮刀裝置安裝 在基板輸出裝置上。
全文摘要
本發(fā)明提供一種曝光裝置，以通過有效地除去光掩模(M)和臺板(5)上的粘附性灰塵而實現(xiàn)成品率高的曝光。第一清潔頭(1)安裝在輸入手(3)的曝光部(20)側(cè)，在輸入手(3)進行輸入動作時，刮刀(11)在預(yù)定位置伸出并接觸臺板(5)的上表面，隨著輸入手(3)的移動而在臺板(5)上移動的同時除去灰塵。第二清潔頭(2)安裝在輸出手(4)的曝光部(20)側(cè)，在輸出手(4)向曝光部(20)進行移動和/或輸出動作期間進行光掩模(M)的除塵。
文檔編號H05K3/06GK101122750SQ200710140259
公開日2008年2月13日 申請日期2007年8月7日 優(yōu)先權(quán)日2006年8月9日
發(fā)明者渡辺義光 申請人:株式會社阿迪泰克工程