專利名稱：：沉積修復(fù)設(shè)備及方法沉積i務(wù)復(fù)設(shè)備及方法相關(guān)申請的交叉參考本申請基于美國法典119(e)第35條要求于2006年5月12曰才是交的才示題為"LineOpenRepairApparatusandMethod"的美國臨時申請No.60/747158的優(yōu)先權(quán)，在此引用其全文作為參考。
背景技術(shù)：
：本發(fā)明一般涉及一種微電電路的非接觸修復(fù)，具體地，涉及平板顯示器例如有源矩陣液晶顯示面板的修復(fù)。在液晶(LC)顯示器的制造期間，釆用薄的大面積清潔玻璃板作為用于沉積薄膜晶體管(TFT)陣列的基板。通常，在一個玻璃基板平板之內(nèi)包含幾個獨(dú)立的TFT陣列，并且通常被稱為TFT面板。此外，有源矩陣LCD或AMLCD覆蓋在每個子像素處利用晶體管或二極管的顯示器的玻璃，并由此包圍TFT器件。這種玻璃基板還稱為AMLCD面板。也可以采用任何一種有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)技術(shù)并通過典型的玻璃上制造來制造平板顯示器(FPD)，也可以在塑料基板上制造平板顯示器(FPD)。在多個階段中進(jìn)行TFT圖形沉積，其中在每個階段中，在預(yù)制層(玻璃)之上與預(yù)定圖形共形地沉積特定材料(例如，金屬，氧化銦錫(ITO)，單晶硅，非晶硅等)。每個階段典型地包括許多階段，例如沉積、掩膜、蝕刻、剝離等。在這些階段的每個階段期間并且在每個階段的各個步驟中，會產(chǎn)生許多產(chǎn)品缺陷，這種缺陷會影響最終LCD產(chǎn)品的電性能和/光性能。如圖1中所示，這些缺陷包括但不限于進(jìn)入ITO112中的金屬凸起110、進(jìn)入金屬116中的ITO凸起114、所謂的鼠齒(mousebite)118、開路120、晶體管124中的短路122、外部顆粒126。其它缺陷包括掩膜問題，蝕刻前后問題等。盡管嚴(yán)格控制TFT沉積工藝，但是缺陷發(fā)生也不能避免。這制約了產(chǎn)量并不利于制造成本。典型地，采用一個或多個自動光學(xué)檢測(AOI)系統(tǒng)(多個系統(tǒng))、隨后進(jìn)行嚴(yán)格的沉積階段并通過光電檢測儀、也稱為陣列檢測儀或陣列檢查儀(AC)來檢測最終的TFT陣列，檢查TFT陣列。通常，AOI和AC系統(tǒng)提供缺陷調(diào)整；它們并不提供高精度的需要將缺陷區(qū)分為消除缺陷、可修復(fù)缺陷或其并不影響TFT陣列性能的缺點(也公知為工藝缺陷)的圖像。來自于AOI或檢查系統(tǒng)的缺陷調(diào)整信息被傳送到TFT陣列檢查/修復(fù)儀器，也稱為陣列回收儀(arraysaver)，在其中檢查、分類然后修復(fù)缺陷。每個平板中的缺陷的平均數(shù)依據(jù)以下原因改變(a)取決于制造工藝的成熟性；(b)TFT陣列制造儀的不同；以及(c)制造工廠的不同。典型地，在TFT陣列制造線上的缺陷檢查和修復(fù)能力的大小適于處理每個第七代(Generation7)面板上(尺寸為2100mmx2400mm)的300-400個缺陷。典型地，每個面板需要修復(fù)5_10%的缺陷。由于TFT陣列特征通常非常小(例如，子像素尺寸可以是例如80x240平方微米，并且對于由第七代模板制造的大尺寸40英寸LCD電視可以高達(dá)216x648平方微米)，因此陣列檢查/修復(fù)儀器包括顯微鏡，以進(jìn)行缺陷檢查，從而確定缺陷是否可修復(fù)。相對于平板尺寸(典型為2.1x2.4m)，顯4敖4竟#見野小(范圍乂人lOOxI00pm~2x2mm)。在精確的XY平臺上安裝顯微鏡，以致顯微鏡能夠在整個平板表面之上從一個缺陷快速處理到另一個缺陷。從早期通過AOI和AC檢測系統(tǒng)執(zhí)行的檢測中就已知了缺陷調(diào)整。在缺陷檢查和隨后的修復(fù)期間，利用真空吸盤將玻璃面板穩(wěn)定地保持在XY平臺下。將可修復(fù)缺陷、包含需要修復(fù)的這些缺陷進(jìn)行分類、分組(binned)為各種類別。進(jìn)一步通過具體的修復(fù)類型、典型為激光加工或切割(也稱為"輻射(zapping)")、激光熔化或橋接開路線，將可修復(fù)缺陷分組。上述幾種常規(guī)方法是所有陣列檢查/修復(fù)儀器的代表。缺陷的數(shù)量、類型、位置、尺寸/程度通常隨著面板的不同而改變，并且在捕獲缺陷圖像之后的幾乎所有儀器步驟都需要進(jìn)行判斷的方法——例如圖像是否是真實的缺陷而非噪聲(nuisance)，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)缺陷的哪些類型，具體缺陷是否需要修復(fù)，需要修復(fù)的哪些類型，需要哪些修復(fù)參數(shù)，待修復(fù)的下一個缺陷是什么，等等。一些檢查/修復(fù)儀器利用人類操作者判斷和介入來組合儀器搡作以便進(jìn)行確認(rèn)、分類，然后修復(fù)這些缺陷。其它檢查/修復(fù)儀器例如由PhotonDynamics公司制造的ASx60類檢查/修復(fù)儀器包括自動缺陷修復(fù)(ADR)性能，其自動地例如不需要人介入地分析檢查和AOI/檢測數(shù)據(jù)、識別并分類缺陷，然后設(shè)置修復(fù)參數(shù)并進(jìn)行修復(fù)。圖2和3以剖面方式示出了兩個缺陷》務(wù)復(fù)實例。圖2A中示出了金屬凸起缺陷110(參見圖1俯視圖)。在本實施例中，如圖2B中所示，識別并分類缺陷110，產(chǎn)生修復(fù)程序(recipe)，然后執(zhí)行去除凸起。材料去除是相對的直接處理，采用激光器切割技術(shù)來控制位置和激光束的功率/尺寸參數(shù)。圖3A3E表示用于校正金屬線32和34之間的開路而執(zhí)行的修復(fù)步驟。在本實施例中，采用激光器36以擊穿("zap")鈍化層38，從而暴露或切入金屬線。然后，沉積材料的方法，在本實施例中，引入化學(xué)氣相氣體并移動激光器能量源，以在金屬線32和34上產(chǎn)生接觸電極42和44。此后，形成金屬線46，從而連接兩條金屬線32和34。與例如圖2所示的需要切割的修改相比，需要對例如圖3中所示的開路進(jìn)行校正的修復(fù)是更為嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)，因為必須引入新的材料來校正這種缺陷。挑戰(zhàn)包括材料完整性和兼容性，例如具有面板的新材料的粘接性、電阻率、連續(xù)性、線寬、線厚度等，放置的精度(面板電3各特4iE和其間的缺陷典型為小于1~10|im)，以及作為沉積工藝以》務(wù)復(fù)單個開路缺陷的應(yīng)用速度最好應(yīng)當(dāng)小于幾十秒，等等。典型的修復(fù)線寬小于lOiim且長度為大約100(im，并且每個缺陷的所需材料沉積為大約幾秒。在生產(chǎn)線上，需要檢查、然后在相同儀器上修復(fù)缺陷。適合選擇的直接寫入或打印方法能夠滿足這些挑戰(zhàn)。"直接寫入"是用于直接在基板上產(chǎn)生圖形、或者通過增加或從基板去除材料而不用掩膜或預(yù)先存在方式的任何技術(shù)。典型地，直接寫入(directwrite)技術(shù)可以釆用激光器或粒子束(例如，電子束)，其具有大約所需修復(fù)線寬的光束直徑并且可通過CAD/CAM程序控制。例如，直接寫入沉積方法包括噴墨打印、激光化學(xué)氣相沉積(LCVD)和在下文中描述的一些其它方法。激光直^fe寫入沉積方法對于平板顯示器的開路線修復(fù)，激光化學(xué)氣相沉積(LCVD)已經(jīng)是眾所周知的技術(shù)。激光化學(xué)氣相沉積采用在基板表面上聚焦的激光束來感應(yīng)本地的化學(xué)反應(yīng)。通常，基板被前體覆蓋，前體在激光束掃描處被局部熱解或光分解。熱解激光CVD大致與熱CVD相同。在光分解CVD中，通過激光和前體之間的交互作用而產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)。圖3C和3D表示光分解LCVD工藝。LCVD需要控制環(huán)境、具體地前體氣體的流動應(yīng)與真空相平衡，因此，LCVD設(shè)備包括氣流控制器、閥門、真空泵和其它管件。LCVD缺點包括(i)沉積速度低(例如，對于3500A厚度、5pm寬xlO(Him長的線，大約為幾十秒)；(ii)需要控制待修復(fù)區(qū)的環(huán)境，具體地，必須清除修復(fù)附近的任何氣體、然后引入惰性氣體或真空以防止污染；(iii)為了最好的粘接性，需要在沉積前清理表面；(iv)為了達(dá)到最好的粘接性，需要提升表面溫度；(v)非常復(fù)雜的制造設(shè)備；以及(vi)由于氣體靠近基板流動，因而可能引入污染。目前，LCVD工藝發(fā)展慢且其相關(guān)儀器昂貴，并且FP生產(chǎn)線典型地包括多個較低價格的檢查/切割修復(fù)儀器，例如由PhotonDynamics公司制造的ASx60產(chǎn)品，以及專門用于線開路修復(fù)的單個LCVD儀器。圖19B說明了在生產(chǎn)線上通過檢查/修復(fù)儀器的順序的FP面板的通用典型流程。在十九世紀(jì)八十年代引入了用于相對小部件沉積的激光感應(yīng)前向轉(zhuǎn)移(LIFT)方法。在LIFT方法中，脈沖激光束直接通過激光透明靶以轟擊并蒸發(fā)待轉(zhuǎn)移的材料膜，該材料覆蓋在相對于激光束的側(cè)面上的靶基板。因為激光蒸發(fā)膜材料，所以LIFT是一種同質(zhì)熱解技術(shù)。對于由Mayer(美國專利4,752,455)提出的LIFT金屬轉(zhuǎn)移的激光能量密度處于1~10J/cn^的范圍內(nèi)。蒸發(fā)材料趨向于更易起反應(yīng)并且更加易于降解、氧化或被污染。LIFT方法不適合于有機(jī)材料，因為它是一種高溫方法。此外，由于在耙材上獲得高溫，也會發(fā)生耙基板的燒蝕或濺射，會導(dǎo)致其減少所需膜材料純度的完整性的耙基板材料的轉(zhuǎn)移。已經(jīng)報道了通過LIFT工藝產(chǎn)生的線具有差的均勻性、形態(tài)(morphology)、粘4妄性和分辨率。通過劇增激光沉積(MELD)的微結(jié)構(gòu)是LIFT的一種變形，并且在美國專利4,752,455和6，159,832中由Mayer進(jìn)行了說明。Mayer采用循環(huán)速度(10MHz)非常高的非常短的脈沖(小于或等于20psec),每個脈沖的能量為10mJ。激光束穿過透明基板，透明基板的相對表面被金屬化。光束蒸發(fā)金屬膜材料并將其推向靶基板。典型能量密度為大約l~3J/cm2。"832專利描述了超速激光的使用。在由歐姆龍公司(日本)開發(fā)的激光金屬轉(zhuǎn)移(LMT)工藝最接近Mayer的MELD工作。由于LIFT和MELD兩者都需要在基板表面上的金屬膜的蒸發(fā)和凝固，所獲得圖形的功能(例如，導(dǎo)電性)就不重要(marginal),原因在于材料存在相鄰體素(voxels)(或轉(zhuǎn)移的三維像素)之間的大量中斷。有大約5~幾十納米尺寸的金屬顆粒)，通過繪制、拂拭、噴射的油墨沉積已經(jīng)成為電子電路的直接寫入感興趣的途徑。由TheUnitedStatesDepartmentofDefense'sDefenseAdvancedResearchProjectsAgency(DARPA)從大約1999~2002資助的幾種直接寫入技術(shù)的中視集成共形電子(MesoscopicItegratedConformalElectronics(MICE))程序?qū)崿F(xiàn)了在中視范圍(l~100|nm)下的靶線寬度。氣溶月交噴射是一種由光學(xué)才幾械(Optomec)公司、Albuquerque、NM在DARPAMICE程序下開發(fā)的油墨材料施加到基板的方法。在此方法中，釋放系統(tǒng)包括(l)噴射器，利用大約5微米的方法將油墨分散為1~10pm直徑的墨滴分布，以及(2)噴頭，其包括環(huán)繞油墨流中心設(shè)置的氣體噴射外殼。中心設(shè)置的氣體聚集為油墨流。然后，必須固化沉積的油墨線。常規(guī)技術(shù)采用墨滴大小的寬分布。在大于20微米金屬線的直接寫入中此技術(shù)似乎是最成功的，并且已經(jīng)發(fā)現(xiàn)在超過100微米尺寸的三維結(jié)構(gòu)制造中的良好應(yīng)用。然而，此方法獲得寬度小于IO微米的線的缺點包括(i)非常復(fù)雜的工藝依賴(例如，油墨溫度、油墨粘性、噴射器壓力和溫度、氣體外殼流動)，(ii)噴射針常常堵塞，(iii)墨滴分布的方式限于大約5微米，其限制了最小線寬為大約7微米，(iv)限制為具有小于大約100cP粘性的材料，以及(v)決定線寬的因素包括墨滴分布的方式、油墨粘性、油墨/基板表面張力，溫度。對于孩么電路的直接寫入沉積的打印機(jī)噴墨技術(shù)的應(yīng)用持續(xù)地進(jìn)行研究。已經(jīng)在文獻(xiàn)中徹底地公開了采用壓電、熱、靜電、超聲或其它驅(qū)動的噴墨打印頭墨滴按需分配技術(shù)。產(chǎn)品級應(yīng)用典型地在幾十皮升量(picoliter)體積或更大皮升量體積下分配墨滴。10皮升量等于大約26微米直徑范圍。然而，對于修復(fù)在平板顯示器中發(fā)現(xiàn)的微電路，需要小于IO微米的線寬。如果沉積油墨的擴(kuò)展存在某種可能，則直徑4微米的墨滴就可以滿足FP修復(fù)要求，并且這種墨滴尺寸等于幾十毫微微(femtoliter，千萬億分之一)升體積。盡管研究在繼續(xù)，單用于非常微細(xì)的線寬的噴墨技術(shù)仍沒有用于生產(chǎn)。上述列舉的用于氣溶膠噴射技術(shù)的許多相同制約適用于按需打印噴墨技術(shù)。由美國海軍研究實-驗室的Chrisey和Pique利用DARPA的MICE程序開發(fā)出了輔助矩陣脈沖激光蒸發(fā)直接寫入(MAPLE-DW)。在美國專利6177151('151專利)和6766764('764專利)中就記載了MAPLE-DW方法。由美國專利6805918('918專利)、7014885(流變材料的轉(zhuǎn)移)('885專利)和美國專利6815015(噴射方式)('015專利)記載了MAPLE-DW的幾種隨后的變化。在此引入美國專利Nos.7014885和6815015的全部內(nèi)容作為參考。MAPLE-DW工藝是LIFT的改變，兩者之間的關(guān)鍵差異在于LIFT,待轉(zhuǎn)移的材料燒蝕或蒸發(fā)，因此在轉(zhuǎn)移期間基本上因施加的高能量而改變，雖然在MAPLE-DW中，轉(zhuǎn)移的材料基本上不變化。在三種變化(MAPLE-DW、流變和噴射)之間的主要差異在于，(a)待轉(zhuǎn)移材料的特性，(b)激光能量密度，以及(c)依賴于材料和可用能量特性的轉(zhuǎn)移機(jī)理。MAPLE-DW工藝說明了將轉(zhuǎn)移材料與矩陣材料組合，當(dāng)被暴露于脈沖激光能量時該矩陣材料具有比轉(zhuǎn)移材料更加易揮發(fā)的特性。轉(zhuǎn)移材料可以包括單不限于金屬或包含絕緣體的非金屬以及生物材料。在沉積處理期間，假定涂覆材料(矩陣材料加上轉(zhuǎn)移材料)為固體狀態(tài)。在'151和'764專利中公開了采用MAPLE-DW工藝用于金屬的轉(zhuǎn)移能量密度典型為300~500mJ/cm2。MAPLE-DW轉(zhuǎn)移機(jī)理由揮發(fā)或蒸發(fā)矩陣材料構(gòu)成，因此導(dǎo)致轉(zhuǎn)移材料從支持色帶到接收基板的脫附(desorption)。MAPLE-DW工藝假定在轉(zhuǎn)移后，沉積材料不需要附加處理。在'918和'885專利中描述了流變材料和工藝，其將流變材料限定為具有位于固體和液體之間特性范圍的材料類型，并且其特征在于，至少一種基本流變特性例如彈性或粘接性。此外，流變材料包括但不限于凝膠、膏、油墨、濃縮溶液、懸浮液、牛頓學(xué)液和非牛頓學(xué)液(non-Newtonianfluids)、系占5單'〖生固體、4申纟宿'液(elastiviscousfluids)。流變材料可以包括單不限于金屬或包含絕緣體的非金屬以及生物材料。流變材料是由(例如)功能性材料、溶劑或載色劑、化學(xué)和流體前體、粘合劑、表面活性劑、分散劑、粉末和/或生物材料組成的同質(zhì)混合物。功能性材料是一種包含所需沉積物的功能特性(例如，電、磁等)的材料。在'918實施例中記載了采用流變材料轉(zhuǎn)移工藝的用于金屬的轉(zhuǎn)移能量密度為400~500J/cm2。由'918和'885專利中描述的流變材料轉(zhuǎn)移機(jī)理由以下步驟組成(a)激光能量局部加熱支持色帶表面附近的流變液的非常小的體積，然后(b)蒸發(fā)材料產(chǎn)生爆發(fā)的高壓，其驅(qū)使未蒸發(fā)的流體朝向接收基板。待轉(zhuǎn)移的流變液材料基本上不改變。大多數(shù)沉積材料需要過處理例如熱、光熱或光解處理，以便分解任何化學(xué)前體，或者解除溶劑載色劑，或者加固或致密或燒結(jié)功能材料和耐久性粘結(jié)劑(binder)。在窄處理窗條件下釆用流變液而產(chǎn)生在'015專利中描述的噴射效果。具體地，適合轉(zhuǎn)移能量密度以便控制轉(zhuǎn)移工藝，從而使轉(zhuǎn)移的記載的用于噴射處理的轉(zhuǎn)移能量密度為小于100J/cm2。在噴射窗中操作的優(yōu)點在于，可以產(chǎn)生與入射激光束尺寸相當(dāng)?shù)牟考叽?。更具體地，這種部件尺寸可以為小于10微米的范圍，此范圍是用于修復(fù)FP18開路線缺陷的需要。然而，用于如'015專利中所述的噴射方式的條件在透明色帶上需要相對厚的涂覆(120pm厚，在引用的實施例中更加具體為5~lO)im厚)，這就導(dǎo)致了相同厚度的轉(zhuǎn)移部件，比在FP修復(fù)中所需的更大亞微米厚度。因為沉積修復(fù)需要非金屬例如光刻膠材料或在濾色片中使用的有機(jī)-基底材料、以及導(dǎo)電材料例如金屬，所以對于FP工廠最感興趣的是支持油墨或流變材料的各種處理。然而，如已經(jīng)提出的方法，用于FP修復(fù)所需的典型最小部件尺寸為具有大約幾十微米、相對小邊緣粗糙度的5pm寬x典型0.2~0.4nm厚的線。如上所述的大多數(shù)直接寫入技術(shù)能夠容易地完成30微米線寬，且具有某些附加效果但是普通效果、IO微米線寬。除了LCVD,其它油墨-基底DW技術(shù)，例如噴射就不能常規(guī)地獲得均勻性和連續(xù)亞微米線的厚度。采用油墨/流變材料獲得具有良好邊緣粗糙度的5pm寬x0.3pm厚的線的制約包括例如，(i)在接收基板表面處的材料流動，其確定噴射或基板溫度、黏性、基板材料或表面條件的功能，(ii)噴射墨滴尺寸(氣溶膠噴射或噴墨)或噴射材料尺寸和厚度(材料轉(zhuǎn)移方法)，(iii)對接收基板的噴射機(jī)理的相對位置。例如，在噴墨系統(tǒng)的情況下，太大的距離就會導(dǎo)致太寬的線(油墨擴(kuò)展)，同時太短的距離也會導(dǎo)致太寬的線(油墨的潑濺)。采用油墨/流變材料獲得具有良好邊緣粗糙度的5pm寬線的其它制約包括(m)油墨或流變材料中的材料顆粒尺寸，對于金屬，典型的金屬顆粒尺寸應(yīng)當(dāng)為幾十納米或更小，(v)噴射機(jī)理中的孔徑尺寸，以及(vi)激光器或能量源的光束尺寸。在LIFT和MAPLE-DW工藝中的待轉(zhuǎn)移材料通常為固體，盡管流變材料是包含功能材料、溶劑或載體材料、粘結(jié)劑、分散劑等的同質(zhì)混合物，其中的任何一種材料都起到流變特性例如黏性的作用。一些選擇出的流變材料可以包括溶劑或具有低但不為零的蒸汽壓的流體，它們在整個時間內(nèi)因這種溶劑或流體的蒸發(fā)而存在流變材料中的潛在變化。因此，對于一致結(jié)果，特別地2，在線寬小于或等于5微米下，就要求待轉(zhuǎn)移的流變材料在整個時間內(nèi)具有一致特性。可以以幾種方式來確保此要求(a)在禁止改變的環(huán)境(例如，控制溫度和壓力條件)之內(nèi)放置待轉(zhuǎn)移的流變材料，或者(b)控制處理順序和管理步驟，以致轉(zhuǎn)移下的流變材料的曝光時間一直都相同。參考Duignan等人在美國專利6792326、6583318、682490、685426和6649861中描述了一種用于MAPLE-DW的設(shè)備。由于以下多種原因，Duignan的設(shè)備不能應(yīng)用于采用流變材料的激光直接寫入方法，例如(a)Duignan不能調(diào)解用于在整個時間內(nèi)保持一致性流變材料的要求，(b)Duignan不能提供為了驅(qū)散流變流體之內(nèi)的載體化合物的目的等而進(jìn)行過處理的去要求。因此，就需要一種能夠采用流變材料和相關(guān)處理步驟的重復(fù)沉積修復(fù)的設(shè)備和方法。NRL團(tuán)隊和Duignan等人描述了組合具有激光加工(zapping)的激光直接寫入沉積的設(shè)備和方法，兩個團(tuán)隊都描述了在沉積之前準(zhǔn)備4妾收基4反的加工和最終沉積的加工或》務(wù)理。在'918、'885和'015專利中，NRL團(tuán)隊引入了用于過處理(固化)的需求。在美國專利No.5164565中Addiego組合了利用沉積修復(fù)功能的激光加工(固化)修復(fù)功能，但不包括用于FP修復(fù)所需的臨界檢查功能。如上已經(jīng)描述的方式并且注意圖19B,通過生產(chǎn)線的平板的正常生產(chǎn)流程采用兩類儀器以便涵蓋所有類型的修復(fù)(i)檢查/切割修復(fù)組合儀器，以及(ii)獨(dú)立沉積修復(fù)儀器。因此，需要一種低成本價、快速缺陷檢查/修復(fù)儀器，其組合了檢查和所有修復(fù)功能，更具體地，自動檢查并分類缺陷，然后制造并執(zhí)行用于切割修復(fù)和沉積修復(fù)(例如，采用流變材料)的指令，同時有益的面板則保持儀器之中的裝載。
發(fā)明內(nèi)容根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式，一種設(shè)備包括集成檢查、材料去除和材料沉積功能。該設(shè)備沿著相同的光軸(光路)執(zhí)行檢查、材料去除和材料沉積(轉(zhuǎn)移)操作。該設(shè)備部分地包括照相機(jī)、一對透鏡、以及一個或多個激光器。第一透鏡用于沿著在經(jīng)歷檢查的目標(biāo)基板上形成的結(jié)構(gòu)上的光軸使照相機(jī)聚焦。如果確認(rèn)被檢查的結(jié)構(gòu)需要材料去除，則第一透鏡還用于將激光束聚焦到結(jié)構(gòu)上以便去除其上出現(xiàn)的材料。如果被檢查的結(jié)構(gòu)被確認(rèn)為需要材料沉積，則第二透鏡用于將激光束聚焦到色帶上以便從在色帶中形成的凹槽阱中轉(zhuǎn)移流變化合物。在去除或沉積操作之后，可以進(jìn)行附加的纟全查操作。在一個實施方式中，流變化合物提供在基板上設(shè)置的一對電極之間的電連接。在一個實施方式中，基板可以是具有像素陣列的平板顯示器、太陽能面板等。在一個實施方式中，該設(shè)備部分地進(jìn)一步包括自動聚焦傳感器，其光路與照相機(jī)的光路同軸；在操作中可選擇地使用的第一和第二透鏡；以及激光束。在材料去除操作期間，自動聚焦傳感器將基板和第一透鏡之間的距離保持在預(yù)定范圍之內(nèi)。在流變化合物的轉(zhuǎn)移期間，自動聚焦傳感器進(jìn)一步將色帶和第二透鏡之間的距離保持在預(yù)定范圍之內(nèi)。在某些實施方式中，當(dāng)相對于基板移動色帶時，自動聚焦傳感器是將色帶和第二透鏡之間的距離保持在預(yù)定范圍之內(nèi)的追蹤自動聚焦傳感器。在一個實施方式中，采用激光束來固化載基板上沉積的流變化合物。在另一個實施方式中，在基板上沉積流變化合物之后，采用熱源來固化流變化合物。熱源可以是與在移動和/或沉積操作期間使用的激光束不同的激光束。在一個實施方式中，該設(shè)備進(jìn)一步包括可變形孔徑(aperture),當(dāng)相對于激光束移動色帶時，所述可變形孔徑保持位于激光束的中心處。在另一個實施方式中，該設(shè)備進(jìn)一步包括可變形孔徑，所述可變形孔徑圍繞激光束的中心改變，以便橫跨第二透鏡的視場進(jìn)行步進(jìn)。在一個實施方式中，所述激光束是其內(nèi)同時存在多個波長的混合(調(diào)制)激光束。在另一個實施方式中，激光束具有其依據(jù)操作需要而選^r出的單一波長。激光束的脈沖長度也可以改變。在一個實施方式中，該設(shè)備包括適合于準(zhǔn)備按需色帶的色帶準(zhǔn)備組件。色帶對激光束的波長是透明的且包括用流變化合物涂覆的凹陷阱，該凹陷阱定位于被轉(zhuǎn)移到基板的激光束的路徑上。色帶可選地包括用另一種流變化合物涂覆的第二凹陷阱。在再一個實施方式中，色帶包括多個第一凹陷阱和與多個第一凹陷阱交替的多個第二凹陷阱。用第一流變化合物涂覆以形成多個第一凹陷阱，用第二流變化合物形成多個第二凹陷阱。在另一個實施方式中，通過未設(shè)置于設(shè)備中的組件來準(zhǔn)備色帶。在一個實施方式中，該設(shè)備進(jìn)一步部分地包括第一Z軸控制器，用于相對于基板并平行于光路來移動第一透鏡；第二Z軸控制器，用于相對于第二透鏡并平行于光路來移動色帶。第二Z軸控制器進(jìn)一步用于在原點位置中放置色帶和/或?qū)⑸珟б苿又裂b載/卸載高度，以便使色帶改變。在一個實施方式中，該設(shè)備進(jìn)一步包括蓋，當(dāng)色帶被收藏于蓋中時，用于覆蓋色帶并控制環(huán)境參數(shù)，例如，溫度，濕度等。在一個實施方式中，該設(shè)備進(jìn)一步部分地包括旋轉(zhuǎn)軸控制器，用于相對于第二透鏡圍繞平行于光路的軸旋轉(zhuǎn)色帶。旋轉(zhuǎn)軸控制器以第一角度旋轉(zhuǎn)色帶以便在原點位置處放置色帶，并以第二角度旋轉(zhuǎn)色帶以便使色帶改變。在一個實施方式中，該設(shè)備進(jìn)一步部分地包括和/或在垂直于激光束的光路的平面內(nèi)移動基板的相對位置。根據(jù)本發(fā)明的另一個實施方式的設(shè)備部分地包括第一模塊，用于在色帶中形成凹陷阱；以及第二模塊，用于在凹陷阱中分配油墨。蓋設(shè)備進(jìn)一步包括第三模塊，用于在原點位置中放置色帶；蓋，當(dāng)在原點位置處放置色帶時用于覆蓋色帶；以及溫度控制器，用于控制蓋中放置的色帶的溫度。圖1示出作為現(xiàn)有技術(shù)中公知的在具有周期性晶體管陣列的大平板構(gòu)圖介質(zhì)的一部分的俯視圖中的許多非周期性缺陷。圖2A和2B示出作為現(xiàn)有技術(shù)中公知的在修復(fù)前和修復(fù)后的具有凸起缺陷的器件的剖面圖。圖3A3E示出作為現(xiàn)有技術(shù)中公知的在修復(fù)前和修復(fù)后的具有開路缺陷的剖面圖。22圖4A示出根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的用于從色帶到基板的轉(zhuǎn)移材料的直接寫入激光轉(zhuǎn)移的設(shè)備的剖面圖。圖4B示出根才居本發(fā)明的另一個實施方式的用于從色帶到基板的轉(zhuǎn)移材料的直接寫入激光轉(zhuǎn)移的設(shè)備的剖面圖。圖4C示出根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的具有圖4B的設(shè)備中所采用的凹陷阱的色帶。圖5A是根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的集成檢查/修復(fù)儀器的功能塊圖。圖5B是根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的每個都具有由單一色帶準(zhǔn)備工作站供應(yīng)的新色帶的相關(guān)盒的兩個檢查/修復(fù)儀器的方框圖。圖6是根據(jù)本發(fā)明的另一個實施方式的集成檢查/修復(fù)儀器的功能塊圖。圖7是根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的圖5A和圖6的光學(xué)凈荷的方框圖。圖8A說明了根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式、圖7的可移動末級透鏡組件和直接寫入模塊的各個組成。圖8B示出色帶相對于用于可移動末級透鏡組件的末級透鏡的光軸的三個線性X位置。圖8C示出色帶相對于接收基板的臨界Z位置。圖8D說明根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式、圖7的可移動末級透鏡組件和直接寫入模塊的各個組成。圖8E示出色帶相對于圖8D實施方式的末級透鏡的光軸的三個旋轉(zhuǎn)(theta,e)位置。圖9是根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的按需色帶組件。圖IO示出根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式、圖9的色帶準(zhǔn)備模塊的各種組成。圖IIA和IIB是根據(jù)本發(fā)明的另一個實施方式、圖9的色帶準(zhǔn)備模塊的各組成的側(cè)視圖和俯視圖。圖12是根據(jù)本發(fā)明的另一個實施方式的按需色帶組件。圖12B12E是圖12A的色帶準(zhǔn)備模塊的各個剖面圖。圖13A~13C是根據(jù)本發(fā)明的另一個實施方式圖9的色帶準(zhǔn)備模塊的各個圖。圖14是根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式進(jìn)行缺陷的直接寫入修復(fù)而執(zhí)行的步驟的流程圖。圖15A15E提供與圖14的流程相關(guān)的多個步驟的更加詳細(xì)描述。圖16A和16B是展示對于分別在圖8A和圖8D中il明的兩個實施方式的相對于激光束的移動方向的加墨色帶的俯視圖。圖17A和17B是展示對于分別在圖8A和圖8D中說明的兩個實施方式的相對于激光束的移動方向、每個都具有兩個油墨區(qū)的加墨色帶的俯視圖。圖17C是具有按順序替換兩種不同材料的油墨區(qū)的色帶并展示相對于圖8A中說明的實施方式的激光束的移動方向的剖面圖。圖18A示出用于在原點位置中收藏的色帶的油墨部分之上放置可移動蓋的實施方式。圖18B和18C是用于在固定架上收藏色帶的實施方式的側(cè)視圖。圖18D是在圖18B和18C中所示的實施方式的固定架之上色帶的旋轉(zhuǎn)移動的俯一見圖。圖19A是展示作為公知技術(shù)的經(jīng)過檢查儀器、激光切割修復(fù)儀器和沉積修復(fù)儀器的順序的平板顯示器面板的方框圖。圖19B是展示作為公知技術(shù)的經(jīng)過檢查/激光切割修復(fù)儀器和沉積修復(fù)儀器的順序的平板顯示器面板的方框圖。圖19C是展示根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的經(jīng)過其包括集成檢查、激光切割修復(fù)和沉積修復(fù)功能的單個儀器的平板顯示器面板的方框圖。圖20A是在像素之下具有厚鈍化層的開數(shù)據(jù)線的剖面圖。圖20B和20C示出采用常規(guī)方法的圖20A的開數(shù)據(jù)線的修復(fù)。圖20D示出根據(jù)本發(fā)明的圖20A的開數(shù)據(jù)線的完全修復(fù)。圖21A是相對于在激光軸中心位置處的光束形成孔徑具有每個轉(zhuǎn)移線段的加墨色帶移動并且在相對于激光束的兩個軸上具有基板移動的激光轉(zhuǎn)移設(shè)備的示意圖。圖21B是具有光束孔徑、加墨色帶和基板的激光轉(zhuǎn)移設(shè)備的另一個實施方式的示意圖，蓋光束孔徑位于最大視場之內(nèi)，該加墨色帶按至少等于最大視場的步進(jìn)方式移動，該基板在相對于光束的兩個軸上移動。具體實施例方式根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的設(shè)備，包括集成檢查、材料去除和材料沉積功能。該設(shè)備沿著相同光軸(路徑)進(jìn)行檢查、材料去除和材料沉積(轉(zhuǎn)移)操作。該設(shè)備局部地包括照相機(jī)、一組透鏡和一個或多個激光器。第一透鏡用于沿著在經(jīng)歷檢查的目標(biāo)基板上形成的結(jié)構(gòu)之上的光軸聚焦照相機(jī)。如果確認(rèn)被檢查結(jié)構(gòu)為需要材料去除，則第一透鏡還用于將激光束聚焦到結(jié)構(gòu)上以便去除其上出現(xiàn)的材料。如果被檢查結(jié)構(gòu)被確認(rèn)為需要材料沉積，則第二透鏡用于將激光束聚焦到色帶上以便從在色帶中形成的凹槽阱中轉(zhuǎn)移流變化合物。為了在此描述的本發(fā)明的目的，互換地-使用術(shù)語"油墨"和"流變材料(rheologicalmaterial)"。具體地，流變材料包括處于固體和液體之間范圍的材料特性的分類，并且其特征在于，至少一種基本流變特性例如彈性或粘性。此外，流變材料包括但不限于凝膠、膏、油墨、濃縮溶液、懸浮液、牛頓學(xué)液和非牛頓學(xué)液(non-Newtonianfluids)、都彈性固體、伸縮液(elastiviscousfluids)。流變材料是由.(例如)功能性材料、溶劑或載色劑、化學(xué)和流體前體、粘合劑、表面活性劑、分散劑、粉末和/或生物材料組成的同質(zhì)混合物。功能性材料是一種包含所需沉積物的功能特性(例如，電、磁等)的材料。流變材料(rheologicalmaterial)可以是金屬或非金屬材料，具有顆粒尺寸范圍乂人5500纟內(nèi)米、懸浮于一種或多種溶液和/或粘結(jié)劑(binder)之內(nèi)、并且具有大約lcP~1000000cP范圍之內(nèi)的粘性。圖4A示出了設(shè)備400的關(guān)鍵部件的示意圖，需要用于如美國專利No.7014885中所描述的那樣由Pique等人發(fā)明的流變材料的激光轉(zhuǎn)移。面向接收基板408，將待轉(zhuǎn)移的流變材料或油墨408施加到透明色帶406。色帶用作流變材料的支持結(jié)構(gòu)，并且必須對感興趣的激光波長光透明。脈沖激光束416直接通過與油墨相對地色帶表面處的聚焦光學(xué)系統(tǒng)例如物鏡或末級透鏡402，并且油墨被轉(zhuǎn)移到接收基板404。通過相對于接收基板404移動激光416，在接收基板上形成轉(zhuǎn)移圖形410。在接收基板上的轉(zhuǎn)移圖形需要進(jìn)行固化(未示出)。通過本發(fā)明人的試驗，建立了流變材料的激光轉(zhuǎn)移的噴射模式，該噴射模式表明作為標(biāo)稱5微米寬或更小的線的線完整性(線寬、連續(xù)性、厚度、均勻性等)的重復(fù)性和再現(xiàn)性似乎對間隙重復(fù)性、材料組分重復(fù)性和形狀重復(fù)性非常敏感。具體地，發(fā)明人已經(jīng)發(fā)現(xiàn)操作模式完全區(qū)別于在'015專利中描述的噴射模式，發(fā)明人需要獲得所需的小線寬和亞微米厚度。這種非噴射模式操作稱為"模版，，或"貼花(decal)"轉(zhuǎn)移，并需要能夠在相對于激光束和接收基板的重復(fù)位置處以重復(fù)組分和形狀(例如，厚度)方式噴射待轉(zhuǎn)移的流變材料的設(shè)備和方法。提出的發(fā)明描述了可以以模版轉(zhuǎn)移模式操作的這種激光轉(zhuǎn)移設(shè)備。對于其尺寸大約等于或小于5微米的重復(fù)轉(zhuǎn)移部件而言，待沉積的流變材料408相對于接收基板404的重復(fù)垂直定位(圖4A中的Z)是至關(guān)重要的。在一些實施方式中，操作間隙412小于25微米，但位于小于5樣史米重復(fù)性之內(nèi)。根據(jù)本發(fā)明，可以應(yīng)用各種方法以可重復(fù)的小間隙來定位色帶。根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式，將色帶406安裝到高分辨率Z工作臺上，并采用來自間隙探測器件例如自動對焦傳感器的有源反饋與基板404保持在固定距離之內(nèi)。共同授讓于2005年12月20日申請的標(biāo)題為"跟蹤自動對焦系統(tǒng)"的美國專利申請?zhí)?14116-009710US和共同^受讓的美國專利No.7084970中描述了自動對焦系統(tǒng)，在此引入兩件專利的全部內(nèi)容作為參考。根據(jù)另一個實施方式，將色帶安裝到空氣軸承上。然后，采用建立的空氣流條件來保持固定可重復(fù)的小間隙。根據(jù)再一個實施方式，如圖4B和4C中所述，在色帶中形成凹槽或阱，然后用流變材料進(jìn)行填充，從而保持恒定位置。圖4C是其中形成有凹陷阱424的色帶406的透視圖。凹陷阱424提供一種方式以便獲得在阱中設(shè)置的流變材料的可重復(fù)均勻厚度。非凹陷表面422能接觸接收基板404，而不會以未轉(zhuǎn)移的油墨材料污染接收基板。在一個實施方式中，采用幾十微米至幾微米的阱深度420在常規(guī)5微米線寬和亞微米厚度下提供適合的線完整性。此外，可以使用凹陷阱結(jié)合如上所述的任何其它定位方法來建立并保持色帶406的底表面422和基板404之間的固定間隙。由于例如其中容納的任何溶液的蒸發(fā)，所以在模板轉(zhuǎn)移模式(regime)中激光轉(zhuǎn)移工藝所需的流變材料的組分平衡性可能會隨著時間而改變。可以通過幾種方法實現(xiàn)組分保存，其中包括當(dāng)不使用時覆蓋流變材料或油墨，將加墨色帶返回其可以被環(huán)境控制(對于大氣、溫度、濕度等)的存儲容器，當(dāng)需要時從貨艙提供油墨等等。如下文中所述，本發(fā)明的多個實施方式適用于保持流變材料的組分平衡。圖5A是根據(jù)在儀器外(即，非板載)準(zhǔn)備直接寫入色帶406的檢查和修復(fù)設(shè)備500(在此可選擇地參考下文所述和修復(fù)儀器或儀器)的功能塊圖。圖6是根據(jù)當(dāng)需要時(即，按需)在儀器上(即，在線)準(zhǔn)備直接寫入色帶406的檢查/修復(fù)儀器600的功能塊圖。在兩個儀器500和600中，將檢查和輻射(zap)修復(fù)功能與儀器的光學(xué)系統(tǒng)凈荷(payload)之內(nèi)的直接寫入功能集成在一起。例如，在儀器500中，將檢查和輻射修復(fù)功能504與儀器的光學(xué)系統(tǒng)凈荷550之內(nèi)的直接寫入功能506集成在一起。類似地，在4義器600中，將檢查和輻射修復(fù)功能504與儀器的光學(xué)系統(tǒng)凈荷650之內(nèi)的直接寫入功能606集成在一起。每個凈荷550或650都被粘結(jié)到支架臺502的橫桿，并且當(dāng)支架502沿Y方向移動時可以沿X方向移動，并且合并后的移動能夠被整個基板區(qū)404的有效面積覆蓋。在另一個實施方式中，在固定凈荷之下移動基板。對于相對較大的基板而言，例如平板顯示器所需的那些基板，它們的尺寸可以為l米xl米，通過移動在固定基板之上的光學(xué)系統(tǒng)凈荷來完成較小的儀器覆蓋區(qū)，由此獲得較低的有效成本。在此可替換使用術(shù)語塊、模塊和功能。在圖5A中所示的實施方式中，示出了色帶裝載/卸載塊508和色帶存儲塊510，其包含于儀器500內(nèi)；這兩個塊可以定位或不定位于移動支架502上。色帶可以在儀器500外定位的塊520中準(zhǔn)備，然后被裝載到同樣在儀器500外定位的箱530中。在一個實施方式中，色帶存儲塊可以是具有用于交換的適當(dāng)開口的簡單容器或殼體，并且如果需要的話，控制環(huán)境參數(shù)例如溫度、濕度、壓力等。在一個實施方式中，色帶裝載/卸載塊508可以是其從色帶存儲容器510中將新色帶轉(zhuǎn)移到直接寫入模塊506中的機(jī)器裝載/卸載裝置。機(jī)器裝置還從直接寫入模塊506中將所使用的色帶轉(zhuǎn)移返回到色帶存儲容器510。在一些實施方式中，色帶裝載/卸載塊508可以與色帶存儲容器510物理地集成在一起。在一些實施方式中，新色帶的箱530和已使用色帶箱532可以自動地在色帶準(zhǔn)備塊520和色帶存儲容器510之間轉(zhuǎn)移。在一些實施方式中，可以人為地轉(zhuǎn)移這些箱。圖5B示出了每個都具有新色帶的相應(yīng)箱530和已使用色帶的相應(yīng)箱532的一組檢查/修復(fù)儀器500。如圖所示，由單個色帶準(zhǔn)備塊520提供新色帶的兩個箱530。其它實施方式可以包括其提供任何數(shù)量的色帶準(zhǔn)備塊(大于或等于1)的任何數(shù)量的檢查/修復(fù)儀器500(大于或等于1)。參照圖6，直接寫入模塊606包括可按需替換的色帶盒620,將在下文中進(jìn)一步描述。色帶盒620可以包括色帶和其它需要將油墨提供到色帶的部件。當(dāng)盒的油墨供應(yīng)消耗或不再使用時，或者當(dāng)不再使用色帶時，就可以用新盒來替換色帶盒620。在一些實施方式中，油墨供應(yīng)還可以按照盒形式，并且可以在色帶盒620中獨(dú)立地進(jìn)行替換。圖7是圖5A和5B的檢查和修復(fù)凈荷550和650中分別設(shè)置的各種塊的更詳細(xì)圖。每個檢查和修復(fù)凈荷(此后也稱為凈荷)都包括在基板上形成的結(jié)構(gòu)上執(zhí)行集成檢查、輻射修復(fù)、直接寫入修復(fù)和固化功能的各塊。每個凈荷包括通用光學(xué)系統(tǒng)塊700和可移動末級透鏡組件740?？梢苿幽┘壨哥R組件740部分地包括可選纟奪末級透4竟和直接寫入塊(此后也稱為模塊)。示出了通用光學(xué)系統(tǒng)塊700,包括(i)成^象塊708，其依次包括照相機(jī)、照明裝置和用于對在基板404上形成的結(jié)構(gòu)輻射照明并從基板傳送圖像的相關(guān)光學(xué)系統(tǒng)；(ii)激光器組件702和需要用于傳送由用戶可選擇的任何一個或多個不同數(shù)量的波長并限定能量以及激光束的脈沖寬度的相關(guān)光學(xué)系統(tǒng)704;(iii)在激光束光路上放置的可變孔徑706以便在基板404上提供成形輪廓；以及(iii)具有相關(guān)光學(xué)系統(tǒng)的自動對焦組件710以便跟蹤基板平面404或色帶平面424并提供反饋到可移動末級透鏡組件740的Z對焦控制器、從而保持末級透鏡716或402聚焦到基板或色帶平面上。同樣在通用光學(xué)系統(tǒng)塊700中設(shè)置的固化硬件712可以由激光器(連續(xù)波或脈沖)或激光二極管和任何需要提供熱源以固化在直接寫入轉(zhuǎn)移期間沉積的轉(zhuǎn)移材料的相關(guān)光學(xué)系統(tǒng)組成?？蛇x擇地，激光器組件702可被配置成提供必須的固化參數(shù)(脈沖長度，能量)。在再一個實施方式中，可以在可移動末級透鏡組件740中插入固化石更件712。盡管未示出，但應(yīng)當(dāng)清楚，可以采用一個或多個控制模塊來控制在凈荷550和650中4吏用的各種部件。激光器720可以是二極管泵浦激光器、閃爍燈泵浦激光器、連續(xù)合的脈沖激光器典型地掃描從紫外光(UV)至紅外光(IR)并且具體地從256nm~1064nm、脈沖寬度范圍從l(T12~10-6秒、脈沖重復(fù)頻率從0到大于lOOKHz的全光譜范圍。適合的激光器的一個實例是具有波長寬度范圍例如1064nm(紅外光)、532nm(綠光)、365nm(紫外光)、266nm(深紫外光)并提供脈沖小于100納秒且典型地在5和30納秒之間的頻率四次或三次Q開關(guān)Nd:YAG激光器。激光器的光束剖面(profile)可以是高斯分布(Gaussian)。用于切割》務(wù)復(fù)應(yīng)用的激光通量典型為大約1J/cm2，同時在噴射模式下用于流變材料的激光轉(zhuǎn)移的需求典型為大約100J/cm2。因此，用作切割和沉積修復(fù)功能兩者的激光器702應(yīng)當(dāng)提供至少0.015J/cn^的通量范圍。此外，激光器702及其光學(xué)系統(tǒng)704可以同時4是供兩個或多個波長；例如，用戶限定532nm和1064nm的混合。此外，激光器702例如Q開關(guān)激光器可以被配置成提供小于100納秒的脈沖，用于轉(zhuǎn)移并用于切割修復(fù)，也可以提供幾百孩i秒長度(例如，10030(H鼓秒)的脈沖，用于轉(zhuǎn)移線的固化。在本發(fā)明的一個實施方式中，可變形狀孔徑706可以是可移動縫隙孔徑。這種可移動縫隙孔徑可以由4個可調(diào)節(jié)邊緣構(gòu)成，其中2個可調(diào)節(jié)邊緣可沿+Ax方向移動、且2個可調(diào)節(jié)邊緣可沿+Ay方向移動。在一個實施方式中，可調(diào)節(jié)邊緣，以致可變形狀孔徑706保持在光軸718上中心對稱。例如，可變形狀孔徑可以:提供范圍直至大約500x500(im的矩形形狀。在另一個實施方式中，可變形狀孔徑706可以包括2個固定邊緣和2個移動邊緣。2個固定邊緣可以是在一個角上形成的直角。2個移動邊緣之一在+Ax方向移動且第二個邊緣沿+Ay方向移動。在此實施方式中，孔徑中心可以不保持在光軸上?？勺冃螤羁讖?06能夠用不同尺寸特征進(jìn)行寫入。例如，5|im寬x50|um長線可以由(15pm)2、或可選擇地單個5nmx50nm長方形組成，后者可以完全處于單一激光點之內(nèi)，同時前者需要10個激光點，需要花費(fèi)IO倍時間來進(jìn)行寫入。可變形狀孔徑可以是具有幾乎沒有階梯的最大可能特征的所需線圖形的結(jié)構(gòu)，因此完全寫入時間明顯短于通過其它任何常規(guī)直接寫入方法所獲得的時間。已經(jīng)展示了待沉積的流變材料408相對于末級透鏡402的焦平面的可重復(fù)垂直定位(圖4A中的Z)在噴射模式下對于激光轉(zhuǎn)移獲得5微米線寬是至關(guān)重要的。因此，在檢查功能中可以采用自動聚焦單元710，其中在激光加工(輻射)修復(fù)期間、并且同樣在直接寫入沉積修復(fù)的調(diào)整期間通過成像塊708收集缺陷的圖像。部件702、708、710和712的主要光^各或光束路徑被布置成基本上共軸并位于單一軸718上的塊700內(nèi)。因此，共軸光路/光束路徑718適合于在可移動末級透鏡組件740之內(nèi)的單軸臺板714上安裝的幾個末級透鏡中的任何一個。共軸光路/光束路徑的排列能夠使單個末級透鏡具有多功能的性能。例如，采用成像塊708的檢查功能、采用激光器和光學(xué)系統(tǒng)組件702、704、706的輻射(去除)功能和自動對焦710功能可以通過選自可移動末級透鏡組件740的單個末級透鏡來提供，因此就能夠使各功能之間的切換時間最小化?？蛇x擇地，在1個末級透鏡中就能夠獲得組合功能的較小組件，同時保留功能可以采用l個或多個其它末級透鏡。換句話說，激光器702及其相關(guān)光學(xué)系統(tǒng)704、成像塊708、孔徑706、自動對焦組件(在此也稱為自動對焦傳感器)和固化源710具有相同的光軸718(在此也稱為光學(xué)^各徑)。當(dāng)透4竟402可選擇地定位于適當(dāng)位置以便執(zhí)行寫入操作從而從色帶將流變化合物轉(zhuǎn)移到基板時，透鏡402的光軸與光軸718共軸。同樣地，當(dāng)透鏡716定位于適當(dāng)位置以便捕獲基板的圖像從而執(zhí)行檢查操作時或者從基板去除不需要的材料時，透鏡716的光軸與光軸718共軸?？梢苿幽┘壨?竟組件740可以在相對于光學(xué)系統(tǒng)塊700的兩個方向上移動(1)對于末級透鏡焦點的Z調(diào)節(jié)；(2)第二線性方向(例如X方向)或旋轉(zhuǎn)方向(大致Z方向)的任何一個方向使(a)對于檢查或輻射修復(fù)而言選擇幾個末級透鏡的任何一個透鏡、或(b)選擇直接寫入模塊及其專用的末級透鏡。為了實現(xiàn)檢查/切割修復(fù)功能，提供在光學(xué)系統(tǒng)部件材料特性(例如透射)和工作波長(例如，IR/可見光、UV或DUV)之間的各種不同放大倍數(shù)和/或配比。根據(jù)所需的轉(zhuǎn)移形狀尺寸，選擇直接寫入末級透鏡放大倍數(shù)，并根據(jù)轉(zhuǎn)移激光波長，選擇直接寫入末級透鏡的光學(xué)材料規(guī)格。圖7示出了用于檢查和/或輻射修復(fù)的1個末級透鏡716和專用于直接寫入修復(fù)的第二末級透鏡402。示出了直接寫入模塊，其包括末級透鏡402和色帶裝載組件724。色帶裝載組件724包括兩軸工作臺，其具有在Z方向的一個軸720和位于垂直于光軸718的面內(nèi)的第二軸722,并且適合于在相對于激光的面內(nèi)移動。色帶裝載組件724包括粘結(jié)于第二軸工作臺的安裝板722和支撐色帶406的相關(guān)硬件。具有安裝板722的第二軸工作臺確保用于轉(zhuǎn)移的色帶406的加墨部分總是對應(yīng)于激光702。色帶裝載組件之內(nèi)的Z軸工作臺720執(zhí)行幾種功能(a)提供相對于末級透鏡402和接收基板404的色帶406的高分辨率Z-調(diào)節(jié)；(b)無論何時儀器進(jìn)行各功能而不進(jìn)行寫入都將色帶406提升到接收基板404之上的安全高度(原點或放置位置)；以及(c)無論何時色帶需要更換都將色帶406移動至裝載/卸載高度。圖8A說明了根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的直接寫入模塊和可移動末級透鏡組件的各個部件。在此實施方式中，色帶裝載組件724移動的兩個軸都是線性的Z(720A)和X或Y(722A)之一。當(dāng)末級透4竟402的光軸800定位于激光束路徑718的共軸時，X(或Y)工作臺722A相對于直接寫入末級透鏡402并由此相對于激光702移動色帶。由于固化步驟要求未轉(zhuǎn)移油墨材料不位于固化源712或激光702的視線內(nèi)，第二軸工作臺必須具有足夠長的到達(dá)在色帶安裝板722A之中定位的清潔孔820的行程。色帶安裝板722的Z-行程范圍通過基板404和末級透鏡402之間的空間來限定。在另一個實施方式中，可以通過色帶的未加墨部分來提供固化，假設(shè)色帶對于用于固化所采用的波長透明。圖8B和8C示出了色帶安裝板722分別沿X和Z方向的幾個關(guān)鍵位置。在圖8B中，將"原點，，位置852用于對準(zhǔn)在末級透鏡光軸718上的清潔孔820;采用"寫入"位置以便在光軸718上放置色帶。在"裝載/卸載"位置856中，遠(yuǎn)離光軸而移動色帶。在圖8Ct，ZH。me836表示Z方向上的原點位置。僅在一個實例中，位置Z^。ad838被示出比Zh。脂更高，但可以與Zh。加相同，并且具有與末級透鏡和基板的足夠間隙以代替色帶406的制約。位置Zstart834是其靠近末級透鏡830的焦平面的色帶安裝板722的底表面810的正常高度。在寫入期間，必須將油墨/色帶界面(圖4C中的424)定位于高度Z^832下的焦平面830。在下文中將描述在焦平面處設(shè)置位置的過程。圖8D是根據(jù)本發(fā)明的另一個實施方式的直接寫入模塊和可移動末級透鏡組件的各組成的側(cè)^L圖。圖8E示出用于圖8D的實施方式的幾個關(guān)鍵旋轉(zhuǎn)位置。運(yùn)動的一個軸是Z軸(720D)，同時運(yùn)動(722D)的第二軸沿著Z軸旋轉(zhuǎn)。示出了原點(放置/固化)6位置(722D-2)與寫入位置成45。，但可以是其提供與光束路徑718和末級透鏡402適合間隙的任意角度。裝載/卸載e位置(722D-3)可以與原點位置相同，或者它不同于圖8E中所示的那樣。寫入6位置(722D-1)沿著光束路徑718在末級透鏡402之下方文置色帶。圖8C中示出的Z位置也應(yīng)用于圖8D的實施方式。圖8D的實施方式具有比圖8A的實施方式更多的幾種優(yōu)點。首先，相對于寫入的光路移動色帶安裝板的旋轉(zhuǎn)行程量可以相對較短。例如，如果圖8E32中的轉(zhuǎn)動點802距離寫入位置25mm，則通過3°角度的移動就能夠提供比lmm寫入長度更大的長度，如果每個修復(fù)需要200微米的寫入長度，這可以適合于直至5個缺陷修復(fù)。第二，可以完全遠(yuǎn)離光學(xué)系統(tǒng)移動色帶安裝板722D，例如移動至圖8E中的位置722D-3，以致用于裝載/卸載的Z-行程就不再受末級透鏡402限制，因此就能夠易于加大用于色帶裝載/卸載的間隙。因此，對于采用旋轉(zhuǎn)臺的圖8D的實施方式而言，總旋轉(zhuǎn)行程就會小于或等于180度，從而提供三種功能，即寫入、原點、裝載/卸載。一個實施方式可以需要小于或等于90度的總行程以獲得寫入/原點/裝載-卸載的功能?？傂谐淘蕉蹋瑒t從一個位置移動至另一個位置所需的時間就越短。采用旋轉(zhuǎn)臺的本發(fā)明的一個實施方式，例如圖8D中所示，就可以提供具有小于大約15度范圍的高分辨率的寫入功能。原點和裝載/卸載位置可以是大于大約15度的任意位置，只要光路清晰即可。圖8A和8D示出的實施方式描述了對于直接寫入才莫塊運(yùn)動的2個軸。在一些其它實施方式中，可以采用運(yùn)動的3個軸，例如3個線性軸X、Y、Z。圖16A和16B分別說明了適合于沿著線性軸運(yùn)動的圖8A實施方式和適合于沿著旋轉(zhuǎn)軸運(yùn)動的圖8D實施方式的色帶1600的可寫入路徑(1606和1604)。色帶1600的加墨部分1602可以是附圖中所示的長點，或者可以是方形、矩形、圓形或任何形狀的區(qū)域。在圖16B中，加墨部分1602的長度示出為基本上平行于弧形運(yùn)動1604，但如果加墨部分1602的寬度足夠?qū)挘敲撮L度取向就基本上垂直于運(yùn)動方向。由于只有加墨色帶的未使用部分呈現(xiàn)給用于轉(zhuǎn)移的激光，所以它就不必理會色帶相對于激光的運(yùn)動是線性的還是旋轉(zhuǎn)的，只要每個色帶的待寫入線的總長度比色帶的直徑和色帶的加墨區(qū)短即可。這就需要在替換非板載色帶之前使用用于幾個缺陷修復(fù)的色帶，如圖5中所示，或者如圖6中所示，準(zhǔn)備新的按需加墨部分。因此，如果，例如每個缺陷的典型線長為大約50~150微米長，那么每個缺陷就需要5~10倍的平均修復(fù)長度，或者至少12毫米。因為直接寫入功能具有相對低的工作循環(huán)，所以當(dāng)未使用時期望保護(hù)色帶的加墨部分免受損壞或污染。一個實施方式可以將色帶返回它的存儲容器，但這增加了時間以進(jìn)行裝載、卸載，并設(shè)置色帶需要進(jìn)行寫入的每個時間，因此就影響總產(chǎn)量。如圖18A中所示，另一個實施方式可以將色帶提升至它的原點位置、然后在加墨部分之上放置可移動蓋1802。這就需要附加機(jī)構(gòu)1804將蓋移動到色帶。如圖18B和18C中所示，第三實施方式可以采用在固定擱板1806之上的固定兩軸720和722來定位色帶406。在本實例中，擱板位于原點位置，首先將色帶406從它的寫入高度Zdw832移動至在擱板之上的高度HI(圖18B中所示的步驟A)，然后沿著旋轉(zhuǎn)軸722(或線性移動)從寫入軸旋轉(zhuǎn)至擱板1806之上的原點位置(圖示的步驟B)，然后如圖18C中所示，最后降低到擱板1806上大致Zh。脂的高度，其中擱板1806用作保護(hù)蓋。圖18D是沿著蓋1806之上的色帶402的旋轉(zhuǎn)路徑的色帶402的俯一見圖。在一個實施方式中，控制保護(hù)蓋1806的溫度，以至對放置色帶406提供熱控制環(huán)境。可選擇地，或者與溫度控制組合，將用于色帶的加墨部分的凹槽包含于擱板中，以便為色帶提供類似于較大的存儲容器510所提供的微環(huán)境。圖9說明了按需色帶組件950的一個實施方式。例如，色帶910可以是一種柔性塑料材料，并通過拉伸(take-up)輪卯2從供應(yīng)輪卯4中拉伸出。色帶穿過色帶準(zhǔn)備模塊900，當(dāng)通過透明"打印頭"906牽引色帶910時，重疊在"打印頭，，906之下。光學(xué)系統(tǒng)模塊700的光學(xué)系統(tǒng)/光路718基本上共軸地穿過末級透4竟402。光路718穿過透明打印頭906和色帶910以便將油墨/流變材料轉(zhuǎn)移至在接收基板404上形成的目標(biāo)結(jié)構(gòu)(未示出)。如圖6中所示，包括色帶和輪的組件以及色帶準(zhǔn)備沖莫塊900可以被組合成可替換的箱620。在一些實施方式中，色帶準(zhǔn)備模塊900自身可以就是一個箱并且可以獨(dú)立地與色帶和輪進(jìn)行替換。圖10示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式、對于圖9的按需色帶組件的色帶準(zhǔn)備模塊900A的各個組成。色帶準(zhǔn)備是多步驟過程，并且色帶被示出從左向右移動。激光束1002可在色帶中燒蝕一個凹槽1000。凹槽可以是任何形狀，矩形、圓形等，并形成為用于光學(xué)轉(zhuǎn)移的所需深度(圖4C中的深度420)、在一些實施方式中小于幾微米。然后，通過油墨分散機(jī)1004在凹槽1000中沉積油墨材料。當(dāng)色帶在醫(yī)用刀片1008之下移動時，油墨1010就與凹槽平直，且任何凹槽都-波遷移?？蛇x纟奪的4企測步驟可以包含照相才幾1012可一見地4全測具有水平油墨1014的色帶。然后，色帶的已準(zhǔn)備部分繼續(xù)在色帶箱中移動，穿過旋轉(zhuǎn)輥908(參見圖9)由此翻轉(zhuǎn)色帶，以致加墨部分面對接收基板404。在一些實施方式中，色帶準(zhǔn)備模塊900A可以被翻轉(zhuǎn)以便消除通過圖9中所示的組成排列而準(zhǔn)備的用于翻轉(zhuǎn)色帶的需求。在一些實施方式中，例如，油墨分散機(jī)1004可以是一種常規(guī)的噴墨頭，或者是在美國專利No.7108894中記載的光學(xué)儀器公司的產(chǎn)品M3D的氣溶膠噴頭。在一些實施方式中，可以通過適合的獨(dú)立附加激光器來提供激光束1002。在一些實施方式中，攝像機(jī)1012可以與成4象塊708相同，同時在一些實施方式中，照相才幾1012可以是適合的獨(dú)立附加照相才幾。圖IIA和IIB是根據(jù)本發(fā)明的另一個實施方式用于按需色帶組件的色帶準(zhǔn)備模塊900A的各組成的側(cè)視圖和俯視圖。提供縫隙覆蓋方法論。具體地，通過拉伸輪902拉伸色帶910穿過其具有油墨/流變材料儲藏器的容器1104。通過密封墊或密封劑1106沿著色帶的入口密封容器。容器出口還包括密封墊或密封劑1108，但在一個實施方式中具有高度等于所需油墨厚度例如0.1~5微米高度的狹縫1110。當(dāng)通過拉伸輪902拉伸色帶910穿過油墨儲藏器時，油墨就穿過狹縫并通過狹縫整平為所需厚度1112?？梢栽谟湍萜?104中提供輕微量的壓力以便向外擠壓油墨。在圖IIA和11B中所示的實施方式中，色帶包括沿著它的長度周期性定位的通孔1120。這些孔就成為通過固化激光束的轉(zhuǎn)移材料界定的直線。在一些實施方式中，可以在供應(yīng)輪904上裝配之前，預(yù)先在色帶中制備孔。在一些實施方式中，可以通過激光燒蝕或機(jī)械印制、切割等在色帶準(zhǔn)備模塊900A之內(nèi)制造孔。圖11A和11B中所示的通孔特;f正和產(chǎn)生的特征方法也可以包含于圖10的實施方式900A中。圖12A示出了根據(jù)本發(fā)明的另一個實施方式的按需色帶組件950。本實施方式包括透明打印頭1202，其容納供應(yīng)側(cè)的凹陷狹縫或溝槽1210。圖12B示出了沿剖面A-A的溝槽1202中的色帶910。如圖12F的詳細(xì)放大圖中所示，定位具有油墨/流變材料1206的儲藏器的供應(yīng)才莫塊1204，以致它的狹縫出口位于打印頭1202和色帶910相對側(cè)?？梢蕴峁┹p微量的壓力以便確保油墨穿過供應(yīng)模塊。醫(yī)用刀片1208在油墨供應(yīng)模塊的尾部處壓向打印頭并當(dāng)色帶穿過時整平油墨。圖12C是在油墨供應(yīng)面上的色帶準(zhǔn)備模塊900C的B-B剖面圖。圖12D是在醫(yī)用刀片面處的色帶準(zhǔn)備模塊900C的C-C剖面圖。通過色帶背面的孔1220的真空或壓力可以包含于一些實施方式中，以控制油墨噴射。這種真空將色帶噴射(flush)至溝槽1210的底部。然后，油墨如圖12C中所示那樣流動。這種壓力將色帶噴射至醫(yī)用刀片1208和油墨儲藏器，因此阻止了油墨保留在色帶上。圖12E說明了完成的色帶，其呈現(xiàn)為激光束718轉(zhuǎn)移至接收基板404。圖11中所示的通孔特征和產(chǎn)生特征的方法也包含于圖12A的實施方式中。圖13A是根據(jù)本發(fā)明的另一個實施方式的按需色帶組件1300的透視圖。圖13B和13C分別是具有在上和下方向上定位的色帶導(dǎo)軌的按需色帶組件1300的側(cè)視圖。同時參照圖13A-13C，色帶準(zhǔn)備模塊900C是一種直接打印介質(zhì)機(jī)械，其包括"公知制造的"機(jī)械和油墨/流變材料的分配器。激光-透明的目標(biāo)色帶材料910的供應(yīng)904被饋送到公知制造機(jī)械1304，其沿著目標(biāo)色帶材料910的長度模壓矩形剖面淺阱(如圖4C中所示)。當(dāng)模壓的色帶被饋送穿過油墨/分配器1306時，通過油墨/分配器1306將油墨/流變材料提供至模壓色帶。在分配器1306的輸出側(cè)上是醫(yī)用刀片1308，其使得油墨光滑并從目標(biāo)表面去除任何凹槽。結(jié)果是容納淺凹陷阱的色帶被均勻厚度的流變材料填充。然后，通過導(dǎo)軌1310將色帶導(dǎo)向接收基板404。通過末級透鏡402將激光束718聚焦到流變材料以便將流變材料轉(zhuǎn)移至接收基板404。在一些實施方式中，可以調(diào)整導(dǎo)軌1310以便使色帶在寫入處理期間支撐在接收基板404之上的固定縫隙處。在另一個實施方式中，可以調(diào)整導(dǎo)軌1310以便使色帶在寫入處理期間與接收基板404接觸。當(dāng)完成寫入時，由導(dǎo)軌1310提升色帶。如圖9~13所示，按需色帶準(zhǔn)備組件的許多實施方式之中存在許多共同特性。色帶910必須對用于材料轉(zhuǎn)移的激光波長是光透明的，并且如果不設(shè)置孔1120，那么還應(yīng)當(dāng)對激光固化波長是光透明的。色帶910應(yīng)當(dāng)具有足夠的柔性以能夠供應(yīng)和使用材料的存儲，如實例中所示，在輥-至-輥排列902和904。材料例如玻璃或塑料(例如，Mylar或聚碳酸酯)具有滿意的光學(xué)性能，并且可以被形成足夠薄以便對處理和存儲為柔性的。在一些實施方式中，色帶可以典型地具有50|im~250pm厚度的剖面直徑和大約2mm~10mm寬度。它的長度需要足夠長以便貫穿設(shè)備，并進(jìn)一步提供足夠的寫入材料以至少適應(yīng)于例如持續(xù)幾周的缺陷修復(fù)工作。如果每個缺陷的限定線寬為約50~100pm，那么1米色帶長度就可以提供高達(dá)10000個修復(fù)。圖9中的打印頭906和圖12中的1202必須對激光轉(zhuǎn)移波長光透明，或者具有其光束可以穿過的通孔。打印頭可以包括但不限于在圖9和圖12中所述的那些打印頭。此外，在本發(fā)明的一些實施方式中，按需準(zhǔn)備模塊可以組合適合的環(huán)境參數(shù)例如溫度、濕度、壓力等的控制，從而保持適合的材料組分。系統(tǒng)的已準(zhǔn)備好的非板載(off-board)色帶與按需原理準(zhǔn)備的那些色帶具有完全相同的所有需求。這些色帶可以為單獨(dú)色帶，其周期性地，按照每個平板(FP)或每幾個FP基板地被裝載到直接寫入組件上且然后從直接寫入組件卸載。因此，色帶必須具有用于自動處理的適合硬度。而且，已準(zhǔn)備好的非板載色帶可以具有由自動裝載/卸載處理要求和用于自動油墨應(yīng)用要求而設(shè)置的尺寸的任何形狀(例如，矩形或圓形)。在一些實施方式中，色帶可以為大約幾十毫米長和寬，且具有幾十毫米或更大的厚度?？梢酝ㄟ^類似于按需色帶準(zhǔn)備所采用的設(shè)備來制備已準(zhǔn)備好的非板載色帶。即，非板載色帶具有通過采用激光燒蝕或通過壓印方式產(chǎn)生的凹陷阱。也可以在非板載色帶上腐蝕凹陷阱。此外，可以采用縫隙涂覆或醫(yī)用刮刀或懸涂技術(shù)，將流變材料施加到非板載色帶。圖8A和8D中所示的直接寫入模塊和可移動末級透鏡組件的實施方式可以采用具有類似于圖4C中所示的方式的色帶，并且例如，如圖5A中所示，制備儀器的非板載。例如，如圖6中所示，相同的運(yùn)動還可以用于在線按需色帶組件，即，在圖8A-8E中所述的具有在Z方向上的一個移動軸的最少2軸。具體地，如圖8A8E中所示，在兩軸工作臺、也就是在Z和X/Y或6之一上安裝按需色帶準(zhǔn)備模塊。當(dāng)參照圖4A時，在按需色帶組件和基板表面之間設(shè)置縫隙的方法可與非板載色帶相同。此外，如在非板載準(zhǔn)備的色帶的情況下那樣，當(dāng)不進(jìn)行寫入時，按需色帶必須被放置在基板表面之上的安全高度。當(dāng)利用非板載準(zhǔn)備的色帶時，可以采用具有反饋到Z工作臺720的控制器的自動對焦模塊以便在寫入期間保持在按需色帶油墨/色帶界面的界面上對焦。圖14是根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式，進(jìn)行缺陷的直接寫入修復(fù)而執(zhí)行的步驟的流程圖1455。圖15A~15E提供了流程圖1455中多個步驟的更加詳細(xì)的描述。在下文的解釋中，通用地參照圖7的才莫塊和圖8A8F中所述的位置。在工藝開始時，步驟1402,對儀器通過電檢測或自動光學(xué)檢測(AOI)或在來自于電測試或AOI的輸入的缺陷檢查期間提供用于待修復(fù)缺陷的信息。在步驟1476中，將缺陷分類為輻射修復(fù)或直接寫入沉積修復(fù)。在下文中將不再進(jìn)一步描述輻射修復(fù)過程1478。在直接寫入過程的下一個步驟中，步驟1404，將光學(xué)系統(tǒng)凈荷移動至感興趣的缺陷。然后，在步驟1406中，釆用圖7中的沖企查末級透鏡716來確認(rèn)待〗務(wù)復(fù)缺陷。在步驟1410中，缺陷位置準(zhǔn)備可以包括在"zap"功能中采用激光器702來去除材料。材料去除處理可以由鉆孔、例如5微米直徑幾微米深度、穿過一層或多層、或清潔較大的區(qū)域例如稍微大于待寫入的線特征即特征的10微米長x寬的狹縫形狀?？卓梢詾殄F形，在孔的底部具有較小的直徑、或者沿著它們的整個長度具有恒定直徑。操作者可以通過調(diào)用步驟1420檢查位置準(zhǔn)備結(jié)果。一旦缺陷位置準(zhǔn)備好并認(rèn)為是可接受的，就可以執(zhí)行寫入操作1430。如果系統(tǒng)結(jié)構(gòu)包括按需色帶準(zhǔn)備1480,如圖6中所示，則在步驟1430開始前對色帶加墨或準(zhǔn)備好。一旦在步驟1430中完成轉(zhuǎn)移線圖形，則在步驟1440中操作者就可以隨機(jī)地4企查并驗證沉積。如果在通過位置準(zhǔn)備操作去除或可調(diào)轉(zhuǎn)移線圖形期間，不能接受轉(zhuǎn)移線圖形，則處理返回到步驟1410。一旦可接受轉(zhuǎn)移線圖形，那么就在步驟1450中固化轉(zhuǎn)移線圖形。接著固化轉(zhuǎn)移線圖形的固化，在步驟1460中，操作者再次隨機(jī)地檢查固化的轉(zhuǎn)移線圖形。如果完全不能接受修復(fù)，操作者就選擇再次開始位置準(zhǔn)備步驟1410，并全部剝離修復(fù)或局部地采用輻射激光器702,然后通過重復(fù)步驟1430~1450進(jìn)行再次修復(fù)。可選擇地，如果修復(fù)幾乎不需要調(diào)節(jié)，操作者就可以選擇采用輻射激光來調(diào)節(jié)任何余量、然后在步驟1470中驗證結(jié)果。如果可接受修復(fù)，則在步驟1472中系統(tǒng)將色帶返回到色帶原點位置，然后在步驟1474中將色帶移動至待修復(fù)的下一個缺陷。圖15A是執(zhí)行圖14的寫入(沉積)步驟1430期間所執(zhí)行的步驟的流程圖。不調(diào)用寫入步驟1430直至已經(jīng)檢查了缺陷、已經(jīng)準(zhǔn)備并檢查了缺陷位置，并且在本實施方式中采用按需色帶，完成色帶準(zhǔn)備。此外，假設(shè)修復(fù)參數(shù)例如缺陷位置、缺陷類型、直徑參數(shù)、線元件尺寸等已經(jīng)輸入到儀器數(shù)據(jù)庫中。然后，在步驟1504中，通過相對于基板移動凈荷550或650,在修復(fù)起始點定位光軸。在步驟1506中，將直接寫入末級透鏡光軸800移動至與光軸718共軸，由此就將直接寫入末級透《竟402和相應(yīng)的直接寫入?yún)?shù)移動至光學(xué)路徑718。此時，加墨色帶仍然保持它的原點位置、在高度ZH。me836處且在一些實施方式中位于在Xh。脂或6h纖即圖8B中的位置852或圖8E中的722D-2。ZH。me836是基板之上的安全間隙高度。在步驟1508期間，在X(或Y)或6上將加墨色帶移動至寫入位置、即圖8B中的位置854或圖8E中的722D-l，并在Z上進(jìn)行調(diào)節(jié)以便放置在直接寫入末級透鏡402的焦平面830上的油墨/色帶界面的面上。當(dāng)在Z上移動色帶時，就采用自動對焦組件(710)來檢測末級透鏡焦點。在下文中將描述對焦步驟1508的細(xì)節(jié)。利用在油墨/色帶界面830上正確聚焦的末級透鏡并利用在修復(fù)開始點處定位的光學(xué)路徑，直接寫入轉(zhuǎn)移開始。在步驟1510中，對步驟1402的每個修復(fù)菜單進(jìn)行定義，選擇出待寫入的線的第一元件所期望的孔徑尺寸706。然后，將激光702轉(zhuǎn)變?yōu)槊}沖以便轉(zhuǎn)移待寫入的線的第一元件。如果沒有完成寫入，則相對于激光通過圖7中的運(yùn)動裝置722將色帶406推進(jìn)到加墨區(qū)，并且在步驟1514中，相對于基板將裝載/激光550或650推進(jìn)到下一個位置。根據(jù)輸入的修復(fù)參數(shù)來設(shè)置孔徑尺寸，然后將激光轉(zhuǎn)變?yōu)槊}沖以便轉(zhuǎn)移下一個元件。繼續(xù)循環(huán)直至完成寫入操作。圖15B是與圖15A中所示的流程的聚焦油墨/色帶界面步驟1508相關(guān)的步驟的流程圖。在步驟1522中，從色帶的原點X(或Y)或6位置，即圖8B中的852或圖8E中的722D-2，將加墨色帶移動至X(或Y)或6寫入位置，即圖8B中的854或圖8E中的722D-l，同時保持ZH。加間隙高度836。一旦處于Zdw或6dw位置，則在步驟1524中將色帶移動至Zstart位置834。圖8C中示出了ZStart，并且Zstart可以是限定其完全處于基板的清晰距離的高度的任何系統(tǒng)(或用戶)，更具體地，zstart可以是在基板表面之上的平面的高度，該平面接近油墨/色帶界面的面，即圖4C中的424。下一個步驟1526調(diào)用自動對焦功能710，其將信號反饋至直接寫入組件Z工作臺720、并對工作臺進(jìn)行精細(xì)調(diào)節(jié)，直至油墨/色帶界面的面424處于焦點面830，就是說，在Z位置Zdw832處。圖14中所述的處理流程的替換實施方式可以包括用于按需色帶準(zhǔn)備1480的分支。圖15C說明了按需色帶準(zhǔn)備處理流程的細(xì)節(jié)。按需準(zhǔn)備可以與至少寫入處理1400的初始步驟并行地進(jìn)4亍，或者可以一旦知道需要直接寫入缺陷修復(fù)就進(jìn)行按需準(zhǔn)備。更加具體地，按需準(zhǔn)備必須在步驟1430中需要色帶之前及時地完成。按需色帶準(zhǔn)備處理步驟1480應(yīng)用于參照圖9、10、13中所述的任何一個按需色帶準(zhǔn)備實施方式。對于按需色帶準(zhǔn)備實施方式例如在圖11、12中所述的那些實施方式，第一處理步驟1582即凹陷阱的產(chǎn)生就不適用，原因在于這些實施方式采用不需要凹陷阱的技術(shù)。在下文中將說明用于按需色帶準(zhǔn)備的處理。首先，在步驟1582中通過例如燒蝕或壓印來產(chǎn)生凹陷阱。然后在步驟1584中提供油墨/流變材料，隨后通過平坦化或整平為期望的厚度。接著，在步驟1586中，利用縫隙覆蓋或醫(yī)用刀片技術(shù)去除多余材料。然后，在步驟1588中，將色帶的制備部分推進(jìn)并定位于光軸。圖15D是提供與圖14的驗證位置準(zhǔn)備1420、驗證轉(zhuǎn)移線圖形1440或驗證固化轉(zhuǎn)移線圖形1460步驟相關(guān)的更加詳細(xì)說明的流程圖。在這些操作的任何一個操作中，驗證處理的第一步驟1542將確保色帶處于基板之上的安全高度，特別地色帶應(yīng)當(dāng)處于ZH?？В磮D8C中的836,如果不是，則應(yīng)當(dāng)被移動至ZH。me。一旦色帶處于安全高度，則步驟1544就通過移動圖7中的透鏡安裝板714將末級透鏡716光軸移動為與光束/攝像軸718共軸。在步驟1546期間，然后采用凈荷成像塊708來檢查轉(zhuǎn)移線，同時沿著轉(zhuǎn)移線相對于基板在X和Y方向移動凈荷550或650。如果檢查是令人滿意的，則繼續(xù)圖14中所示的處理流程。如果檢查結(jié)果不令人滿意，則操作者就選擇返回至步驟1410并在步驟1548中采用激光在輻射功能中進(jìn)行調(diào)節(jié)。圖15E是提供與轉(zhuǎn)移線圖形的圖14的固化步驟1450相關(guān)的更加詳細(xì)的流程圖。設(shè)置需要待移動的枝兒機(jī)械如末級透鏡402，如果需要的話，其光軸800就與凈荷的光軸718共軸，如步驟1551中所示。在下一個步驟1552中，將色帶組件移動至其原點位置、例如圖8B中的852或圖8E中的722D-2。如上所述的原點位置就通過在色帶中的開孔例如820或1120或通過將色帶和色帶盒板完全移出光路使清晰的光路為基板上的轉(zhuǎn)移圖形。如步驟1554中所示，移動凈荷例如圖7中的550或650，以便在修復(fù)的起始點坐標(biāo)處放置光束718。在步驟1556中，對固化源712開啟快門，以便開始將轉(zhuǎn)移線暴露于固化源，例如激光器、激光二極管或其它熱能源。另一個實施方式可以不使用快門來開啟和關(guān)閉固化源。然后，如步驟1558中所示，通過相對于工作臺移動凈荷/固化源550或650并將轉(zhuǎn)移線圖形暴露于固化源，^v而固化轉(zhuǎn)移線圖形。當(dāng)線完全暴露于固化源時，如步驟1559中所示，認(rèn)為完全固化并關(guān)閉對固化源的快門，或者可選擇地，關(guān)閉固化源。然后，該過程執(zhí)行圖14的步驟1460。直接寫入設(shè)備例如圖7、8、9、10、11、12、13中所述的直接寫入設(shè)備中的任何一個，可以適用于完全沒有時間增加處理順序且在設(shè)備運(yùn)動機(jī)械中完全不用改變的多種材料的準(zhǔn)備和轉(zhuǎn)移。具體地，按需色帶可以包括提供平行凹陷阱例如如圖17A和17B中所述的壓印裝置。可選4奪地，按需色帶可以與例如圖17C中所述的成形的凹陷阱一起進(jìn)行燒蝕?？梢栽黾泳哂胁煌湍?流變材料的附加分配器，以便構(gòu)成例如圖10和13中所示的那些結(jié)構(gòu)，并且在這些情況下，可以并朽-地或連續(xù)地進(jìn)行設(shè)置。例如圖12中所示，可以連續(xù)地增加附加縫隙涂覆儀，其具有相對于彼此移位并在跨越色帶的特定阱位置之上定位的縫隙。例如，可以定位圖12的一個縫隙涂覆4義的縫隙，以^更填充一個阱例如圖17A和17B的1720，同時可以定位第二涂-霞儀的縫隙以便填充第二阱1704。如圖17A、17B和17C中所述，可以噴射具有用不同材料填充的多個凹陷阱的非板載制備的色帶。圖17A、17B和17C還表示了如何通過圖7和8中所述的設(shè)備在不增加設(shè)備復(fù)雜性的情況下容易地接近兩種不同材料例如在阱1702和1704中設(shè)置的那些材料的各實例。圖17A是相對于與由圖8A的X工作臺722A提供相同的線性路徑運(yùn)動1708的色帶阱1702和1704的取向的一個實例。在本實施例中，當(dāng)需要時，X工作臺僅從一種材料例如1702移動至下一種材料例如1704。凹陷阱寬度大于修復(fù)線圖形的典型長度，例如，凹陷阱寬度可以為幾微米寬。圖17B是相對于如由圖8D的6工作臺722D^是供的弧線路徑運(yùn)動1706的色帶阱1702和1704的取向的一個實例。圖17C是相對于如由圖8A的X工作臺722A提供的線性路徑運(yùn)動1708的、具有兩種材料1712和1714的形成交替圖形并按順序交替的多個凹陷阱的取向的一個實例?？梢酝ㄟ^在基本上具有弧形路徑的線中放置阱，用6工作臺722D來使用具有替換材料即插入圖形的色帶。在其它實施方式中，可以通過設(shè)置在含有材料1714的M個凹陷阱之間的含有材料1712的N個凹陷阱來形成插入圖形，此處M和N為大于1的任何整數(shù)。如上所述的能夠適應(yīng)一種以上流變材料的設(shè)備和方法在FPD面板修復(fù)中提供了進(jìn)一步的優(yōu)點和具有類似的修復(fù)需求的其它應(yīng)用，并且還具有常規(guī)直接寫入應(yīng)用的優(yōu)點。圖20A-20D說明了對于修復(fù)需要兩種材料、金屬和非金屬例如有機(jī)鈍化材料的像素。在圖20A中，開路凌t據(jù)線缺陷2010位于柵絕緣膜例如SiNx2004之上，其覆蓋玻璃2002。開路數(shù)據(jù)線橫跨像素之下。有機(jī)鈍化層2006為大約2微米厚并被像素ITO層2008覆蓋。在提供了有機(jī)鈍化層2006和像素層2008之后，在陣列檢測期間發(fā)現(xiàn)缺陷。在圖2B和2C中說明了采用常規(guī)沉積修復(fù)方法例如LCVD的修復(fù)。在圖2B中，采用激光加工的常失見方法首先去除在開路線2010之上的ITO層2008和有機(jī)鈍化層2006。然后，如圖2C中所示，常規(guī)方法采用LCVD以修復(fù)具有修復(fù)線2014的開路數(shù)據(jù)線2010。因為常規(guī)方法例如LCVD僅僅用單一材料進(jìn)行修復(fù)，因此不用替換修復(fù)線2014之上的有機(jī)層2006。如果修復(fù)的開路數(shù)據(jù)線位于像素之下，則像素將不發(fā)揮功能。然而，如圖20D中所示，本發(fā)明通過采用準(zhǔn)備好接近一種以上流變材料的激光轉(zhuǎn)移設(shè)備，可以由有機(jī)材料2016的激光轉(zhuǎn)移覆蓋修復(fù)線。此外，由于本發(fā)明具有轉(zhuǎn)移至少兩種材料的能力，所以本發(fā)明也能轉(zhuǎn)移第二金屬線201，從而橋接ITO層。不僅開路數(shù)據(jù)線缺陷的完全修復(fù)而且有機(jī)鈍化層和ITO層的修復(fù)都會使受影響的像素可用。在圖8A8E中所示的本發(fā)明的實施方式中，激光束718保持在末級透鏡402視場的中心，并且加墨色帶相對于光束移動。可以通過可變孔徑706來構(gòu)形光束，但孔徑保持大致在激光束718的中心。圖21A表示圖8A8E中所示的各實施方式，具有固定于光軸718的孔徑2102的中心、色帶相對于光束移動并且基板404相對于凈荷移動。圖21B中所述的本發(fā)明的可替換實施方式通過在最大視場之內(nèi)移動構(gòu)形孔徑，產(chǎn)生轉(zhuǎn)移線。更具體地，如圖21B中所示，本實施方式包括具有稍微大于典型缺陷沉積修復(fù)的視場、例如最大視場(FOV)2104為150pm~150|im的末級透鏡402。在本實施方式中，可變孔徑2102不會停留在相對于光束中心的中央，但其橫跨視場2104步進(jìn)，因此對視場的不同部分進(jìn)行取樣，由此加墨色帶的不同部分就產(chǎn)生轉(zhuǎn)移線圖形的所需線段。在本實施方式中，色帶不會對每個線段步進(jìn)，但至少4安步進(jìn)方式與最大FOV2104—樣大地移位。本實施方式可以減少色帶工作臺722的需求。如上所述，在常規(guī)生產(chǎn)線排列中，檢查功能與激光切割(輻射)功能組合為單一儀器，并通過獨(dú)立儀器來完成開路缺陷修復(fù)。一些生產(chǎn)線排列采用用于檢查和激光切割功能的兩個獨(dú)立儀器。參照圖19A、19B和19C,每個方框表示面板流經(jīng)的專用4義器。對于FPD生產(chǎn)線而言重要的是FP面板通過產(chǎn)品的流動速度。由于面^1相對4交大典型為1.5m2m，并且較薄典型為lmm，必須細(xì)致地進(jìn)行在處理和檢測儀器之間面板的跨區(qū)轉(zhuǎn)接(hand-off)。在檢查或修復(fù)儀器之內(nèi)的典型裝載/對準(zhǔn)/卸載時間為45秒。因此，圖19A中的順序就需要對每個面板的整個處理時間為3x45秒=135秒，該順序采用三個專用儀器，稱為檢查儀器1902、激光切割修復(fù)儀器1904和開路缺陷/沉積修復(fù)儀器1906。圖19B中的順序需要90秒，該順序具有2個專用儀器，稱為檢查和切割修復(fù)儀器1910和開路缺陷/沉積修復(fù)儀器1906。在圖19C中的順序僅需要45秒的處理時間，其中根據(jù)本發(fā)明將所有功能組合為單一儀器1912。根據(jù)圖19C中所示的本發(fā)明的實施方式中，通過單一儀器來進(jìn)行檢查操作、直接寫入修復(fù)操作和切割修復(fù)操作。檢查操作提供缺陷的數(shù)量、類型、位置、尺寸/程度，這些通常隨著面板而改變。在捕獲缺陷圖像之后的幾乎所有儀器步驟都需要進(jìn)行判斷的方法一一例如，圖像是否為真實的缺陷而不是噪聲，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)哪種類型的缺陷，具體缺陷是否需要修復(fù)，需要哪種類型的修復(fù)，需要什么樣的修復(fù)參數(shù)，待修復(fù)的下一個缺陷是什么，等等。一些檢查/修復(fù)儀器將儀器操作與操作者判斷組合，插入確認(rèn)、分類，然后修復(fù)這種缺陷。本發(fā)明的實施方式插入直接寫入或沉積修復(fù)缺陷識別、分類、沉積修復(fù)分辨率和只自動缺陷修復(fù)(ADR)方法以及在檢查和切割/沉積修復(fù)儀器之內(nèi)的機(jī)理。在此引入光子動力公司申請的美國專利申請No.60/646111中所述的ADR才幾理和方法的實例的全文并作為參考。更具體地，對于組合4企查的本發(fā)明的實施方式，切割修復(fù)和沉積修復(fù)例如ADR能力自動地(非人為介入)分析檢查和AOI/測試數(shù)據(jù)，然后識別并分類缺陷，然后設(shè)置修復(fù)參數(shù)并執(zhí)行修復(fù)。參照圖19A、19B和19C，整個處理時間^U又取決于決定4義器的最優(yōu)順序的一個因素。同樣需要考慮對于三個潛在步驟中的每個步驟的處理時間。每個缺陷的典型檢查時間為移動至缺陷(典型為大約1秒)的時間和檢查缺陷的時間(大約0.5秒)之和。通過激光切割的修復(fù)是移動至缺陷(例如，1秒)的時間和修復(fù)/切割(例如，大約4秒)的時間之和。利用沉積的開路缺陷的修復(fù)為移動至缺陷(例如，1秒)的時間和寫入^f奮復(fù)的時間之和。采用LCVD方法的沉積修復(fù)對每個缺陷會花費(fèi)60秒，同時采用分配油墨包括固化在內(nèi)的修復(fù)對每個缺陷會花費(fèi)10秒。檢查需要修復(fù)的缺陷的平均時間會從根據(jù)用戶和面板的不同而改變。需要切割的修復(fù)與需要材料沉積的修復(fù)的平均時間也會改變。表1是每個面板的多個示例性缺陷和需要修復(fù)的那些缺陷的大致分析。估算值被標(biāo)準(zhǔn)化為100。表中包含了每個缺陷的估算處理時間。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage45</column></row><table>現(xiàn)有技術(shù)LCVD沉積步驟對每個面板增加大約100秒，并且從檢查儀器將面板轉(zhuǎn)移到專用LCVD儀器就需要額外增加45秒。在具有兩個儀器的結(jié)構(gòu)中，即第一儀器執(zhí)行檢查/切割操作而另一個儀器執(zhí)行LCVD沉積操作，在一個儀器中包含集成的沉積修復(fù)、檢查和切割修復(fù)的本發(fā)明顯示出節(jié)約了大約145秒。FPD生產(chǎn)線可以包括在線設(shè)備，其中獨(dú)立面板從儀器-至-儀器流動，或者它們使用多個疊置面板的盒，其設(shè)置儀器-至-儀器的端口。圖19A、19B和19C中所示的4壬何流程適合在線生產(chǎn)線、不考慮LOR處理時間的長度。然而，對于采用盒的設(shè)備，總是存在將至少在盒之內(nèi)的一個面板上發(fā)現(xiàn)開路缺陷的可能性。更典型地，盒中的每個面板類似地具有至少一個開路缺陷。因此，對于這些幾種缺陷的沉積修復(fù)，整個盒就必須"被支撐"。在兩種情況下，短的沉積修復(fù)處理時間就會比較長的處理時間具有更突出的優(yōu)點。因此，如圖19C中所示，因為短的沉積修復(fù)時間典型地遠(yuǎn)低于處理時間，所以根據(jù)本發(fā)明，具有集成的一企查/切割修復(fù)/和沉積修復(fù)的儀器與圖19A和19B中所示的儀器相比提供了多種優(yōu)點。參照圖19A、19B中所示的常規(guī)系統(tǒng)，首先可以;險查所有潛在缺陷，然后修復(fù)需要激光切割的所有缺陷，隨后修復(fù)所有開路缺陷?？蛇x擇地，修復(fù)所有開路缺陷、隨后修復(fù)需要激光切割的所有缺陷。兩種情況都需要兩個時間移動至待修復(fù)的缺陷，第一時間檢查，并且第二時間修復(fù)缺陷。參照本發(fā)明的圖19C,可以檢查并立即修復(fù)潛在的缺陷(無論激光切割或沉積)。因此，根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式，只不過一次定位缺陷。替換和等同。盡管利用實例參照平板陣列修復(fù)已經(jīng)描述了本發(fā)明，但應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明可以應(yīng)用于FPD制造例如濾色片修復(fù)或面板修復(fù)之內(nèi)的其它修復(fù)處理。此外，本發(fā)明還可以用于需要沉積的直接寫入應(yīng)用，例如微電子電路制造和修復(fù)，平板和太陽能面板上的帶內(nèi)陸的印刷，或太陽能面板的修復(fù)，或電容器、電池、半導(dǎo)體電路的制造，等等。在本公開的觀點內(nèi)，其它附加、消減或修改是顯而易見的，并且希望落入附加權(quán)利要求書的范圍之內(nèi)。權(quán)利要求1.一種設(shè)備，包括成像塊，包括照相機(jī)和照明裝置；第一透鏡，可選擇地共軸定位于所述成像塊的光路中，以便將所述照相機(jī)聚焦到在基板上形成的結(jié)構(gòu)上，從而能夠檢查所述結(jié)構(gòu)；激光器組件，用于發(fā)射具有與所述成像塊的光路共軸的光路的激光束；所述第一透鏡還用于將所述激光束聚焦在所述結(jié)構(gòu)上以便在被檢查的結(jié)構(gòu)被確認(rèn)為需要材料去除時去除在所述結(jié)構(gòu)中出現(xiàn)的材料；盒組件，用于在所述激光束的所述光路中承載并定位覆蓋有流變化合物的色帶；第二透鏡，用于在被檢查的結(jié)構(gòu)被確認(rèn)為需要材料轉(zhuǎn)移時可選擇地與所述成像塊的所述光路共軸地定位，所述第二透鏡用于將所述激光束聚焦到所述色帶上以便將在所述激光束的所述光路上定位的所述流變化合物轉(zhuǎn)移至所述結(jié)構(gòu)；以及自動對焦傳感器，具有與所述成像塊的所述光路共軸的光路并用于在所述材料去除期間將所述基板和所述第一透鏡之間的距離保持在預(yù)定范圍之內(nèi)，所述自動對焦傳感器還用于在所述流變化合物的所述轉(zhuǎn)移期間將所述色帶和所述第二透鏡之間的距離保持在所述預(yù)定范圍之內(nèi)。2.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中所述成像塊還用于在從其中去除所述材料之后捕獲所述結(jié)構(gòu)的圖像。3.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中所述成像塊還用于在所述基板上沉積所述流變化合物之后捕獲所述結(jié)構(gòu)的圖像。4.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中所述自動對焦傳感器是跟蹤自動對焦傳感器，用于當(dāng)相對于所述基板移動所述色帶時將所述色帶和所述基板之間的距離保持在預(yù)定范圍之內(nèi)。5.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，進(jìn)一步包括可變形孔徑，當(dāng)所述色帶相對于所述基板移動時所述可變形孔徑保持位于所述激光束的中心。6.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，進(jìn)一步包括可變孔徑，其圍繞所述激光束的中心而改變，以侵j夸越所述第二透鏡的一見場步進(jìn)。7.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中所述激光束具有在其中同時存在的多個波長。8.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中所述激光器組件用于在任何給定時間內(nèi)將所述激光束的波長設(shè)置為多個波長中的一個波長。9.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中所述激光器組件還包括在所述基板上沉積的所述流變化合物。10.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中所述激光束還用于固化在所述基板上沉積的所述流變化合物。11.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，進(jìn)一步包括固化硬件，所述固化硬件包括用于加熱在所述基板上沉積的所述流變化合物的熱源。12.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中所述熱源是第二激光束。13.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中所述基板是選自平板顯示器和太陽能面板的一種面—反。14.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中所述沉積的流變化合物提供一對節(jié)點之間的電連"l妻。15.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中所述色帶包括覆蓋有所述流變化合物的第一凹陷阱，所述第一凹陷阱定位于所述激光束的所述光路上，并且可操作以便將所述流變化合物轉(zhuǎn)移至所述基板，所述色帶對所述激光束的波長是透明的。16.根據(jù)權(quán)利要求15的設(shè)備，其中所述色帶還包括覆蓋有第二流變化合物的第二凹陷阱，所述第二凹陷阱被定位于所述激光束的所述光路上，并且可操作以便將所述第二流變化合物轉(zhuǎn)移至所述基板。17.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中所述色帶包括沿著所述色帶的長度形成的多個第一凹陷阱，所述多個第一凹陷阱中的每一個都覆蓋有第一流變化合物；以及與所述多個第一凹陷阱相交替的多個第二凹陷阱，所述多個第二凹陷阱中的每一個都覆蓋有不同于所述第一流變化合物的第二流變化合物，所述多個第一和第二凹陷阱中的每一個都定位于所述激光束的所述光路上并且可操作以便將其中設(shè)置的所述流變化合物轉(zhuǎn)移至所述基板，所述色帶對所述激光束的波長是透明的。18.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，還包括色帶準(zhǔn)備組件，用于制備所述按需色帶。19.根據(jù)權(quán)利要求18的設(shè)備，其中所述色帶準(zhǔn)備組件用于制備包括覆蓋有所述流變化合物的第一凹陷阱的色帶，所述第一凹陷阱定位于所述激光束的所述光路上并且可操作以便將所述流變化合物轉(zhuǎn)移至所述基板，所述色帶對所述激光束的波長是透明的。20.根據(jù)權(quán)利要求19的設(shè)備，其中所述色帶還包括覆蓋有第二流變化合物的第二凹陷阱，所述第二凹陷阱定位于所述激光束的所述光路上并且可操作以便將所述第二流變化合物轉(zhuǎn)移至所述基板。21.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，還包括第一Z軸控制器，用于相對于所述基板并平行于所述光路移動所述第一透鏡的位置；以及第二Z軸控制器，用于相對于所述第二透鏡并平行于所述光路移動所述色帶的位置。22.根據(jù)權(quán)利要求21的設(shè)備，其中所述第二Z軸控制器還用于在原點位置處停放所述色帶。23.根據(jù)權(quán)利要求22的設(shè)備，還包括蓋，用于當(dāng)在所述原點位置處停放所述色帶時覆蓋所述色帶。24.根據(jù)權(quán)利要求23的設(shè)備，還包括溫度控制器，用于控制在所述蓋中停放的所述色帶的溫度。25.根據(jù)權(quán)利要求22的設(shè)備，其中所述第二Z軸控制器還用于將所述色帶移動到裝載/卸載高度以便能夠改變所述色帶。26.根據(jù)權(quán)利要求21的設(shè)備，還包括旋轉(zhuǎn)軸控制器，用于相對于所述第二透鏡繞平行于所述光路的軸旋轉(zhuǎn)所述色帶。27.根據(jù)權(quán)利要求26的設(shè)備，其中所述旋轉(zhuǎn)軸控制器以第一角度旋轉(zhuǎn)所述色帶以便在原點位置處停放所述色帶。28.根據(jù)權(quán)利要求26的設(shè)備，其中所述旋轉(zhuǎn)軸控制器以第二角度旋轉(zhuǎn)所述色帶以便能夠替換所述色帶。29.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，還包括軸控制器，用于在垂直于所述激光束的所述光路的平面內(nèi)移動所述色帶的相對位置。30.根據(jù)權(quán)利要求29的設(shè)備，還包括軸控制器，用于在垂直于所述激光束的所述光路的平面內(nèi)移動所述基板的相對位置。31.—種設(shè)備，包括成像塊，包括照相機(jī)和照明裝置；第一透鏡，可選4奪地與所述成像塊的光路共軸定位以Y更將所述照相機(jī)聚焦到在基板上形成的結(jié)構(gòu)上，從而能夠檢查所述結(jié)構(gòu)；激光器組件，用于發(fā)射具有與所述成像塊的光路共軸的光路的激光束；所述第一透鏡還用于將所述激光束聚焦在所述結(jié)構(gòu)上以便在被檢查的結(jié)構(gòu)被確認(rèn)為需要材料去除是去除在所述結(jié)構(gòu)中存在的材料；盒組件，用于在所述激光束的所述光路中承載并定位覆蓋有流變化合物的色帶；第二透鏡，用于在被檢查的結(jié)構(gòu)被確認(rèn)為需要材料轉(zhuǎn)移時可選擇地與所述成像塊的所述光路共軸定位，所述第二透鏡還用于將所述激光束聚焦到所述色帶上以便將在所述激光束的所述光路上定位的所述流變化合物轉(zhuǎn)移至所述結(jié)構(gòu)；以及第一Z軸控制器，用于相對于所述基板并平行于所述光路移動所述第一透4竟的位置；以及第二Z軸控制器，用于相對于所述第二透鏡并平行于所述光路移動所述色帶的位置。32.根據(jù)權(quán)利要求31的設(shè)備，在原點位置處停放所述色帶。33.根據(jù)權(quán)利要求32的設(shè)備,置處停放所述色帶時覆蓋所述色帶。34.根據(jù)權(quán)利要求33的設(shè)備,述蓋中停放的所述色帶的所述溫度。其中所述第二Z軸控制器還用于還包括蓋，用于當(dāng)在所述原點位還包括溫度控制器，用于控制所35.根據(jù)權(quán)利要求31的設(shè)備，還包括軸控制器，用于在垂直于所述激光束的所述光路的平面內(nèi)移動所述色帶的相對位置。36.根據(jù)權(quán)利要求31的設(shè)備，還包括軸控制器，用于在垂直37.—種用于制備色帶的設(shè)備，所述設(shè)備包括第一模塊，用于在所述色帶中形成凹陷阱；以及第二模塊，用于在所述凹陷阱中噴射油墨。38.—種在基板上進(jìn)行操作的方法，所述方法包括可選擇地與成像塊的光路共軸地定位第一透鏡，以便將在所述成像塊中設(shè)置的照相機(jī)聚焦到在所述基板上形成的結(jié)構(gòu)上，從而能夠捕獲所述結(jié)構(gòu)的圖像以檢查所述結(jié)構(gòu)；沿著所述光路發(fā)射激光束至所述結(jié)構(gòu)；如果被檢查的結(jié)構(gòu)被確認(rèn)為需要材料去除，就選擇性地與所述光路共軸地定位所述第一透鏡；結(jié)構(gòu)中存在的材料；在所述激光束的所述光路中定位覆蓋有流變化合物的色帶；如果所述被檢查的結(jié)構(gòu)被確認(rèn)為需要材料轉(zhuǎn)移，則選擇性地與所述光^各共軸地定位所述第二透鏡；采用所述第二透鏡將所述激光束聚焦到所述色帶從而將所述流變材料轉(zhuǎn)移至所述結(jié)構(gòu)；在材料去除期間，將所述基板和所述第一透鏡之間的距離保持所在預(yù)定范圍之內(nèi)；以及在流變材料的轉(zhuǎn)移期間，將所述色帶和所述第二透鏡之間的距離保持在所述預(yù)定范圍之內(nèi)。39.根據(jù)權(quán)利要求38的方法，還包括在從所述結(jié)構(gòu)中去除所述材料之后捕獲所述結(jié)構(gòu)的圖像。40.根據(jù)權(quán)利要求38的方法，還包括在所述基板上沉積所述流變材料之后捕獲所述結(jié)構(gòu)的圖像。41.根據(jù)權(quán)利要求38的方法，還包括當(dāng)相對于所述基板移動所述色帶時，將所述色帶和所述基板之間的距離保持在預(yù)定范圍之內(nèi)。42.根據(jù)權(quán)利要求38的方法，還包括當(dāng)相對于所述激光束移動所述色帶時，保持可變形孔徑位于所述激光束的中心。43.根據(jù)權(quán)利要求38的方法，還包括圍繞所述激光束的中心改變可變孔徑，以便橫跨所述第二透鏡的視場步進(jìn)。44.根據(jù)權(quán)利要求38的方法，其中所述激光束具有在其中同時存在的多個波長。45.根據(jù)權(quán)利要求38的方法，還包括選擇所述激光束的波長。46.根據(jù)權(quán)利要求38的方法，還包括改變所述激光束的脈沖長度。47.根據(jù)權(quán)利要求38的方法，還包括采用所述激光束，固化在所述基板上沉積的所述流變材料。48.根據(jù)權(quán)利要求38的方法，還包括加熱在所述基板上沉積的所述流變材料。49.根據(jù)權(quán)利要求48的方法，還包括采用第二激光束，固化在所述基板上沉積的所述流變材料。50.根據(jù)權(quán)利要求38的方法，其中所述基板是選自由平板顯示器和太陽能面板的一種面板。51.根據(jù)權(quán)利要求38的方法，其中所述沉積的流變化合物提供一對節(jié)點之間的電連接。52.根據(jù)權(quán)利要求38的方法，其中所述色帶包括覆蓋有所述流變化合物的第一凹陷阱，所述第一凹陷阱定位于所述激光束的所述光路上，并且所述色帶對所述激光束的波長是透明的。53.根據(jù)權(quán)利要求52的方法，其中所述色帶還包括覆蓋有第二流變化合物的第二凹陷阱，所述第二凹陷阱定位于所述激光束的所述光路上。54.根據(jù)權(quán)利要求38的方法，還包括制備所述按需色帶。55.根據(jù)權(quán)利要求54的方法，其中所述色帶包括覆蓋有所述流變化合物的第一凹陷阱，所述第一凹陷阱定位于所述激光束的所述光路上，所述色帶對所述激光束的波長是透明的。56.根據(jù)權(quán)利要求55的方法，其中所述色帶還包括覆蓋有第二流變化合物的第二凹陷阱，所述第二凹陷阱定位于所述激光束的所述光路上。57.根據(jù)權(quán)利要求38的方法，還包括相對于所述基板并平行于所述光路移動所述第一透鏡的位置；以及相對于所述第二透鏡并平行于所述光路移動所述色帶的位置。58.根據(jù)權(quán)利要求57的方法，帶。59.才艮據(jù)權(quán)利要求58的方法,覆蓋所述色帶。60.根據(jù)權(quán)利要求59的方法，度。61.根據(jù)權(quán)利要求58的方法，載位置以便能夠改變所述色帶。62.根據(jù)權(quán)利要求57的方法，行于所述光路的軸旋轉(zhuǎn)所述色帶。63.根據(jù)權(quán)利要求62的方法，以便在原點位置處停放所述色帶。64.根據(jù)斗又利要求62的方法，以便能夠改變所述色帶。權(quán)利要求書第9/10頁還包括在原點位置處停;故所述色還包括當(dāng)在所述原點位置?！肺臅r還包括控制所述被覆蓋色帶的溫還包括將所述色帶移動至裝載/卸還包括相對于所述第二透鏡繞平還包括以第一角度旋轉(zhuǎn)所述色帶還包括以第二角度旋轉(zhuǎn)所述色帶65.根據(jù)權(quán)利要求38的方法，還包括在垂直于所述激光束的所述光路的平面內(nèi)移動所述色帶的相對位置。66.根據(jù)權(quán)利要求38的方法，還包括在垂直于所述激光束的所述光路的平面內(nèi)移動所述基板的相對位置。67.—種制備色帶的方法，所述方法包括在所述色帶中形成凹陷阱；以及在所述凹陷阱中噴射油墨。68.—種色帶，包括形成為覆蓋有第一流變材料的第一凹陷阱，所述第一凹陷阱定位于激光束的光路中并且可操作以便將所述第一流變材料轉(zhuǎn)移至基板，所述色帶對所述激光束的波長是透明的。69.根據(jù)權(quán)利要求68的色帶，其中所述凹槽具有范圍在0.2微米和2孩i米之間的深度。70.根據(jù)權(quán)利要求68的色帶，還包括覆蓋有不同于所述第一流變材料的第二流變材料的第二凹陷阱，所述第二凹陷阱定位于所述激光束的所述光路上并且可操作以便將所述第二流變材料轉(zhuǎn)移至所述基板。全文摘要一種設(shè)備，包括集成檢查、材料去除和材料沉積功能。該設(shè)備沿著相同光軸執(zhí)行檢查、材料去除和材料沉積的操作。該設(shè)備部分地包括一個照相機(jī)、一組透鏡，以及一個或多個激光器。第一透鏡用于經(jīng)歷檢查時在目標(biāo)基板上形成的結(jié)構(gòu)上使照相機(jī)沿著光軸聚焦。如果確認(rèn)為被檢查結(jié)構(gòu)為需要去除材料，則第一透鏡還用于將激光束聚焦到該結(jié)構(gòu)上以便去除其上出現(xiàn)的材料。如果確認(rèn)被檢查結(jié)構(gòu)為需要材料沉積，則第二透鏡用于將激光束聚焦到色帶上以便從色帶中形成的凹陷阱中將流變化合物轉(zhuǎn)移到該結(jié)構(gòu)。文檔編號H05B39/04GK101443788SQ200780017335公開日2009年5月27日申請日期2007年5月14日優(yōu)先權(quán)日2006年5月12日發(fā)明者喬爾·維斯?fàn)?史蒂文·愛德華·比雷爾,周琪姆·阿爾德零,托馬斯·H·貝利,艾倫·凱布爾,莉迪亞·J·楊,郭尚燁,阿爾貝托·匹科,雷蒙德·阿耶翁申請人:光子動力學(xué)公司;美國海軍部