專利名稱：大面積電致節(jié)能冷光膜制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及國(guó)際專利分類H05B電致冷光技術(shù)領(lǐng)域，尤其是電激發(fā)光無(wú)機(jī)EL冷光片，或大面積電致節(jié)能冷光膜制造方法。
背景技術(shù)：
公知技術(shù)中，電激發(fā)光(Electro Luminescent)簡(jiǎn)稱EL，EL冷光片是通過(guò)加在兩端電極的交流電壓而產(chǎn)生的電場(chǎng)激發(fā)螢光物質(zhì)發(fā)光的一種物理現(xiàn)象，即電場(chǎng)發(fā)光現(xiàn)象， 其結(jié)合多種物質(zhì)以產(chǎn)生不同顏色的光源，具有功耗低、光線柔和、無(wú)紫外線、顏色多樣、壽命長(zhǎng)、不產(chǎn)生熱量等特點(diǎn)，所以一般俗稱冷光源，冷光源不同于傳統(tǒng)的點(diǎn)或線發(fā)光機(jī)理，而是一種均勻整體的面發(fā)光機(jī)體，也是一種對(duì)視覺不會(huì)造成刺眼，沒有傷害性的且富有彈性又可以被裁切成任意復(fù)雜外形光源。冷光源具有很高的發(fā)光效率、光線柔和和發(fā)光強(qiáng)度極高的特點(diǎn)，因此在戶內(nèi)外廣告的應(yīng)用將會(huì)得到極佳的效果。冷光源的素面板彈性很大，可以根據(jù)顧客要求裁切成各種形狀。所制成的冷光片輕薄柔軟，不占空間，安裝簡(jiǎn)易，大大提高了工程安裝的效率。冷光源的工作電壓由6V到220V，工作頻率由50HZ到4000HZ，典型的工作電壓和頻率是20V-M0V/400HZ-4000HZ，不同范圍的電壓或頻率將會(huì)改變冷光的亮度或顏色。冷光源并不像傳統(tǒng)光源會(huì)壽終正寢的情況出現(xiàn)，其使用壽命一般為12000-28000小時(shí)(亮度80cd/m2)，但經(jīng)過(guò)一個(gè)長(zhǎng)時(shí)間的使用后，冷光源的發(fā)光將會(huì)逐漸遞減，在此情況下還可以使用2000-3000小時(shí)。影響其壽命的重要原因是材料、電壓、頻率、溫度和濕度。EL發(fā)光片技術(shù)與普通發(fā)光產(chǎn)品由熱能轉(zhuǎn)化為光能的技術(shù)不同，而是利用元素在由交流電壓產(chǎn)生的交變電場(chǎng)中，被導(dǎo)電層電子碰撞激活其固有特征，引導(dǎo)電子能極的跳躍、變化、復(fù)合而發(fā)射出高效率的冷光的一種物理現(xiàn)象，即電激發(fā)光現(xiàn)象(Electroluminescence， 簡(jiǎn)稱EL)。LED、0LED、半導(dǎo)體激光器、EL冷光片均是廣義上的EL。這種光沒有溫度，故又稱為冷光源。其中，EL冷光片是利用上述原理制成的較為先進(jìn)的具備各種突出優(yōu)點(diǎn)的被廣泛應(yīng)用的電激發(fā)光薄片。相關(guān)技術(shù)在專利是文獻(xiàn)中公開較少，例如
專利申請(qǐng)?zhí)?3M7069冷光片，它由三層材料組成；最外層是P C材料層，其次是U V A材料層，再次是E L材料層；三層材料由外向內(nèi)疊放在一起，將逐層敷設(shè)好的材料送入熱模機(jī)中，在真空度為IOmP a，加熱至2 4 0 - 2 6 0 °C，經(jīng)1 0 0 — 1 4 0分鐘后即得成品；E L材料層內(nèi)側(cè)還可以增加一層襯板材料層；襯板材料層可以使用環(huán)氧樹脂或玻璃；
專利申請(qǐng)?zhí)?00520110525無(wú)限延伸冷光片，其包括導(dǎo)電板是一種I T O透明導(dǎo)電玻璃；絕緣層是一絕緣用的膠材，涂布于導(dǎo)電板上，其面積稍小于導(dǎo)電板；發(fā)光層是一種通電后能發(fā)光的粉層，涂布于絕緣層上，其四周面積稍小于絕緣層，其中發(fā)光層中央由一絕緣板隔開，而隔開后的發(fā)光層則可通上正、負(fù)電；二導(dǎo)電銅片具備黏貼膠材，貼附于發(fā)光層上，該二導(dǎo)電銅片通有正、負(fù)電，能加強(qiáng)發(fā)光層整體的導(dǎo)電性，而因發(fā)光層的面積涂布均勻且寬而長(zhǎng)，充分利用了導(dǎo)電板及絕緣層的使用面積于最大有效使用范圍，使得無(wú)限延伸接設(shè)后的冷光片無(wú)縫隙，且能明亮發(fā)光，不會(huì)燒毀，達(dá)到目標(biāo)指引、照明及賞心悅目的使用目的。專利申請(qǐng)?zhí)?2118491冷光片的制造流程，其主要藉由一工作母機(jī)于冷光片的背電極層上進(jìn)行加工，產(chǎn)生預(yù)設(shè)的文字或圖形后，再利用一絕緣層設(shè)立于背電極層的表面，且于文字或圖形的表面縷設(shè)有復(fù)數(shù)導(dǎo)電孔，而上述的復(fù)數(shù)導(dǎo)電孔間則藉由一導(dǎo)電層予以相互連接，且于導(dǎo)電層的一側(cè)延伸出有復(fù)數(shù)輸入接腳，并利用絕緣材料包覆于冷光片的上、下表面后，以形成一絕緣狀態(tài)，即可藉由上述制造流程來(lái)制作出適用于小量生產(chǎn)、制造，且成本低廉的冷光片。專利申請(qǐng)?zhí)?00410022267覆膜式合成彩屏冷光機(jī)動(dòng)車儀表標(biāo)度盤制造方法按設(shè)計(jì)樣式制作儀表標(biāo)度盤狀E L薄膜發(fā)光屏(冷光片)作背光源，將需要表現(xiàn)的刻度、字符、 圖案、色彩層次、明暗對(duì)比、印制在一透光薄膜上后模切成型，再與上述冷光片對(duì)應(yīng)粘貼合成?，F(xiàn)有技術(shù)中，冷光片生產(chǎn)主要為絲網(wǎng)印刷方式，絲網(wǎng)面積的大小制約了冷光膜的面積以及長(zhǎng)度，效率較低。在生產(chǎn)大面積冷光膜時(shí)，因絲網(wǎng)張力問題，易造成涂層厚度很大的不均，無(wú)法保證產(chǎn)品質(zhì)量，成品合格率較低，從而限制了生產(chǎn)的擴(kuò)大，還造成了很大浪費(fèi)， 增加了成本。同時(shí)，經(jīng)實(shí)驗(yàn)研究分析，現(xiàn)有技術(shù)中有待改進(jìn)之處包括現(xiàn)有的冷光片生產(chǎn)為絲網(wǎng)印刷方式，由于絲網(wǎng)張力的原因，在印刷大面積冷光膜均勻性不好，涂層厚度相差較大，影響冷光片穩(wěn)定性；現(xiàn)有的冷光片有兩層PET保護(hù)層，安全性不佳；現(xiàn)有的冷光片極為印刷式，制約了冷光片面積，且不易焊接；現(xiàn)有的冷光片中，Ag作為導(dǎo)電層，成本較高，制約了冷光片大面積應(yīng)用；現(xiàn)有的冷光片，在ITO導(dǎo)電膜上涂熒光體，再涂誘電體，再涂導(dǎo)電層， 一個(gè)環(huán)節(jié)出現(xiàn)不合格品，導(dǎo)致整個(gè)產(chǎn)品的不合格，產(chǎn)品合格率不高；現(xiàn)有的冷光片生產(chǎn)，在 ITO導(dǎo)電膜上涂熒光體，再涂誘電體，誘電體表面容易出現(xiàn)氣泡等不良情況，更有可能劃傷發(fā)光層，使發(fā)光層表面有線條，在誘電體上涂銀漿時(shí)會(huì)出現(xiàn)龜裂。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種大面積電致節(jié)能冷光膜制造方法，包含這種膜的結(jié)構(gòu)， 以及制造生產(chǎn)和形成這種結(jié)構(gòu)所采用的制造方法。本發(fā)明的發(fā)明目的是通過(guò)如下技術(shù)措施實(shí)現(xiàn)的ITO導(dǎo)電膜(C)和誘電體載體膜 (C')間夾嵌金屬帶電極，其中，熒光體層外側(cè)附著于ITO導(dǎo)電膜，誘電體層外側(cè)附著于誘電體載體膜，再在ITO導(dǎo)電膜和誘電體載體膜外側(cè)分別附加護(hù)卡膜；其中，ITO導(dǎo)電膜為鍍ITO的PET，PET在外側(cè)，誘電體載體膜為涂布誘電體層的PET，PET在外側(cè)，在誘電體層與PET間為導(dǎo)電層；金屬帶電極采用銅帶等導(dǎo)電材料并與ITO導(dǎo)電膜中的ITO或誘電體層相連接，從而使電致冷光膜的無(wú)限延伸成為可能，且在銅帶之上便于焊接操作。本發(fā)明的有益效果是電極采用銅帶與ITO相連接，從而使電致冷光膜的無(wú)限延伸成為可能，且在銅帶之上便于焊接操作。可以開發(fā)出寬度達(dá)2米，長(zhǎng)度可達(dá)一千米以上的產(chǎn)品，解決了傳統(tǒng)工藝無(wú)法生產(chǎn)超大面積的電致發(fā)光膜產(chǎn)品的不足，尤其是可以制成超大面積的產(chǎn)品；該產(chǎn)品還具有傳統(tǒng)燈光源無(wú)法比擬的節(jié)能、便于運(yùn)輸裝卸、壽命高的優(yōu)點(diǎn)。


圖1是本發(fā)明實(shí)施例1中夾嵌2條導(dǎo)電金屬帶的一種結(jié)構(gòu)示意2是本發(fā)明實(shí)施例1的分層結(jié)構(gòu)示意框圖
圖3是本發(fā)明實(shí)施例1的夾嵌1條導(dǎo)電金屬帶結(jié)構(gòu)示意4是本發(fā)明實(shí)施例1的夾嵌2條導(dǎo)電金屬的一種結(jié)構(gòu)示意5是本發(fā)明實(shí)施例1的夾嵌2條導(dǎo)電金屬的一種結(jié)構(gòu)示意圖附圖標(biāo)記
護(hù)卡膜A、A'，誘電體層B，ITO導(dǎo)電膜C，誘電體載體膜C'、金屬帶電極D，熒光體層E，導(dǎo)電層F，PET膜G。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合具體實(shí)施方式
，進(jìn)一步闡述本發(fā)明。實(shí)施例1
ITO導(dǎo)電膜(C)和誘電體載體膜(C')間嵌金屬帶電極D，其中，熒光體層E附著于 ITO導(dǎo)電膜C，誘電體層B附著于誘電體載體膜C'，再在ITO導(dǎo)電膜(C)和誘電體載體膜C'外側(cè)分別附加護(hù)卡膜A和A'；其中，ITO導(dǎo)電膜C為鍍ITO的PET膜G，PET膜G在外側(cè)，誘電體載體膜C'為涂布誘電體層B的導(dǎo)電層(F)和PET膜G，PET膜G在外側(cè)，在誘電體層B與PET膜G間為導(dǎo)電層F ；金屬帶電極D采用銅帶等導(dǎo)電材料并與ITO導(dǎo)電膜 C中的ITO或誘電體層B相連接，從而使電致冷光膜的無(wú)限延伸成為可能，且在銅帶之上便于焊接操作。金屬帶電極D為銅或鋁，或其他導(dǎo)電性能優(yōu)良的金屬材料。金屬帶電極D—面有導(dǎo)電膠以增加與ITO粘性，金屬帶電極D材質(zhì)可以是一些其它導(dǎo)電性優(yōu)良的材料。PET膜G為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯膜；
本發(fā)明按護(hù)卡膜A，涂熒光體層E的ITO導(dǎo)電膜C，夾嵌金屬帶電極D，內(nèi)層涂誘電體層 B的誘電體載體膜C'、護(hù)卡膜A'順序復(fù)合制成。護(hù)卡膜A和A'長(zhǎng)度相同，導(dǎo)電層F、PET膜G長(zhǎng)度相同，護(hù)卡膜A和A'長(zhǎng)度大于 ITO導(dǎo)電膜C，ITO導(dǎo)電膜C的長(zhǎng)度大于熒光體層E。其中，根據(jù)產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域的不同以及客戶要求，金屬帶電極D的夾嵌布位置分布形式包括1條金屬帶電極D置于熒光體層(E) —側(cè)端；2條金屬帶電極(D)分別置于熒光體層(E)的相對(duì)兩側(cè)端，或者1條金屬帶電極(D)置于熒光體層(E) —側(cè)端，另1條置于誘電體⑶一側(cè)端。本實(shí)施例中，分層結(jié)構(gòu)依次為護(hù)卡膜A、PET膜G、ITO膜、發(fā)光層或熒光體層E、金屬帶電極D、誘電體層B、導(dǎo)電層F或背電極、PET膜G、護(hù)卡膜A'，其中，PET膜G和ITO膜構(gòu)成ITO導(dǎo)電膜C，由導(dǎo)電層F或背電極和PET膜G構(gòu)成誘電體載體膜C'。本實(shí)施例具體制造方法包括按照電致節(jié)能冷光膜復(fù)合方法用復(fù)合設(shè)備按護(hù)卡膜 A、涂有熒光體層E的ITO導(dǎo)電膜C、2支金屬帶電極D即(DpD2、)；涂誘電體層B的誘電體載體膜C'、護(hù)卡膜A'順序復(fù)合。帶有誘電體層B與載體層G膜之間是由厚度5-50微米Al、Cu材料構(gòu)成的導(dǎo)電層F。ITO即氧化銦錫，特別是，ITO導(dǎo)電膜涂覆熒光體。護(hù)卡膜A 或 A'為 Laminating Film，厚度 50-300 微米。PET膜G即聚酯薄膜，厚度50-300微米。熒光體層E作為發(fā)光層，厚度20-100微米。誘電體層B厚度10-50微米。金屬帶電極⑶厚度為5-500微米。ITO導(dǎo)電膜的膜層的厚度不同，膜的導(dǎo)電性能和透光性能也不同。一般來(lái)說(shuō)，在相同的工藝條件和性能相同的PET的基底材料的情況下，ITO膜層越厚，PET-ITO膜的表面電阻越小，光透過(guò)率也相應(yīng)的越?。桓咦杩笽TO導(dǎo)電薄膜PET-ITO主要應(yīng)用于移動(dòng)通訊領(lǐng)域的觸摸屏生產(chǎn)。面電阻300 500 Ω / □，面電阻均勻性MD彡士3%，TD彡士6%，薄膜厚度 0. 188士 10%，線性度(MD):彡1. 5%，全光線透過(guò)率^ 86%，表面硬度(鉛筆硬度):彡3H，熱穩(wěn)定性(R-RO)/R 士20%，熱收縮率=MD ( 1. 0%，TD ( 0. 8%，加熱卷曲^ 10mm，低阻抗 ITO 導(dǎo)電膜(ΡΕΤ-ΙΤ0)，低阻抗ITO導(dǎo)電膜可用于對(duì)導(dǎo)電性能要求比較高的領(lǐng)域，如用于薄膜太陽(yáng)能電池的透明電極、電致變色器件的電極材料、薄膜開關(guān)等領(lǐng)域。薄膜厚度0. 175士 10 mm，霧度<覬，寬度406/360士2 mm，粘附100/100，卷曲彡10 mm，透過(guò)率彡80%，表面電阻90士 15 Ω / □，面電阻均勻性<7%，熱收縮MD彡1.3，TD彡1.0，熱穩(wěn)定性高溫 80oC, 120hr 彡 1· 3，低溫_40oC，120hr 彡 1· 3，熱循環(huán)_30oC —80oC 彡 1.3，熱 / 濕度 60oC, 90% RH, 120hr 彡 1. 3。ITO薄膜的制備方法有蒸發(fā)、濺射、反應(yīng)離子鍍、化學(xué)氣相沉積、熱解噴涂等，但使用最多的是反應(yīng)磁控濺射法。后者是指采用磁控濺射的方法在透明有機(jī)薄膜材料上濺射透明氧化銦錫(ITO)導(dǎo)電薄膜鍍層并經(jīng)高溫退火處理得到的高技術(shù)產(chǎn)品。本發(fā)明實(shí)施例中，導(dǎo)電層及電極得到改善，采用價(jià)格便宜、導(dǎo)電性優(yōu)良的鋁、銅等代替銀作為導(dǎo)電層及背電極，利于焊接及延展性，在ITO導(dǎo)電膜涂覆熒光體，在誘電體載體膜涂誘電體，再?gòu)?fù)合的方式，提高了產(chǎn)品合格率，護(hù)卡膜以及PET膜的增加，增加了保護(hù)層數(shù)，使產(chǎn)品更穩(wěn)定安全。本發(fā)明實(shí)施例中，電極采用銅帶與ITO相連接，從而使電致冷光膜的無(wú)限延伸成為可能，且在銅帶之上便于焊接操作。本發(fā)明實(shí)施例中，電致節(jié)能冷光膜是一種先進(jìn)的冷光源，其具有體積薄、耗能低、 壽命長(zhǎng)、發(fā)光柔和均勻等優(yōu)點(diǎn)，使其更適合于大面積、平面、曲面的均勻照明，以及普通照明所不能勝任的場(chǎng)合，它不產(chǎn)生紫外線，在有煙霧的場(chǎng)合能見度高，防水、抗壓、抗震以及可以任意彎曲等特性。在達(dá)到使用壽后，其亮度進(jìn)入半衰期，逐漸衰減，不會(huì)產(chǎn)生一瞬間終結(jié)現(xiàn)象。本發(fā)明可以開發(fā)出寬度達(dá)2米，長(zhǎng)度可達(dá)一千米以上的產(chǎn)品，解決了傳統(tǒng)工藝無(wú)法生產(chǎn)超大面積的電致發(fā)光膜產(chǎn)品的不足，尤其是可以制成超大面積的電致節(jié)能冷光膜產(chǎn)品；該產(chǎn)品還具有傳統(tǒng)燈光源無(wú)法比擬的節(jié)能、便于運(yùn)輸裝卸、壽命高的優(yōu)點(diǎn)。
權(quán)利要求
1.大面積電致節(jié)能冷光膜制造方法，其特征是ΙΤ0導(dǎo)電膜(C)和誘電體載體膜(C') 夾嵌金屬帶電極(D)，其中，熒光體層(E)附著于ITO導(dǎo)電膜(C)，誘電體層(B)附著于誘電體載體膜(C')，再在ITO導(dǎo)電膜(C)和誘電體載體膜(C')外側(cè)分別附加護(hù)卡膜㈧ 和(A')；其中，ITO導(dǎo)電膜(C)為鍍ITO的PET膜(G)，PET膜(G)在外側(cè)，誘電體載體膜(C')為涂布誘電體層(B)的導(dǎo)電層(F)和PET膜(G)，PET膜(G)在外側(cè)，在誘電體層 (B)與PET膜(G)間為導(dǎo)電層(F);金屬帶電極(D)采用銅帶等導(dǎo)電材料并與ITO導(dǎo)電膜(C) 中的ITO或誘電體層(B)相連接，從而使電致冷光膜的無(wú)限延伸成為可能，且在銅帶之上便于接端子及焊接操作。
2.如權(quán)利要求1所述的大面積電致節(jié)能冷光膜制造方法，其特征在于，按護(hù)卡膜(Α)， 涂熒光體層(E)的ITO導(dǎo)電膜(C)，夾嵌金屬帶電極(D)，內(nèi)層涂誘電體層(B)的誘電體載體膜(C')、護(hù)卡膜(A')順序復(fù)合制成。
3.如權(quán)利要求1所述的大面積電致節(jié)能冷光膜制造方法，其特征在于，金屬帶電極(D) 為銅或鋁等導(dǎo)電材料。
4.如權(quán)利要求1所述的大面積電致節(jié)能冷光膜制造方法，其特征在于，分層結(jié)構(gòu)依次為護(hù)卡膜(A)、PET膜(G)、ITO膜、發(fā)光層或熒光體層(E)、金屬帶電極(D)、誘電體層(B)、 導(dǎo)電層(F)或背電極、PET膜(G)、護(hù)卡膜(A')，其中，PET膜(G)和ITO膜構(gòu)成ITO導(dǎo)電膜(C)，由導(dǎo)電層(F)或背電極和PET膜(G)構(gòu)成誘電體載體膜(C')。
5.如權(quán)利要求3所述的大面積電致節(jié)能冷光膜制造方法，其特征在于，按照電致節(jié)能冷光膜復(fù)合方法用復(fù)合設(shè)備按護(hù)卡膜(A)、涂有熒光體層(E)的ITO導(dǎo)電膜(C)、2支金屬帶電極(D)即(DpD2)；涂誘電體層(B)的誘電體載體膜(C')、護(hù)卡膜(A')順序復(fù)合。
6.如權(quán)利要求4所述的大面積電致節(jié)能冷光膜制造方法，其特征在于，導(dǎo)電層(F)是由厚度5-50微米Al、Cu等導(dǎo)電材料構(gòu)成。
7.如權(quán)利要求4所述的大面積電致節(jié)能冷光膜制造方法，其特征在于，ITO導(dǎo)電膜(C) 中的ITO即氧化銦錫；護(hù)卡膜(A)或(A')即Laminating Film，厚度50-300微米；PET 膜(G)為聚酯薄膜，厚度50-300微米；熒光體層(E)作為發(fā)光層，厚度20-100微米；誘電體層(B)厚度10-50微米；導(dǎo)電層(F)厚度5-50微米；金屬帶電極(D)厚度為5-500微米。
8.如權(quán)利要求1所述的大面積電致節(jié)能冷光膜制造方法，護(hù)卡膜(A)和(A')長(zhǎng)度相同，導(dǎo)電層(F)、PET膜(G)長(zhǎng)度相同，護(hù)卡膜㈧和(A')長(zhǎng)度大于ITO導(dǎo)電膜(C)，ITO 導(dǎo)電膜(C)的長(zhǎng)度大于熒光體層(E)，2支金屬帶電極(D)中的兩支D1、D4分別位于熒光體層(E)的兩端且與ITO導(dǎo)電膜接觸。
9.如權(quán)利要求1所述的大面積電致節(jié)能冷光膜制造方法，根據(jù)產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域的不同以及客戶要求，金屬帶電極(D)的夾嵌布位置分布形式包括1條金屬帶電極(D)置于熒光體層(E) —側(cè)端；2條金屬帶電極(D)分別置于熒光體層(E)的相對(duì)兩側(cè)端，或者1條金屬帶電極(D)置于熒光體層(E) —側(cè)端，另1條置于誘電體(B) —側(cè)端。
全文摘要
大面積電致節(jié)能冷光膜制造方法,ITO導(dǎo)電膜(C)和誘電體載體膜(C′)間夾嵌金屬帶電極(D)，其中,熒光體層(E)附著于ITO導(dǎo)電膜(C),誘電體層(B)附著于誘電體載體膜(C′),再在ITO導(dǎo)電膜(C)和誘電體載體膜(C′)外側(cè)分別附加護(hù)卡膜(A)和(A′)；金屬帶電極(D)采用銅帶等導(dǎo)電材料并與ITO導(dǎo)電膜(C)中的ITO或誘電體層(B)相連接，從而使電致冷光膜的無(wú)限延伸成為可能，且在銅帶之上便于焊接操作?？梢蚤_發(fā)出寬度達(dá)2米，長(zhǎng)度可達(dá)一千米以上的產(chǎn)品，解決了傳統(tǒng)工藝無(wú)法生產(chǎn)超大面積的電致發(fā)光膜產(chǎn)品的不足，該產(chǎn)品還具有傳統(tǒng)燈光源無(wú)法比擬的節(jié)能、便于運(yùn)輸裝卸、壽命高的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)H05B33/10GK102316619SQ20111022561
公開日2012年1月11日 申請(qǐng)日期2011年8月8日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月8日
發(fā)明者馬昌靜 申請(qǐng)人:蕪湖日昇昌新光源科技有限公司