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      石墨坩堝的制作方法

      文檔序號(hào):8056999閱讀:1534來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:石墨坩堝的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型涉及一 種石墨坩堝,特別是一種石墨雙懸浮坩堝。
      背景技術(shù)
      從丘克拉斯基法(直拉法)生長(zhǎng)鍺晶體以來(lái),在所使用的石墨坩堝上發(fā)生了一系列演變。從單坩堝,雙坩堝,懸浮坩堝,使用這些坩堝存在的一些缺點(diǎn)是明顯的。
      發(fā)明內(nèi)容為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷,本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案一種石墨坩堝,它包括單坩堝、外浮堝、內(nèi)浮堝,所述外浮堝置于所述單坩堝內(nèi),所述內(nèi)浮堝置于所述外浮堝內(nèi),所述外浮堝為石墨浮動(dòng)套筒,外浮堝也可以裝料。本發(fā)明創(chuàng)造的有益效果在晶體生長(zhǎng)時(shí),兩只浮堝可以隨著熔體液面的高度而同步變化,因此,兩只浮堝的高度差在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中始終保持不變,有利于晶體生長(zhǎng)時(shí)的結(jié)晶潛熱的散發(fā),使熱場(chǎng)的穩(wěn)定性大為提高,雙懸浮坩堝集中了多種類型坩堝的優(yōu)點(diǎn),便于控制晶體的生長(zhǎng)。1)已經(jīng)完全解決了在氬氣氛中生長(zhǎng)長(zhǎng)晶體和超長(zhǎng)晶體產(chǎn)生晶體棱線變寬的問(wèn)題;2)在晶體生長(zhǎng)時(shí),減少了電阻率不均勻性和小角晶界;3)每段單晶上下端面位錯(cuò)< 200/cm2已達(dá)90%左右。

      圖1為本實(shí)用新型單坩堝結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本實(shí)用新型外浮堝結(jié)構(gòu)示意圖;圖3為本實(shí)用新型外浮堝另一結(jié)構(gòu)示意圖;圖4為本實(shí)用新型內(nèi)浮堝結(jié)構(gòu)示意圖。
      具體實(shí)施方式
      以下結(jié)合附圖通過(guò)具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案做進(jìn)一步的說(shuō)明。石墨坩堝由一只單坩堝,外浮堝(石墨浮動(dòng)套筒),內(nèi)浮堝構(gòu)成,當(dāng)單坩堝半徑R 很大時(shí),內(nèi)浮堝R比較小時(shí),則單坩堝壁對(duì)晶體生長(zhǎng)的影響就可以忽略不計(jì)。外浮堝和內(nèi)浮堝的高度之差在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中始終保持不變,因此大大提高了晶體生長(zhǎng)過(guò)程中的熱穩(wěn)定性,有利于結(jié)晶潛熱的散發(fā),生長(zhǎng)出令人滿意的晶體。在通常情況下,在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中,坩堝中液面位置不斷下降,坩堝壁不斷的裸露出來(lái),由于裸露堝壁溫度很高,所以對(duì)晶體和熔體溫度的變化影響很大,晶體表面熱的發(fā)射效率,熔體液面上的發(fā)射效率強(qiáng)烈地依賴于裸壁高度,當(dāng)裸壁高度大到一定程度時(shí),晶體表面的發(fā)射效率甚至為負(fù)值,熔體表面的發(fā)射效率也大大下降,這樣對(duì)晶體生長(zhǎng)極為不利,而在石墨雙懸浮坩堝中,單坩堝直徑比較大,內(nèi)浮堝直徑比較小,可以忽略單坩堝壁對(duì)晶體生長(zhǎng)的影響,而兩只內(nèi)外浮堝的裸壁高度可以事先確定,并在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中始終保持不變, 這樣創(chuàng)造了了一個(gè)基本上處于恒定不便的熱場(chǎng),對(duì)于穩(wěn)定工藝參數(shù),保證產(chǎn)品質(zhì)量,提高產(chǎn)品的合格率是一個(gè)很大的突破。
      權(quán)利要求1. 一種石墨坩堝,其特征在于,它包括單坩堝、外浮堝、內(nèi)浮堝,所述外浮堝置于所述單坩堝內(nèi),所述 內(nèi)浮堝置于所述外浮堝內(nèi),所述外浮堝為石墨浮動(dòng)套筒。
      專利摘要本實(shí)用新型涉及一種石墨坩堝。它包括單坩堝、外浮堝、內(nèi)浮堝,所述外浮堝置于所述單坩堝內(nèi),所述內(nèi)浮堝置于所述外浮堝內(nèi),所述外浮堝是一種石墨浮動(dòng)套筒,外浮堝也可以裝料。本實(shí)用新型創(chuàng)造的有益效果在晶體生長(zhǎng)時(shí),兩只浮堝可以隨著熔體液面的高度而同步變化,因此,兩只浮堝的高度差在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中始終保持不變,有利于晶體生長(zhǎng)時(shí)的結(jié)晶潛熱的散發(fā),使熱場(chǎng)的穩(wěn)定性大為提高,雙懸浮坩堝集中了多種類型坩堝的優(yōu)點(diǎn),便于控制晶體的生長(zhǎng)。
      文檔編號(hào)C30B15/10GK202039155SQ201120105600
      公開(kāi)日2011年11月16日 申請(qǐng)日期2011年4月3日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月3日
      發(fā)明者彭軒 申請(qǐng)人:湖南省長(zhǎng)宇新型炭材料有限公司
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