防窺膜的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,設(shè)及一種防窺膜。
【背景技術(shù)】
[0002] 防窺膜采用獨(dú)步全球的超微細(xì)百葉窗(MICR0L0UVER)光學(xué)專利技術(shù),使巧幕顯示 出的資料專供使用者正面閱讀,可視區(qū)域是60度,任何人在兩側(cè)旁觀只能看到漆黑畫面。 有效保護(hù)商業(yè)機(jī)密和個(gè)人隱私,使用者可W在辦公室、旅途中、公共場(chǎng)所及任何環(huán)境下隨屯、 所欲使用電腦、手機(jī)等電子產(chǎn)品。
[0003] 傳統(tǒng)的防窺膜結(jié)構(gòu)如圖1所示,包括作為底層的PET層10',PET層上設(shè)置有樹脂 層20',樹脂層上設(shè)有若干列相互間隔的第一UV樹脂單元作為透射單元30',其中透射單 元的形狀可W是圖1中的長(zhǎng)方體也可W橫截面呈梯形,并且可W在各第一UV樹脂單元之間 設(shè)置第二UV樹脂單元作為吸收單元40 ',且第一UV樹脂單元的折射率不同于第二UV樹脂 單元的折射率。
[0004] 然而傳統(tǒng)的防窺膜結(jié)構(gòu)的棱柱頂部邊緣為直線形,往往會(huì)產(chǎn)生如下問題:1)防窺 膜結(jié)構(gòu)中具有的直線形邊緣結(jié)構(gòu)容易形成周期性條紋,從而在與顯示器搭配時(shí)容易產(chǎn)生 摩爾干設(shè)現(xiàn)象;2)傳統(tǒng)的防窺膜結(jié)構(gòu)中的透射單元為長(zhǎng)方體時(shí),使產(chǎn)品有嚴(yán)重的拉絲紋現(xiàn) 象,影響外觀;3)傳統(tǒng)的防窺膜結(jié)構(gòu)中的透射單元的截面為梯形時(shí),兩側(cè)腰部的界面容易 形成全反射,造成光透過率低,影響觀看效果。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005] 本發(fā)明的主要目的在于提供一種防窺膜,W解決現(xiàn)有技術(shù)中的防窺膜的外觀W及 屏幕的清晰度較差的問題。
[0006] 為了實(shí)現(xiàn)上述目的,根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,提供了一種防窺膜,包括基材層W及 設(shè)置于基材層表面上的透射層,透射層包括多個(gè)沿第一方向依次排列且沿第二方向延伸的 透射單元,第一方向和第二方向均平行于基材層的表面,透射單元的平行于第二方向的兩 個(gè)側(cè)壁的延伸面相交,相交形成的交線位于透射層的遠(yuǎn)離基材層的一側(cè),且透射單元遠(yuǎn)離 基材層的表面為非平面。
[0007] 進(jìn)一步地,防窺膜還包括吸收層,吸收層包括多個(gè)吸收單元,吸收單元設(shè)置在相鄰 透射單元之間,且透射層與吸收層形成防窺膜的遠(yuǎn)離基材層一側(cè)的表面。
[0008] 進(jìn)一步地,兩個(gè)側(cè)壁與垂直于基材層且與第二方向平行的任意截面之間的夾角大 于6°且小于等于15。。
[0009] 進(jìn)一步地,相鄰的一組透射單元和吸收單元在沿第一方向上的最小寬度大于 70μm。
[0010] 進(jìn)一步地,吸收單元在沿第一方向上的最小寬度大于6μm。
[0011] 進(jìn)一步地,透射層與吸收層形成與基材層平行且遠(yuǎn)離基材層的表面。
[0012] 進(jìn)一步地,非平面為波浪面,波浪面的凸起部與基材層的最大垂直距離為Hi,波浪 面的凹陷部與基材層的最小垂直距離為&。
[0013] 進(jìn)一步地,凹陷部和凸起部的形狀相同。
[0014] 進(jìn)一步地,Hi與Η2的差值小于20μm。
[0015] 進(jìn)一步地,非平面包括至少兩個(gè)平面段,各平面段與基材層的表面平行,且各平面 段與基材層之間的垂直距離并不相同。
[0016] 進(jìn)一步地,非平面包括沿第一方向依次相連的第一平面段、第二平面段和第Ξ平 面段,第二平面段與基材層的垂直距離大于第一平面段和第Ξ平面段與基材層的垂直距 離。
[0017] 進(jìn)一步地,弧面的曲率半徑為1~30μm。
[0018] 應(yīng)用本發(fā)明的技術(shù)方案,該防窺膜包括基材層W及設(shè)置于所述基材層表面上的透 射層,透射層包括多個(gè)依次排列的透射單元,由于透射單元具有兩個(gè)延伸面相交的傾斜側(cè) 壁,交線位于透射層的遠(yuǎn)離基材層的一側(cè),且透射單元遠(yuǎn)離基材層一側(cè)的表面為非平面,從 而不僅使得產(chǎn)品表面不易形成直線形的拉絲紋路,有效地降低了拉絲紋程度;而且,在將上 述防窺膜搭配顯示器時(shí),能夠降低產(chǎn)生摩爾干設(shè)的概率,有效地保證了防窺膜的外觀W及 屏幕的清晰度。
[0019] 除了上面所描述的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)之外,本發(fā)明還有其它的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)。 下面將參照?qǐng)D,對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
【附圖說明】
[0020] 構(gòu)成本發(fā)明的一部分的說明書附圖用來提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解,本發(fā)明的示 意性實(shí)施例及其說明用于解釋本發(fā)明,并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0021] 圖1示出了現(xiàn)有技術(shù)中的防窺膜的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0022] 圖2示出了本發(fā)明實(shí)施方式所提供的非平面為波浪面的防窺膜的局部示意圖;
[0023] 圖3示出了圖2所提供的防窺膜中A部分的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0024] 圖4示出了本發(fā)明實(shí)施方式所提供的非平面包括至少兩個(gè)平面段的防窺膜的示 意圖;
[00巧]圖5示出了本發(fā)明實(shí)施方式所提供的非平面為向遠(yuǎn)離基材層方向突起的弧面的 防窺膜的示意圖,其中吸收層未在圖中示出;W及
[00%] 圖6示出了圖5所提供的防窺膜中B部分的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0027] 需要說明的是,在不沖突的情況下,本發(fā)明中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可W相 互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例來詳細(xì)說明本發(fā)明。
[0028] 為了使本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好地理解本發(fā)明方案,下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的 附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是 本發(fā)明一部分的實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù) 人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都應(yīng)當(dāng)屬于本發(fā)明保護(hù)的范 圍。
[0029] 需要說明的是,本發(fā)明的說明書和權(quán)利要求書及上述附圖中的術(shù)語(yǔ)"第一"、"第 二"等是用于單元?jiǎng)e類似的對(duì)象,而不必用于描述特定的順序或先后次序。應(yīng)該理解運(yùn)樣使 用的數(shù)據(jù)在適當(dāng)情況下可W互換,W便運(yùn)里描述的本發(fā)明的實(shí)施例。此外,術(shù)語(yǔ)"包括"和 "具有及他們的任何變形,意圖在于覆蓋不排他的包含,例如,包含了一系列步驟或單元 的過程、方法、系統(tǒng)、產(chǎn)品或設(shè)備不必限于清楚地列出的那些步驟或單元,而是可包括沒有 清楚地列出的或?qū)τ谶\(yùn)些過程、方法、產(chǎn)品或設(shè)備固有的其它步驟或單元。
[0030] 正如【背景技術(shù)】中所介紹的,現(xiàn)有技術(shù)中的防窺膜結(jié)構(gòu)的棱柱頂部邊緣為直線形, 往往會(huì)產(chǎn)生問題,本發(fā)明的發(fā)明人針對(duì)上述問題進(jìn)行研究,提出了一種防窺膜,如圖2至6 所示,包括基材層10W及設(shè)置于基材層10表面上的透射層20,透射層20包括多個(gè)沿第一 方向依次排列且沿第二方向延伸的透射單元,第一方向和第二方向均平行于基材層10的 表面,透射單元的平行于第二方向的兩個(gè)側(cè)壁的延伸面相交,且相交形成的交線位于透射 層20的遠(yuǎn)離基材層10的一側(cè),透射單元遠(yuǎn)離基材層10的表面為非平面。
[0031] 上述防窺膜中由于透射單元具有兩個(gè)延伸面相交的傾斜側(cè)壁,交線位于透射層20 的遠(yuǎn)離基材層10的一側(cè),且透射單元遠(yuǎn)離基材層10 -側(cè)的表面為非平面,從而使得產(chǎn)品表 面不易形成直線形的拉絲紋路,有效地降低了拉絲紋程度,進(jìn)而在將上述防窺膜搭配顯示 器時(shí),能夠降低產(chǎn)生摩爾干設(shè)的概率,有效地保證了防窺膜的外觀W及屏幕的清晰度。
[0032] 在本發(fā)明上述防窺膜中,防窺膜還可W包括吸收層30,吸收層30包括多個(gè)吸收單 元,吸收單元設(shè)置在相鄰?fù)干鋯卧g。其中,透射單元包含