專利名稱：峭壁基部綠化帶構(gòu)造的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種綠化種植帶，更具體地說，尤其涉及一種峭壁基部綠化帶構(gòu)造。
背景技術(shù)：
石礦的開采，常伴隨著環(huán)境的破壞，樹木、植被的損毀，由于石礦開采過后，會(huì)在開采地形成峭壁，峭壁及其基部全都是石頭，無任何土壤，非常不利于植物的生長(zhǎng)，使得生活環(huán)境被嚴(yán)重破壞，影響生態(tài)平衡；這些場(chǎng)地如果不通過人為地改造，需要經(jīng)過相當(dāng)漫長(zhǎng)的時(shí)間，才能回復(fù)原樣，也許永遠(yuǎn)都無法復(fù)原，造成這些區(qū)域由于無植被，水土大量流失。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，方便實(shí)用，可快速恢復(fù)石場(chǎng)植被的峭壁基部綠化帶構(gòu)造。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的一種峭壁基部綠化帶構(gòu)造，包括地基，其中所述的地基上分布有立柱，在立柱外圍的地基上填充有土壤層，在立柱上端面上分布有面板，面板兩側(cè)的土壤層形成種植區(qū)。上述的峭壁基部綠化帶構(gòu)造中，所述的立柱的高度a為30 70cm，所述的土壤層厚度b為20 60cm。上述的峭壁基部綠化帶構(gòu)造中，所述的面板之間的間隙c為5 8mm。上述的峭壁基部綠化帶構(gòu)造中，所述的面板與土壤層的坡度i均為1 5%。上述的峭壁基部綠化帶構(gòu)造中，所述的種植區(qū)的寬度為20 50cm。本實(shí)用新型采用上述結(jié)構(gòu)后，通過在峭壁基部的地基上設(shè)置立柱，并在立柱外圍設(shè)置土壤層以及在立柱上端面設(shè)置用于供人行走的面板，使得面板兩邊形成種植區(qū)，在種植區(qū)內(nèi)可以種植各種植物，人們可以行走在面板上，不會(huì)影響植物的生長(zhǎng)；進(jìn)一步地，將面板及土壤層都設(shè)置一定坡度，可以實(shí)現(xiàn)自然排水，使多余的積水可以快速地排出；在面板之間設(shè)置縫隙，可以使面板上的積水快速地下滲，同時(shí)可以供土壤層通氣，保證土壤層上植物的生長(zhǎng)；本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、方便實(shí)用的優(yōu)點(diǎn)。
以下結(jié)合附圖中的實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明，但并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的任何限制。


圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是
圖1中A-A處的剖視圖；圖3是
圖1中B-B處的剖視圖；圖4是
圖1中C處的局部放大示意圖；圖5是本實(shí)用新型的使用狀態(tài)示意圖。[0016]圖中地基1、立柱2、土壤層3、面板4、種植區(qū)5、間隙6。
具體實(shí)施方式
參閱
圖1至圖5所示，本實(shí)用新型的一種峭壁基部綠化帶構(gòu)造，包括地基1，地基1 兩側(cè)均為峭壁，峭壁也可以單獨(dú)位于地基1的一側(cè)，在地基1上分布有立柱2，立柱2的高度a為30 70cm，立柱采用截面為240 360mm*240 360mm的方柱，方便固定，在立柱2 外圍的地基1上填充有土壤層3，土壤層3的厚度b為20 60cm，在立柱2上端面上分布有面板4，面板4可采用寬度為800 1000mm*800 1000mm，厚度為80-100的預(yù)制混凝土板或采用寬度為800 1000mm*800 1000mm，厚度為30 50mm的石板；在面板4與土壤層3表面之間形成10 20cm的間隙6，既方便透氣，又可以使植物在面板4下面的土壤層 3中生長(zhǎng)；為了方便排水及土壤通氣，在面板4之間預(yù)留有5 8mm的間隙；面板4兩側(cè)與峭壁之間的土壤層3形成種植區(qū)5，種植區(qū)5的寬度為20 50cm，面板4與土壤層3的坡度i均為1 5%，可以方便排水。具體實(shí)施時(shí)，選擇峭壁基部較為平緩區(qū)域，填充種植土形成土壤層3，然后在土壤層3上根據(jù)需要插入立柱2，立柱2周圍的土壤需要壓實(shí)用于固定立柱2，然后在立柱2上端面鋪設(shè)面板4，在面板4兩側(cè)的土壤層3上，即可種植各種植物，如小喬木、灌木、藤本植物或草本花木，根據(jù)實(shí)際情況選擇種植。
權(quán)利要求1.一種峭壁基部綠化帶構(gòu)造，包括地基(1 )，其特征在于，所述的地基(1)上分布有立柱(2)，在立柱(2)外圍的地基(1)上填充有土壤層(3)，在立柱(2)上端面上分布有面板 (4)，面板(4)兩側(cè)的土壤層(3)形成種植區(qū)(5)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的峭壁基部綠化帶構(gòu)造，其特征在于，所述的立柱(2)的高度a 為30 70cm，所述的土壤層(3)厚度b為20 60cm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的峭壁基部綠化帶構(gòu)造，其特征在于，所述的面板(4)與面板 (4)之間形成有間隙(6)，所述間隙(6)的寬度c為5 8mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一所述的峭壁基部綠化帶構(gòu)造，其特征在于，所述的面板(4) 與土壤層(3)的坡度i均為1 5%。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的峭壁基部綠化帶構(gòu)造，其特征在于，所述的種植區(qū)(5)的寬度 d 為 20 50cm。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種峭壁基部綠化帶構(gòu)造，屬于綠化種植技術(shù)領(lǐng)域，其技術(shù)要點(diǎn)包括地基，其中所述的地基上分布有立柱，在立柱外圍的地基上填充有土壤層，在立柱上端面上分布有面板，面板兩側(cè)的土壤層形成種植區(qū)；本實(shí)用新型旨在提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，方便實(shí)用，可快速恢復(fù)石場(chǎng)植被的峭壁基部綠化帶構(gòu)造；適用于石場(chǎng)內(nèi)一邊或兩邊為巖石峭壁區(qū)域的綠化。
文檔編號(hào)A01G1/00GK202099713SQ201120109669
公開日2012年1月4日 申請(qǐng)日期2011年4月14日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月14日
發(fā)明者譚廣文 申請(qǐng)人:廣州普邦園林股份有限公司