一種直線淋釉部件及采用該部件的淋釉的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種直線淋釉部件及采用該部件的淋釉機(jī)，包括直線淋釉上罩和直線淋釉下罩，直線淋釉上罩包括第一釉液緩沖池、第二釉液緩沖池和位于第一釉液緩沖池、第二釉液緩沖池之間的釉液緩沖擋板；該淋釉機(jī)包括入釉裝置和主體，主體上設(shè)置有上述直線淋釉部件。該直線淋釉部件在簡(jiǎn)化了現(xiàn)有的淋釉部件的同時(shí)，避免了現(xiàn)有的淋釉部件淋釉時(shí)施釉表面中間釉面薄兩側(cè)釉面厚現(xiàn)象的發(fā)生，同時(shí)也防止了邊緣波浪紋的產(chǎn)生，并且該直線淋釉部件與現(xiàn)有技術(shù)相比可以極大的節(jié)約釉料和淋釉加工的時(shí)間，因而更為節(jié)能環(huán)保。
【專利說明】一種直線淋釉部件及采用該部件的淋釉機(jī)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及瓷磚加工領(lǐng)域，具體涉及一種直線淋釉部件及采用該部件的淋釉 機(jī)。

【背景技術(shù)】
[0002] 在瓷磚加工領(lǐng)域淋釉機(jī)是一種十分常見的加工工具，主要用于為磚坯表面施底釉 及面釉。
[0003] 現(xiàn)有淋釉機(jī)的淋釉部件結(jié)構(gòu)復(fù)雜、操作不便，同時(shí)在長(zhǎng)時(shí)間使用后不易清洗，維護(hù) 成本也較高，并且目前淋釉機(jī)所普遍應(yīng)用的鐘罩式淋釉部件施釉效果不夠理想，經(jīng)常會(huì)出 現(xiàn)施釉表面中間釉面薄兩側(cè)釉面厚，且會(huì)產(chǎn)生邊緣波浪紋的現(xiàn)象。
[0004] 因此，如何簡(jiǎn)化淋釉機(jī)的淋釉部件，同時(shí)避免淋釉時(shí)施釉表面中間釉面薄兩側(cè)釉 面厚和產(chǎn)生邊緣波浪紋的現(xiàn)象發(fā)生，成為本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的技術(shù)問題。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0005] 本實(shí)用新型的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種直線淋釉部件及采用該部 件的淋釉機(jī)，該直線淋釉部件在簡(jiǎn)化了現(xiàn)有的淋釉部件的同時(shí)，避免了現(xiàn)有的淋釉部件淋 釉時(shí)施釉表面中間釉面薄兩側(cè)釉面厚現(xiàn)象的發(fā)生，同時(shí)也防止了邊緣波浪紋的產(chǎn)生，并且 該直線淋釉部件與現(xiàn)有技術(shù)相比可以極大的節(jié)約釉料和淋釉加工的時(shí)間，因而更為節(jié)能環(huán) 保。
[0006] 為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供以下技術(shù)方案：
[0007] -種直線淋釉部件，包括：
[0008] 依次連接的直線淋釉上罩和直線淋釉下罩，直線淋釉上罩包括第一釉液緩沖池、 第二釉液緩沖池和位于第一釉液緩沖池、第二釉液緩沖池之間的釉液緩沖擋板。
[0009] 一種采用該直線淋釉部件的淋釉機(jī)，包括：
[0010] 入釉裝置和主體，其中入釉裝置包括臂形支架、用于對(duì)臂形支架進(jìn)行定位的臂形 支架立柱及用于對(duì)臂形支架進(jìn)行調(diào)節(jié)的臂形支架調(diào)節(jié)裝置，臂形支架上設(shè)有上釉斗。主體 包括支架和直線淋釉部件，支架上設(shè)置有接釉盤調(diào)節(jié)裝置和直線淋釉部件調(diào)節(jié)裝置，接釉 盤調(diào)節(jié)裝置上設(shè)置有接釉盤，直線淋釉部件設(shè)置于直線淋釉部件調(diào)節(jié)裝置頂部；該直線淋 釉部件包括直線淋釉上罩和直線淋釉下罩，直線淋釉上罩設(shè)置于所述直線淋釉下罩之上， 并與直線淋釉下罩相貼和，直線淋釉上罩中設(shè)置有釉液緩沖擋板，釉液緩沖擋板將直線淋 釉上罩分為第一釉液緩沖池和第二釉液緩沖池。
[0011] 從上述技術(shù)方案可以看出，本實(shí)用新型提供的直線淋釉部件通過設(shè)置直線淋釉上 罩和直線淋釉下罩，取代了現(xiàn)有的鐘罩式淋釉機(jī)上復(fù)雜的淋釉部件，從而在簡(jiǎn)化了結(jié)構(gòu)使 得清洗和使用更加方便的同時(shí)降低了維護(hù)的成本，并且彌補(bǔ)了現(xiàn)有的鐘罩式淋釉部件在施 釉時(shí)釉面上會(huì)出現(xiàn)邊緣波浪紋的不足，進(jìn)而改善了施釉效果，該直線淋釉部件通過第一釉 液緩沖池、第二釉液緩沖池、釉液緩沖擋板及釉液溢流擋板的設(shè)置，可以對(duì)流入的釉液起到 很好的緩沖作用，進(jìn)而消除了釉液中的氣泡，并且可以使得出釉更為均勻，同時(shí)該直線淋釉 部件與現(xiàn)有技術(shù)相比可以極大地解決釉料和施釉時(shí)間，因此具有節(jié)能環(huán)保的優(yōu)點(diǎn)。
[0012] 本實(shí)用新型還提供一種采用該直線淋釉部件的淋釉機(jī)，由于該直線淋釉部件具有 上述技術(shù)效果，因此采用該直線淋釉部件的淋釉機(jī)也同樣具有上述技術(shù)效果。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0013] 此處所說明的附圖用來提供對(duì)本申請(qǐng)的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分，在這 些附圖中使用相同的參考標(biāo)號(hào)來表示相同或相似的部分，本申請(qǐng)的示意性實(shí)施例及其說明 用于解釋本申請(qǐng)，并構(gòu)成對(duì)本申請(qǐng)的不當(dāng)限定。在附圖中：
[0014] 圖1為直線淋釉部件的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015] 圖2為淋釉機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016] 圖3為直線淋釉部件的左視圖。
[0017] 圖4為直線淋釉上罩的俯視圖。
[0018] 其中：1、側(cè)導(dǎo)流板；2、釉液流出口；3、第二釉液緩沖池；4、釉液緩沖擋板；5、第一 釉液緩沖池；6、后擋板；7、下板；8、直線淋釉上罩；9、上罩導(dǎo)流側(cè)壁；10、釉液溢流擋板； 11、直線淋釉下罩；12、下罩導(dǎo)流板；13、臂形支架立柱；14、臂形支架調(diào)節(jié)裝置；15、臂形支 架；16、上釉斗；17、直線淋釉部件；18、接釉盤；19、接釉盤調(diào)節(jié)裝置；20、直線淋釉部件調(diào)節(jié) 裝置；21、支架；22、入釉裝置；23、主體。

【具體實(shí)施方式】
[0019] 為使本申請(qǐng)的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，以下結(jié)合附圖及具體實(shí)施例，對(duì)本 申請(qǐng)作進(jìn)一步地詳細(xì)說明。
[0020] 在以下描述中，對(duì)" 一個(gè)實(shí)施例"、"實(shí)施例"、" 一個(gè)示例"、"示例"等等的引用表明 如此描述的實(shí)施例或示例可以包括特定特征、結(jié)構(gòu)、特性、性質(zhì)、元素或限度，但并非每個(gè)實(shí) 施例或示例都必然包括特定特征、結(jié)構(gòu)、特性、性質(zhì)、元素或限度。另外，重復(fù)使用短語"根據(jù) 本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例"雖然有可能是指代相同實(shí)施例，但并非必然指代相同的實(shí)施例。
[0021] 為簡(jiǎn)單起見，以下描述中省略了本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的某些技術(shù)特征。
[0022] 請(qǐng)參閱圖1至圖4,圖1為該直線淋釉部件的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為采用該直線淋釉 部件的淋釉機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為該直線淋釉部件的左視圖；圖4為該直線淋釉部件的 直線淋釉上罩的俯視圖。
[0023] 根據(jù)本申請(qǐng)的一個(gè)實(shí)施例，提供一種直線淋釉部件，如圖1所示，包括直線淋釉上 罩8和直線淋釉下罩11，直線淋釉上罩8設(shè)置于所述直線淋釉下罩11之上，并與直線淋釉 下罩11相貼和，直線淋釉上罩8中設(shè)置有釉液緩沖擋板4,所述釉液緩沖擋板4將直線淋釉 上罩8分為第一釉液緩沖池5和第二釉液緩沖池3 ;該直線淋釉上罩8和直線淋釉下罩11 可以為不銹鋼或銅制成，這樣可以起到較好的防腐作用，并且表面光潔度也較高。
[0024] 該直線淋釉部件的直線淋釉上罩8底部可以設(shè)置有下板7,該下板7的前端即釉液 流出一端可以為直線形結(jié)構(gòu)，該下板7的后端即釉液流入一端可以為直線形結(jié)構(gòu)，也可以 為圓弧形結(jié)構(gòu)，還可以為折線形結(jié)構(gòu)。
[0025] 為進(jìn)一步滿足客戶需要，直線淋釉上罩8兩側(cè)可以設(shè)置有上罩導(dǎo)流側(cè)壁9,直線淋 釉上罩8后端可以設(shè)置有后擋板6,直線淋釉上罩8前端可以設(shè)置有釉液溢流擋板10,該釉 液溢流擋板10、后擋板6、上罩導(dǎo)流側(cè)壁9及釉液緩沖擋板4均設(shè)置在所述下板7之上，釉 液溢流擋板10底部設(shè)置有長(zhǎng)方形凹口狀結(jié)構(gòu)的釉液流出口 2,該釉液流出口 2的高度可以 為50mm,下板7為設(shè)有一處彎折的板狀結(jié)構(gòu)；釉液由上釉斗16中流入第一釉液緩沖池5,并 在第一釉液緩沖池5中，當(dāng)油液填滿第一釉液緩沖池5后就會(huì)沿釉液緩沖擋板4流入第二 釉液緩沖池3,并從第二釉液緩沖池3底部的釉液流出口 2均勻的流出，這個(gè)過程可以很好 的消除釉液流入時(shí)產(chǎn)生的氣泡，進(jìn)而改善施釉效果。
[0026] 如圖4所示，該直線淋釉部件的后擋板6和上罩導(dǎo)流側(cè)壁9的高度均高于釉液緩 沖擋板4的高度，釉液緩沖擋板4的高度高于釉液溢流擋板10的高度。
[0027] 該直線淋釉部件的直線淋釉下罩11兩側(cè)設(shè)置有側(cè)導(dǎo)流板1 ;直線淋釉下罩11的 下罩導(dǎo)流板12表面可以采用靜電拋光處理，這樣可以使釉液流出得更加均勻，且不會(huì)產(chǎn)生 氣泡；該直線淋釉下罩11的前后兩段均可以設(shè)有向下彎曲90度的圓弧形結(jié)構(gòu)，其中該直線 淋釉下罩11前端的圓弧形結(jié)構(gòu)的半徑可以為50至300mm。
[0028] 本實(shí)用新型還提供一種淋釉機(jī)，如圖2所示，包括入釉裝置22和主體23,主體23 上設(shè)置有上述任意一項(xiàng)所述的直線淋釉部件，因?yàn)樯鲜鲋本€淋釉部件具有上述技術(shù)效果， 因此采用上述直線淋釉部件的淋釉機(jī)也具有上述技術(shù)效果。
[0029] 該淋釉機(jī)的入釉裝置22包括臂形支架立柱13,臂形支架立柱13上設(shè)置有臂形支 架調(diào)節(jié)裝置14,臂形支架調(diào)節(jié)裝置14上設(shè)置有臂形支架15,臂形支架15上懸掛有上釉斗 16,通過調(diào)節(jié)臂形支架調(diào)節(jié)裝置14可以改變上釉斗16懸掛的高度，進(jìn)而可以找到最佳的入 釉位置。
[0030] 該淋釉機(jī)的主體23包括支架21和直線淋釉部件17 ;支架21上設(shè)置有接釉盤調(diào) 節(jié)裝置19和直線淋釉部件調(diào)節(jié)裝置20,接釉盤調(diào)節(jié)裝置19上設(shè)置有接釉盤18,直線淋釉 部件17設(shè)置于所述直線淋釉部件調(diào)節(jié)裝置20頂部，通過調(diào)整直線淋釉部件調(diào)節(jié)裝置20,可 以改變直線淋釉部件17的高度，通過調(diào)整接釉盤調(diào)節(jié)裝置19可以進(jìn)一步調(diào)整接釉盤18的 高度，通過調(diào)整直線淋釉部件17和接釉盤18的高度以找到最佳的淋釉位置。
[0031] 以上所述實(shí)施例僅表示本實(shí)用新型的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但 并不能理解為對(duì)本實(shí)用新型范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說， 在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型 保護(hù)范圍。因此本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)該以所述權(quán)利要求為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1. 一種直線淋釉部件，其特征在于：包括直線淋釉上罩（8)和直線淋釉下罩（11)，所 述直線淋釉上罩（8)包括第一釉液緩沖池（5)、第二釉液緩沖池（3)和位于第一釉液緩沖池 (5 )、第二釉液緩沖池（3 )之間的釉液緩沖擋板（4 )。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的直線淋釉部件，其特征在于：所述直線淋釉上罩（8)包括下板 (7)、位于下板（7)上的上罩導(dǎo)流側(cè)壁（9)、后擋板（6)，及釉液溢流擋板（10)，所述釉液溢流 擋板（10)底部設(shè)置有釉液流出口（2)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的直線淋釉部件，其特征在于：所述釉液流出口（2)為長(zhǎng)方形凹 口狀結(jié)構(gòu)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的直線淋釉部件，其特征在于：所述后擋板（6)和所述上罩導(dǎo)流 側(cè)壁（9)的高度均高于所述釉液緩沖擋板（4)的高度，所述釉液緩沖擋板（4)的高度高于所 述釉液溢流擋板（10 )的高度。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的直線淋釉部件，其特征在于：所述直線淋釉下罩（11)兩側(cè)設(shè) 置有側(cè)導(dǎo)流板（1)。
6. -種淋釉機(jī)，其特征在于：包括入釉裝置（22)和主體（23)，所述主體（23)上包含有 如權(quán)利要求1至5中任一所述的直線淋釉部件。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的淋釉機(jī)，其特征在于：所述入釉裝置（22)包括臂形支架 (15)、用于對(duì)臂形支架（15)進(jìn)行定位的臂形支架立柱（13)及用于對(duì)臂形支架（15)進(jìn)行調(diào) 節(jié)的臂形支架調(diào)節(jié)裝置（14)，所述臂形支架（15)上設(shè)有上釉斗（16)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的淋釉機(jī)，其特征在于：所述主體（23)包括直線淋釉部件 (17)、用來固定直線淋釉部件（17)的支架（21)及設(shè)置于所述直線淋釉部件（17)下方的接 釉盤（18 );所述支架（21)上設(shè)置有接釉盤調(diào)節(jié)裝置（19 )和直線淋釉部件調(diào)節(jié)裝置（20 )，所 述接釉盤調(diào)節(jié)裝置（19)與所述接釉盤（18)相連接，所述直線淋釉部件（17)設(shè)置于所述直 線淋釉部件調(diào)節(jié)裝置（20 )頂部。
【文檔編號(hào)】C04B41/86GK203999392SQ201420357295
【公開日】2014年12月10日 申請(qǐng)日期:2014年7月1日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月1日
【發(fā)明者】李小成, 周超 申請(qǐng)人:四川漢莫尼機(jī)械設(shè)備有限公司