專利名稱：用于密封熱處理裝置的機(jī)械手裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種機(jī)械手裝置，尤其涉及一種用于密封材料熱處理裝置的機(jī)械手裝置。
背景技術(shù)：
在大多數(shù)的平板顯示設(shè)備的生產(chǎn)過(guò)程中，基本上都需要使用到熱處理裝置。對(duì)于 這些熱處理裝置，目前現(xiàn)有的密封材熱處理裝置的構(gòu)造如圖1所示，在框架11的底部設(shè)置 有加熱裝置14，在加熱裝置14的上面依次以一定間隔放置多層放置基板用的裝載層12，相 應(yīng)地，在框架11的一側(cè)設(shè)置有和所述裝載層12相對(duì)應(yīng)的可控門13，所述可控門13為取放 基板用的縫隙狀的開口 ，所述基板通過(guò)機(jī)械手裝置放入和取出，基板在熱處理裝置中水平 放置，被規(guī)定溫度的熱風(fēng)包裹，通過(guò)熱風(fēng)進(jìn)行相應(yīng)的熱處理，也稱為燒成。在框架11的另一 側(cè)設(shè)置有過(guò)濾網(wǎng)10。 由于基板是水平放置，機(jī)械手裝置取拿基板時(shí)受到其自身重量的影響，機(jī)械手會(huì) 出現(xiàn)彎曲，所以大部分現(xiàn)有技術(shù)的熱處理裝置，預(yù)測(cè)到機(jī)械手裝置的彎曲，基板和基板之間 的間距一般都不會(huì)很小，通常在70毫米到150毫米左右。近幾年來(lái)，伴隨著平板顯示器件 的大型化，作為被加熱物的基板也有進(jìn)一步大型化的趨勢(shì)，這勢(shì)必造成基板的重量更重，機(jī) 械手的長(zhǎng)度也更長(zhǎng)，導(dǎo)致機(jī)械手的撓度和厚度都顯著增大?；搴突逯g的間隔也就必 須變得更大，從而帶來(lái)了熱處理裝置大型化的問(wèn)題。 通常，平板顯示器是在凈化房?jī)?nèi)進(jìn)行生產(chǎn)的，所以，一旦裝置大型化，則相應(yīng)會(huì)帶 來(lái)凈化房高度的增加，引起凈化房整體的運(yùn)行成本上升。如果保持凈化房高度不變，則需要 降低裝載層的層數(shù)，擴(kuò)大裝載層之間的間隔的結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致熱處理裝置的熱處理效率降低。
為了解決上述問(wèn)題，公開號(hào)為CN1967118的中國(guó)專利公開了一種熱處理裝置，能 夠高密度加載被加熱物，進(jìn)行熱處理，但是該裝置為了防止基板變形，同時(shí)要承受較大重 量，需要的滑動(dòng)機(jī)構(gòu)數(shù)量和支撐腳比較多，增加了設(shè)備復(fù)雜性，且基板入口處的滑動(dòng)機(jī)構(gòu)會(huì) 影響到基板的放入，會(huì)降低節(jié)拍，影響熱處理效率；而設(shè)置支撐腳處的基板顯示區(qū)內(nèi)，由于 熱容的不同，容易出現(xiàn)顯示不均現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種用于密封熱處理裝置的機(jī)械手裝置，結(jié)構(gòu)
簡(jiǎn)單，能夠高密度的裝載被加熱物，便于熱處理裝置大型化且不降低熱處理效率。 本發(fā)明為解決上述技術(shù)問(wèn)題而采用的技術(shù)方案是提供一種用于密封熱處理裝置的機(jī)械手裝置，所述密封熱處理裝置包括多層放置基板用的裝載層，加熱器，用于固定裝載 層和加熱器的框架，所述裝載層的左右兩側(cè)和底部設(shè)置有金屬夾，對(duì)每個(gè)裝載層，所述框架 上設(shè)置有相對(duì)應(yīng)的可控門，所述加熱器設(shè)置在框架底部，所述可控門設(shè)置在框架的頂端，所 述基板及裝載層在框架內(nèi)豎直放置，其中，所述機(jī)械手裝置包括兩根水平放置的平行導(dǎo)軌， 所述導(dǎo)軌位于熱處理裝置的前后兩側(cè)，所述平行導(dǎo)軌上豎立有兩個(gè)可以移動(dòng)的機(jī)械手，所 述機(jī)械手上設(shè)置有滑槽及可以沿所述滑槽上下移動(dòng)的支撐板，所述支撐板的末端設(shè)置有旋 轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)，所述支撐板上設(shè)置有真空吸附孔。 上述機(jī)械手裝置中，所述金屬夾的內(nèi)側(cè)可襯有耐高溫橡膠。 上述機(jī)械手裝置中，所述密封熱處理裝置的左右底側(cè)可設(shè)置有熱風(fēng)循環(huán)泵。
本發(fā)明對(duì)比現(xiàn)有技術(shù)有如下的有益效果本發(fā)明提供的熱處理裝置通過(guò)在其頂端
位置設(shè)置取放基板用的可控門，在設(shè)備內(nèi)部對(duì)應(yīng)地以一定間隔裝載多層基板，基板及裝載
層在熱處理裝置內(nèi)采用豎直放置方式，基板的支撐主要在左右兩側(cè)，基本不承受基板重量，
數(shù)量可以很少，因此，本發(fā)明的熱處理裝置結(jié)構(gòu)相對(duì)簡(jiǎn)單；其次，本發(fā)明可控門位于頂端位
置而基板的支撐主要在左右兩側(cè)，支撐機(jī)構(gòu)不影響基板的放入，不影響熱處理效率；最后，
由于基板顯示區(qū)內(nèi)無(wú)任何支撐機(jī)構(gòu)，不容易出現(xiàn)顯示不均現(xiàn)象。此外，由于機(jī)械手是豎直將
基板放入裝載層，所以重力方向和基板的放入方向平行，因此，不會(huì)因?yàn)榛宓闹亓υ斐蓹C(jī)
械手的翹曲，所以機(jī)械手的厚度也不需要太厚，有利于降低裝載層的間隔距離，從而能夠高
密度的裝載被加熱物，便于熱處理裝置大型化且不降低熱處理效率。


圖1是現(xiàn)有的密封熱處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本發(fā)明的密封熱處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是本發(fā)明的密封熱處理裝置及機(jī)械手裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4是本發(fā)明實(shí)施例的裝載層內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5是本發(fā)明實(shí)施例中的循環(huán)風(fēng)向示意圖。
圖6是光刻墊料在彩膜基板上的位置示意圖。
圖7是重力不均原理說(shuō)明圖。圖中，10過(guò)濾網(wǎng)11框架12裝載層13可控門14加熱器20密封熱處理裝置21框架22裝載層23可控門24加熱器25機(jī)械手裝置251導(dǎo)軌252機(jī)械手253滑槽26支撐板261真空吸附孔27驅(qū)動(dòng)馬達(dá)28金屬夾29熱風(fēng)循環(huán)泵30基板31遮光層32光刻墊料
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的描述。
圖2是密封熱處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，圖3是本發(fā)明的密封熱處理裝置及機(jī)械手 裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。 請(qǐng)參考圖2和圖3，密封熱處理裝置20包括多層放置基板30用的裝載層22，加熱 器24，用于固定裝載層22和加熱器24的框架21，以及用于取放基板30的機(jī)械手裝置25， 所述框架21內(nèi)由金屬格分割成多個(gè)裝載層22，所述機(jī)械手裝置25包括兩根水平放置的平 行導(dǎo)軌251，所述導(dǎo)軌251位于熱處理裝置20的前后兩側(cè)，所述平行導(dǎo)軌251上豎立有兩個(gè) 可以移動(dòng)的機(jī)械手252，所述機(jī)械手252上可設(shè)置有滑槽253及可以沿所述滑槽253上下 移動(dòng)的支撐板26，所述支撐板26的末端設(shè)置有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)27，所述支撐板26上可設(shè)置 有真空吸附孔261。對(duì)每個(gè)裝載層22，所述框架21上設(shè)置有相對(duì)應(yīng)的可控門23，所述加熱 器24設(shè)置在框架21底部，其中所述可控門23設(shè)置在框架21的頂端，所述基板30及裝載 層22在框架21內(nèi)豎直放置。 圖4是本發(fā)明實(shí)施例的裝載層內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。 請(qǐng)參照?qǐng)D4，所述裝載層22的左右兩側(cè)和底部可設(shè)置有金屬夾28。所述金屬夾28 的內(nèi)側(cè)可襯有耐高溫橡膠。當(dāng)基板30豎直放入此裝載層22后，各個(gè)金屬夾28閉合，由于 金屬夾28的內(nèi)側(cè)襯有橡膠，所以不容易造成基板30的破碎。同時(shí)由于金屬夾28夾取的位 置是基板30的周邊，所以不會(huì)在基板30的顯示區(qū)域造成相應(yīng)的顯示不均。由于基板30是 豎直放置，所以不容易因?yàn)橹亓υ斐苫?0彎曲。然后機(jī)械手裝置25上的真空關(guān)閉，機(jī)械 手252移出。由于機(jī)械手252是豎直將基板30放入裝載層22，所以重力方向和基板30的 放入方向平行，所以不會(huì)因?yàn)榛?0的重力造成機(jī)械手252的翹曲，所以機(jī)械手252的厚 度也不需要太厚，這些都非常有利于降低裝載層22的間隔距離。
初步估算裝載層22的厚度可以降低為 玻璃基板厚度+機(jī)械手對(duì)位精度+機(jī)械手本身厚度+運(yùn)轉(zhuǎn)盈余度 大約為30毫米到40毫米之間，也就是說(shuō)本發(fā)明的裝載密度大約是通常設(shè)備的2
倍以上。可高密度的裝載加熱物。 圖5是本發(fā)明實(shí)施例中的循環(huán)風(fēng)向示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D5，在框架21的底側(cè)設(shè)置有 加熱器24，在框架21的左右底側(cè)設(shè)置有熱風(fēng)循環(huán)泵29，最終得到如圖5所示的循環(huán)風(fēng)向。
另外，請(qǐng)參照?qǐng)D6，在LCD顯示器件的制造工藝上，特別是大型液晶顯示器件，通常 在彩膜基板40的遮光層41上制作光刻墊料42來(lái)維持液晶盒的盒厚，得到的顯示器件對(duì)比 度較高，顯示效果較好，但是光刻墊料42的使用，也帶來(lái)了其他的問(wèn)題，最常出現(xiàn)的是重力 不均現(xiàn)象，特別是在大型的顯示器件上。重力不均出現(xiàn)的原理請(qǐng)參照?qǐng)D7 :當(dāng)顯示器件豎直 放置，特別是豎直放置同時(shí)受高溫處理時(shí)，液晶體積膨脹，在重力作用下，液晶向顯示器件 的下方移動(dòng)，造成底部液晶量偏多，從而底部的盒厚偏大，當(dāng)偏大到一定程度時(shí)，這種顯示 不均就會(huì)表現(xiàn)出來(lái)。針對(duì)這個(gè)問(wèn)題，一般都是通過(guò)精確的液晶滴下量來(lái)防止，但是確認(rèn)液晶 滴下量是否合適，需要配置其他相應(yīng)的設(shè)備，造成設(shè)備投資額增加。而本發(fā)明的熱處理裝置 由于將基板30在熱處理裝置內(nèi)豎直放置，所以在進(jìn)行熱處理的同時(shí)，如果液晶量有問(wèn)題， 在基板30取出時(shí)，是非常容易看出來(lái)的。所以不需要額外購(gòu)買新的設(shè)備。
根據(jù)垂直放入密封熱處理裝置的需求，可對(duì)機(jī)械手裝置25進(jìn)行一定的改造，請(qǐng)繼 續(xù)參考圖7，首先在框架21的左右兩側(cè)設(shè)置有機(jī)械手252的移動(dòng)導(dǎo)軌251，對(duì)應(yīng)這兩個(gè)導(dǎo)軌 251的是兩個(gè)機(jī)械手252，其可以沿框架21兩邊的導(dǎo)軌251進(jìn)行移動(dòng)，從而將基板30放入各個(gè)裝載層22當(dāng)中。在兩個(gè)機(jī)械手253中間的是基板30的支撐板26，其上方設(shè)置有真空 吸附孔261，其和真空動(dòng)力源相連接，在取基板30時(shí)，真空吸附孔261的真空狀態(tài)為0n，在 放下所搭載基板30時(shí)，真空吸附孔261的吸附狀態(tài)為Off 。支撐板26可以沿兩機(jī)械手252 之間的滑槽253上下移動(dòng)，而改變其高度；同時(shí)支撐板26的末端設(shè)置有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)27， 可以使支撐板26由水平狀態(tài)變?yōu)榇怪睜顟B(tài)，從而完成將基板30豎直放入密封材熱硬化裝 置的要求。 本發(fā)明的硬化熱處理裝置的實(shí)際工作過(guò)程可以簡(jiǎn)單描述如下 首先機(jī)械手裝置25的支撐板26為水平狀態(tài)，通過(guò)框架21兩側(cè)的導(dǎo)軌251移動(dòng)到
上一道工序設(shè)備附近，通過(guò)機(jī)械手252將基板30放置于支撐板26上；支撐板26通過(guò)導(dǎo)軌
22移動(dòng)到目標(biāo)裝載層22，支撐板26上升，同時(shí)由水平狀態(tài)變?yōu)樨Q直狀態(tài)；然后相應(yīng)裝載層
22的可控門23打開，支撐板26攜帶基板30進(jìn)入裝載層22 ;裝載層22內(nèi)的金屬夾具29關(guān)
閉，基板30被固定，支撐板26移出，裝載層22的可控門23關(guān)閉。 循環(huán)上述流程可以完成制品的生產(chǎn)。 雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭示如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域技 術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的修改和完善，因此本發(fā)明的保護(hù)范 圍當(dāng)以權(quán)利要求書所界定的為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
一種用于密封熱處理裝置的機(jī)械手裝置，所述密封熱處理裝置包括多層放置基板用的裝載層，加熱器，用于固定裝載層和加熱器的框架，所述裝載層的左右兩側(cè)和底部設(shè)置有金屬夾，對(duì)每個(gè)裝載層，所述框架上設(shè)置有相對(duì)應(yīng)的可控門，所述加熱器設(shè)置在框架底部，所述可控門設(shè)置在框架的頂端，所述基板及裝載層在框架內(nèi)豎直放置，其特征在于，所述機(jī)械手裝置包括兩根水平放置的平行導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌位于熱處理裝置的前后兩側(cè)，所述平行導(dǎo)軌上豎立有兩個(gè)可以移動(dòng)的機(jī)械手，所述機(jī)械手上設(shè)置有滑槽及可以沿所述滑槽上下移動(dòng)的支撐板，所述支撐板的末端設(shè)置有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)，所述支撐板上設(shè)置有真空吸附孔。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械手裝置，其特征在于，所述金屬夾的內(nèi)側(cè)襯有耐高溫橡膠。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械手裝置，其特征在于，所述密封熱處理裝置的左右底側(cè) 設(shè)置有熱風(fēng)循環(huán)泵。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于密封熱處理裝置的機(jī)械手裝置，所述熱處理裝置包括多層放置基板用的裝載層，每個(gè)裝載層頂端設(shè)置有相對(duì)應(yīng)的可控門，用于裝載被加熱物，所述機(jī)械手裝置包括兩根水平放置的平行導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌位于熱處理裝置的前后兩側(cè)，所述平行導(dǎo)軌上豎立有兩個(gè)可以移動(dòng)的機(jī)械手，所述機(jī)械手上設(shè)置有滑槽及可以沿所述滑槽上下移動(dòng)的支撐板，所述支撐板的末端設(shè)置有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)，所述支撐板上設(shè)置有真空吸附孔。本發(fā)明提供的用于密封熱處理裝置的機(jī)械手裝置，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，能夠高密度的裝載被加熱物，便于熱處理裝置大型化且不降低熱處理效率。
文檔編號(hào)B25J15/08GK101712154SQ20091017826
公開日2010年5月26日 申請(qǐng)日期2008年9月5日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月5日
發(fā)明者徐亮 申請(qǐng)人:上海廣電光電子有限公司