專利名稱：微透鏡基板及其制造方法、及其應用的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及微透鏡基板的制造方法、微透鏡基板、液晶面板用對置基板、液晶面板及投射型顯示裝置。
背景技術：
公知一種在屏幕上投影圖像的投射型顯示裝置。
在這種投射型顯示裝置中，在其圖像形成中主要使用液晶面板(液晶光閘)。
該液晶面板，例如是將液晶驅動基板(TFT基板)和液晶面板用對置基板經由液晶層接合而構成，所述液晶驅動基板具有控制各像素的薄膜晶體管(TFT)和像素電極；所述液晶面板用對置基板具有黑矩陣或公共電極等。
在具有這樣結構的液晶面板(TFT液晶面板)中，由于在液晶面板用對置基板的成為圖像的部分之外的地方形成有黑矩陣，所以透過液晶面板的光的區(qū)域受到限制。因此，導致光的透過率下降。
為了提高該光的透過率，公知的是在液晶面板用對置基板上與各像素對應的位置處，設置多個微小的微透鏡。由此，透過液晶面板用對置基板的光會在形成于黑矩陣上的開口處進行聚光，從而提高了光的透過率。
作為形成這樣的微透鏡的方法，公知的有下述方法，例如，對具有多個微透鏡形成用凹部的帶凹部基板，供給未固化的光固化性樹脂，并接合平滑的透明基板(玻璃蓋片)，在按壓、粘結之后，使樹脂固化，即所謂的2P法(例如，參照專利文獻1)。
但是，由于在該技術中使用樹脂材料來形成微透鏡基板，所以要得到具有足夠的耐久性的微透鏡基板是很困難的。特別是，由于在2P法中所使用的光固化性樹脂，通過短波長的光容易產生樹脂材料的劣化等，所以，有時不能得到足夠的耐光性。而且，由于使用了由光固化性樹脂構成的樹脂層、玻璃蓋片和帶凹部基板這3個部件來形成微透鏡基板，所以，由于熱膨脹率的不同，很容易產生形變等，其結果，有產生光學特性等的特性低下的可能性。例如，需要進行玻璃蓋片的對位等工序，使得制造工序繁雜。而且，當為了形成最佳光路長度而進行玻璃蓋片的研磨時，會由于研磨而有污染等之虞，所以還需要過度的洗滌工序，通過進行這樣的洗滌，可能會產生構成樹脂層的樹脂材料的劣化等。其結果，導致質量低下，有產生成品率低下的可能性。
(專利文獻1)特開2001-92365號公報。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于，提供能夠容易地制造光學特性和耐久性優(yōu)越的微透鏡基板的微透鏡基板制造方法、微透鏡基板、液晶面板用對置基板、液晶面板和投射型顯示裝置。
這樣的目的可以通過下述的本發(fā)明而實現。
本發(fā)明的微透鏡基板的制造方法，是具有多個微透鏡的微透鏡基板的制造方法，其特征在于，具有在加熱的狀態(tài)下對帶凹部基板和基體材料進行壓焊的壓焊工序，所述帶凹部基板在表面上具有與所述微透鏡的形狀對應的形狀的多個凹部，所述基體材料由?；瘻囟缺葮嫵伤鰩О疾炕宓牟牧系牟；瘻囟鹊偷牟ＡР牧蠘嫵?，在所述壓焊工序中，將所述玻璃材料填充到所述凹部內，并接合所述帶凹部基板和所述基體材料。
由此，能夠容易地制造光學特性和耐久性優(yōu)越的微透鏡基板。
在本發(fā)明的微透鏡基板的制造方法中，優(yōu)選所述帶凹部基板的折射率與所述玻璃材料的折射率之差的絕對值為0.01以上。
由此，能夠使微透鏡的光學特性更加適當。
在本發(fā)明的微透鏡基板的制造方法中，所述加熱優(yōu)選在所述玻璃材料的玻化溫度以上、構成所述帶凹部基板的材料的?；瘻囟纫韵碌臏囟认逻M行。
由此，在將構成基體材料的玻璃材料填充到凹部內時，能夠充分防止對凹部造成損傷，并且，可以更加確切地將玻璃材料填充到凹部內。
在本發(fā)明的微透鏡基板的制造方法中，當將所述玻璃材料的?；瘻囟仍O為Tg1[℃]，將構成所述帶凹部基板的材料的玻化溫度設為Tg2[℃]時，優(yōu)選滿足Tg2-Tg1≥50的關系。
由此，在將構成基體材料的玻璃材料填充到凹部內時，能夠充分防止對凹部造成損傷，并且，可以更加確切地將玻璃材料填充到凹部內。
在本發(fā)明的微透鏡基板的制造方法中，所述壓焊優(yōu)選在減壓氣氛下進行。
由此，在將玻璃材料填充到凹部內時，可以防止對帶凹部基板的凹部造成損傷，并且，防止了在填充到凹部內的玻璃材料中進入氣泡，從而能夠將玻璃材料更加確切地填充到凹部內。
在本發(fā)明的微透鏡基板的制造方法中，當將所述壓焊工序前的所述基體材料的厚度設為T1[mm]，將所述壓焊工序后的從所述基體材料與所述帶凹部基板的接合面的平坦部，到與所述接合面相反一側的面的厚度設為T2[mm]時，優(yōu)選滿足0.5≤T2/T1≤0.95的關系。
由此，能夠防止對帶凹部基板的凹部造成損傷，并且，可以更加確切地將玻璃材料填充到凹部內。
本發(fā)明的微透鏡基板，其特征在于，通過本發(fā)明的方法而制造。
由此，能夠提供耐久性優(yōu)越的微透鏡基板。
本發(fā)明的液晶面板用對置基板，其特征在于，具備本發(fā)明的微透鏡基板。
由此，能夠提供耐久性優(yōu)越的液晶面板用對置基板。
本發(fā)明的液晶面板，其特征在于，具備本發(fā)明的液晶面板用對置基板。
由此，能夠提供耐久性優(yōu)越的液晶面板。
本發(fā)明的液晶面板，其特征在于，具有具備像素電極的液晶驅動基板、與該液晶驅動基板接合的本發(fā)明的液晶面板用對置基板、封入在所述液晶驅動基板和所述液晶面板用對置基板的空隙的液晶。
由此，能夠提供耐久性優(yōu)越的液晶面板。
在本發(fā)明的液晶面板中，所述液晶驅動基板優(yōu)選是具有以矩陣狀配設的所述像素電極和與所述像素電極連接的薄膜晶體管的TFT基板。
由此，能夠提供耐久性優(yōu)越的液晶面板。
本發(fā)明的投射型顯示裝置，其特征在于，包括具備本發(fā)明的液晶面板的光閥，使用至少一個該光閥來投射圖像。
由此，能夠提供耐久性優(yōu)越的投射型顯示裝置。


圖1是表示本發(fā)明的液晶面板用對置基板的模式縱剖視圖。
圖2是表示構成本發(fā)明微透鏡基板的帶凹部基板的制造方法的模式縱剖視圖。
圖3是表示本發(fā)明的微透鏡基板制造方法的模式縱剖視圖。
圖4是表示本發(fā)明的液晶面板用對置基板的制造方法的模式縱剖視圖。
圖5是表示本發(fā)明的液晶面板的模式縱剖視圖。
圖6是模式化表示本發(fā)明的投射型顯示裝置的光學系統(tǒng)的圖。
圖中1一液晶面板用對置基板，101-帶凹部基板，102-透鏡層，102’-玻璃基板，103-平坦部，3-凹部，5-玻璃基板，6-掩模，6’-掩模形成用膜，61-初期孔，8-微透鏡，10-微透鏡基板，11-黑矩陣，111-開口，12-透明導電膜，16-液晶面板，17-TFT基板，171-玻璃基板，172-像素電極，173-薄膜晶體管，18-液晶層，70-光學塊，71-二向棱鏡，711、712-分色鏡面，713～715-面，716-射出面，72-投射透鏡，73-顯示單元，74～76-液晶光閥，300-投射型顯示裝置，301-光源，302、303-積分透鏡，304、306、309-反射鏡，305、307、308-分色鏡，310～314-聚光透鏡，320-屏幕。
具體實施例方式
下面，參照附圖所示的最佳實施方式來詳細說明本發(fā)明。
圖1是表示本發(fā)明的液晶面板用對置基板的模式縱剖視圖，圖2是表示構成本發(fā)明的微透鏡基板的帶凹部基板的制造方法的模式縱剖視圖，圖3是表示本發(fā)明的微透鏡基板的制造方法的模式縱剖視圖。
首先，對本發(fā)明的液晶面板用對置基板進行說明。
如圖1所示，液晶面板用對置基板1具有微透鏡基板10、形成在該微透鏡基板10上并具有多個(多數個)開口111的黑矩陣11、在該微透鏡基板10上以覆蓋黑矩陣11的方式而形成的透明導電膜12。
如圖1所示，微透鏡基板10由帶凹部基板101和主要由玻璃材料構成的透鏡層102構成。
另外，帶凹部基板101由表面上形成有多個凹部(微透鏡用凹部)3的玻璃基板5構成。而且，在透鏡層102中，通過在帶凹部基板101的凹部3中填充的玻璃材料，形成了微透鏡8。
構成帶凹部基板101的玻璃的折射率與構成透鏡層102的玻璃材料的折射率之差的絕對值優(yōu)選為0.01以上，更優(yōu)選為0.10以上。由此，能夠使微透鏡8的光學特性更加適當。另外，關于帶凹部基板101和透鏡層102的構成材料，將在后面進行詳細敘述。
在該液晶面板用對置基板1中，具有遮光功能的黑矩陣11設置成與微透鏡8的位置對應。具體而言，黑矩陣11被設置成微透鏡8的光軸Q通過在黑矩陣11上形成的開口111。因此，在液晶面板用對置基板1中，從與黑矩陣11對置的面入射的入射光L，會在微透鏡8處聚光，然后通過黑矩陣11的開口111。另外，透明導電膜12是具有透明性的電極，可以透過光。因此，在入射光L從液晶面板用對置基板1透過之際，能夠防止光量的大幅度衰減。即，液晶面板用對置基板1具有高的光透過率。
在該液晶面板用對置基板1中，1個微透鏡8和黑矩陣11的1個開口111對應于1個像素。
另外，帶凹部基板101也可以具有例如反射防止層等其他構成要素。
接著，參照附圖，對本發(fā)明的微透鏡基板的制造方法的優(yōu)選實施方式進行說明。
(帶凹部基板的制造)首先，參照附圖來說明構成本發(fā)明的微透鏡基板的帶凹部基板的制造方法的一個實例。
首先，準備玻璃基板5。
該玻璃基板5優(yōu)選使用的是厚度均勻、且沒有彎曲或損傷的基板。而且，該玻璃基板5優(yōu)選通過洗滌等而其表面已被洗凈的基板。
作為玻璃基板5的材料，例如可以舉出鈉玻璃、結晶性玻璃、石英玻璃、鉛玻璃、鉀玻璃、硼硅玻璃、無堿玻璃等，其中，優(yōu)選使用石英玻璃。由于石英玻璃的機械強度和耐熱性能高，而且線膨脹系數非常低，使得由于熱而產生的形狀變化少，所以，可以優(yōu)選在后述的微透鏡基板的制造方法中使用。而且，還具有短波長區(qū)域的透過率也高，使得基于光能的劣化幾乎不存在的優(yōu)點。
另外，玻璃基板5(帶凹部基板101)優(yōu)選使用?；瘻囟缺葮嫵珊笫龅牟ＡЩ?02’(透鏡層102)的玻璃材料的玻化溫度高的材料。
具體而言，構成玻璃基板5的材料的玻化溫度優(yōu)選為800℃以上，更優(yōu)選為900～1060℃。如果構成玻璃基板5的材料的?；瘻囟刃∮谒鱿孪拗担瑒t根據構成后述的透鏡層102的材料的種類等，有時會無法充分得到最終所獲得的微透鏡基板的耐久性。
<1>
如圖2(a)所示，在準備的玻璃基板5的表面上形成掩模形成用膜6’(掩模形成工序)。該掩模形成用膜6’通過在后面的工序中形成開口部(初期孔)，起到作為掩模的功能。
掩模形成用膜6’通過激光光的照射等，可以形成后述的初期孔61，并且，優(yōu)選在后述的蝕刻工序中具有耐蝕刻的性能。換言之，掩模形成用膜6’優(yōu)選其蝕刻率與玻璃基板5大致相等，或者比玻璃基板5小。
從該觀點出發(fā)，作為構成該掩模形成用膜6’(掩模6)的材料，例如可以舉出Cr、Au、Ni、Ti、Pt等金屬或包含從這些金屬中選擇的2種以上的合金，所述金屬的氧化物(金屬氧化物)、硅、樹脂等。另外，掩模6也可以形成像Cr/Au或氧化Cr/Cr這樣的由不同材料構成的多層層疊構造。
對掩模形成用膜6’的形成方法沒有特別的限定，但是，在由Cr、Au等金屬材料(包括合金)或金屬氧化物(例如氧化Cr)構成掩模形成用膜6’的情況下，掩模形成用膜6’可以優(yōu)選例如通過蒸鍍法或濺射法等來形成。另外，在由硅構成掩模形成用膜6’的情況下，掩模形成用膜6’可以優(yōu)選例如通過濺射法或CVD法等形成。
掩模形成用膜6’(掩模6)的厚度根據構成掩模形成用膜6’的材料的不同而不同，優(yōu)選其厚度為0.01～2.0μm左右，更優(yōu)選為0.03～0.2μm左右。如果厚度小于所述下限值，則在后述的初期孔形成工序中所形成的初期孔61的形狀，有可能出現變形。而且，當在后述的蝕刻工序中實施濕蝕刻時，有可能會無法充分保護玻璃基板5的已使用掩模的部分。另一方面，如果超過上限值，則在后述的初期孔形成工序中會很難形成貫通的初期孔61，此外，根據掩模形成用膜6’的構成材料等，掩模形成用膜6’有時會由于掩模形成用膜6’的內部應力而容易剝落。
<2>
接著，如圖2(b)所示，在掩模形成用膜6’上形成多個初期孔61，該多個初期孔61在后述的蝕刻時成為掩模開口(初期孔形成工序)。由此，得到了具有規(guī)定的開口圖案的掩模6。
初期孔61可以通過任意的方法來形成，但優(yōu)選通過物理方法或激光光的照射來形成。由此，例如，能夠以良好的生產率來制造微透鏡基板。特別是也可以在大面積的基板上簡單地形成凹部。
作為形成初期孔61的物理方法，例如可以舉出噴丸、噴砂等噴射(blast)處理，蝕刻、沖壓、點式打印、攻螺紋(タツピング)、研磨(rubbing)等方法。在通過噴射處理來形成初期孔61時，即使在面積(應該形成微透鏡8的區(qū)域的面積)比較大的玻璃基板5上，也能夠更加快速高效地形成初期孔61。
另外，在通過激光光的照射形成初期孔61時，所使用的激光光的種類沒有特別的限定，可以列舉出紅寶石激光、半導體激光、YAG激光、飛秒激光、玻璃激光、YVO4激光、Ne-He激光、Ar激光、CO2激光、激元激光等。而且，也可以使用各激光的SHG、THG和FHG等的波長。在通過激光光的照射來形成初期孔61時，能夠容易并精確地控制形成的初期孔61的大小，相鄰的初期孔61之間的間隔等。
優(yōu)選形成的初期孔61遍布掩模6的整個面，并且不會形成偏倚。
<3>
接著，如圖2(c)所示，使用形成有初期孔61的掩模6對玻璃基板5實施蝕刻，從而在玻璃基板5上形成多個凹部3(蝕刻工序)。
對蝕刻的方法沒有特別的限定，例如可以舉出濕蝕刻、干蝕刻等。在下面的說明中，是以使用濕蝕刻的情況為例來進行說明的。
通過對玻璃基板5實施蝕刻(濕蝕刻)，如圖2(c)所示，玻璃基板5從不存在掩模6的部分開始被蝕刻，如圖2(d)所示，在玻璃基板5上形成了多個凹部3，所述玻璃基板5被形成有初期孔61的掩模6所覆蓋。
這樣，如果使用濕蝕刻，則能夠恰當地形成凹部3。而且，如果蝕刻液使用例如包含氫氟酸(氟化氫)的蝕刻液(氫氟酸系蝕刻液)，則可以進一步選擇性地對玻璃基板5進行蝕刻，從而能夠恰當地形成凹部3。
<4>
接著，如圖2(e)所示，除去掩模6(掩模除去工序)。
掩模6的除去，例如可以通過蝕刻等來除去。
通過以上的工序，如圖2(e)所示，得到了具有多個凹部3的帶凹部基板101。
另外，根據需要，也可以在形成掩模形成用膜6’之際，在與形成凹部3的面相反側的面(背面)上，設置由和掩模形成用膜6’相同的材料構成的背面保護膜。由此，由于沒有被整體蝕刻，所以，可以保持玻璃基板5的厚度。
通過如上所述獲得的帶凹部基板101的凹部3在俯視時的平均直徑，優(yōu)選為5～100μm，更優(yōu)選為10～50μm。由此，例如，就使用這樣的帶凹部基板101而制造的液晶面板而言，可以使得投影在屏幕上的圖像具有出色的析像度。
而且，在凹部3的中央部附近的平均曲率半徑優(yōu)選為2.5～50μm，更優(yōu)選為5～25μm。由此，可以使得通過使用該凹部3而形成的微透鏡8具有特別優(yōu)越的光學特性。
另外，在凹部3的中心附近的深度優(yōu)選為5～100μm，更優(yōu)選為10～50μm。由此，可以使得通過使用該凹部3而形成的微透鏡8具有特別優(yōu)越的光學特性。
(壓焊工序)本工序中，在加熱的狀態(tài)下，對前述的帶凹部基板101和玻璃基板(基體材料)102’進行壓焊(壓焊工序)，所述玻璃基板102’是由?；瘻囟缺葮嫵蓭О疾炕?01的玻璃材料的?；瘻囟鹊偷牟ＡР牧蠘嫵傻?。通過進行壓焊，會將軟化了的構成玻璃基板102’的玻璃材料填充到帶凹部基板101的凹部3內部，同時，使帶凹部基板101和玻璃基板102’(透鏡層102)接合。
可是，在以往的作為微透鏡基板的制造方法而使用的2P法中，由于在微透鏡基板的形成中使用了樹脂材料，所以，很難得到具有足夠耐久性的微透鏡基板。特別是由于在2P法中所使用的光固化性樹脂，基于短波長的光容易產生樹脂材料的劣化等，所以，有時無法得到足夠的耐光性。而且，由于使用了由光固化性樹脂構成的樹脂層、玻璃蓋片和帶凹部基板這3個部件，來形成微透鏡基板，所以，由于熱膨脹率的不同，很容易產生形變等，其結果，有可能會產生光學特性等的特性低下。例如，需要進行玻璃蓋片的對位等工序，使得制造工序繁雜。而且，在為了形成最佳光路長度而進行玻璃蓋片的研磨時，由于研磨會產生污染等，所以，還需要過度的洗滌工序，而通過進行這樣的洗滌，則有可能會使構成樹脂層的樹脂材料出現劣化等。其結果，導致質量下降，有可能使得成品率低下。另外，可以考慮不使用樹脂材料，而使用玻璃材料等耐久性高的材料來制造微透鏡基板，但是，為了使這樣的材料達到熔融狀態(tài)需要很多的熱能，而且，在將熔融狀態(tài)的玻璃材料提供給帶凹部基板時，會由于該熱量使得帶凹部基板的表面形狀變形，從而很難得到足夠的光學特性。
對此，本發(fā)明在壓焊工序中，在通過熱使主要由玻璃材料構成并具有規(guī)定形狀的基體材料的一部分處于可以變形的狀態(tài)下，使其與帶凹部基板進行壓焊，將玻璃材料填充到帶凹部基板的凹部內，并接合帶凹部基板和基體材料，由此可以容易地制造光學特性和耐久性優(yōu)越的微透鏡基板。即，在本發(fā)明的制造方法中，由于不使用樹脂材料，所以能夠制造耐熱性、耐光性等耐久性優(yōu)越的微透鏡基板。而且，根據本發(fā)明，由于在加熱的狀態(tài)下，基體側處于可容易變形的狀態(tài)，所以，不會對帶凹部基板造成損傷，從而能夠容易地制造光學特性優(yōu)越的微透鏡基板。另外，由于不需要進行玻璃蓋片的接合或對位等工序等，所以，制造工序不再繁雜。其結果，可以通過簡便的方法來制造微透鏡基板。而且，由于制造方法簡便，所以，能夠抑制質量的低下，從而可以減小所制造的各微透鏡基板之間的質量偏差。而且，與以往的方法相比，由于構成微透鏡基板的部件減少，而且，通過玻璃材料形成了各構成部件，所以，能夠防止由于構成微透鏡基板的部件的熱膨脹率不同而產生的形變等，從而可以提供光學特性優(yōu)越的微透鏡基板。另外，由于在以往的方法中，在由帶凹部基板和玻璃蓋片夾持的狀態(tài)下使未固化的樹脂材料固化，所以基于樹脂材料在固化前和固化后的體積變化，有時會在微透鏡基板上產生形變等，但在本發(fā)明中，微透鏡基板的各構成部件由玻璃材料形成，并且在熱的作用下，在使構成基體材料的玻璃材料的一部分軟化到可以變形的程度的狀態(tài)下，與帶凹部基板壓焊，所以，玻璃材料固化后的體積變化能夠足夠小，從而提供光學特性特別優(yōu)越的微透鏡基板。而且，根據本發(fā)明的制造方法，即使在微透鏡形成后進行洗滌等的情況下，也能夠防止由于洗滌液等造成的透鏡層劣化。進而，根據本發(fā)明，可以通過適當調整基體材料的厚度，來調整成最佳的光路長度，這樣，即使在為了形成最佳的光路長度而進行研磨時，也會由于基體材料的與帶凹部基板接觸側的相反面保持為平滑性，所以不需要過渡的研磨。其結果，可以省略或簡化在以往的方法中進行的研磨工序。
下面，參照附圖，對壓焊工序進行具體的說明。
首先，準備玻璃基板(基體材料)102’。
該玻璃基板102’優(yōu)選使用厚度均勻、且沒有彎曲或損傷的基板。而且，該玻璃基板102’是優(yōu)選通過洗滌等而其表面已被洗凈的基板。
該玻璃基板102’如上所述，由?；瘻囟缺葮嫵蓭О疾炕?01的材料的?；瘻囟鹊偷牟ＡР牧蠘嫵?。
在將構成玻璃基板102’的玻璃材料的玻化溫度設為Tg1[℃]，將構成帶凹部基板101的材料的玻化溫度設為Tg2[℃]時，優(yōu)選滿足≥50的關系，更優(yōu)選滿足300≤Tg2-Tg1≤500的關系。通過滿足這種關系，可以在將構成玻璃基板102’的玻璃材料填充到凹部3內時，防止對凹部3造成損傷，并且能夠確切地將玻璃材料填充到凹部3內。對此，如果Tg2-Tg1小于上述下限值，則根據構成帶凹部基板101和玻璃基板102’的材料種類等，可能對凹部3造成損傷，有時會無法得到足夠的光學特性。
具體而言，構成玻璃基板102’的玻璃材料的玻化溫度Tg優(yōu)選為800℃以下，更優(yōu)選為500～700℃。由此，在將構成玻璃基板102’的玻璃材料填充到凹部3內時，能夠充分防止對凹部3造成損害，并能夠更加確切地將玻璃材料填充到帶凹部基板101的凹部3內。
作為玻璃基板102’的玻璃材料，只要是以二氧化硅為主要成分，并且玻化溫度比構成帶凹部基板101的材料的?；瘻囟鹊图纯桑瑳]有特別的限定，例如可以舉出鈉玻璃、結晶性玻璃、石英玻璃、鉛玻璃、無鉛玻璃、鉀玻璃、硼硅玻璃、無堿玻璃和作為光學用的特殊組成的玻璃等。
例如，在帶凹部基板101由石英玻璃構成時，優(yōu)選使用低熔點玻璃作為玻璃基板102’。由此，能夠降低加熱溫度，即獲得節(jié)能的效果。另外，從環(huán)保的角度考慮，優(yōu)選盡量不使用鉛玻璃或含有少量鉛和砷的玻璃。
<1>
接著，如圖3(a)所示，在通過上述步驟得到的帶凹部基板101的上側，設置玻璃基板(基體材料)102’。
<2>
接著，加熱帶凹部基板101和玻璃基板102’。由此，玻璃基板102’的表面出現軟化，使其處于容易變形的狀態(tài)。
而且，通過這樣對帶凹部基板101和玻璃基板102’雙方進行加熱，可以充分防止對凹部3造成損傷，并且，能夠更加容易地將玻璃材料填充到凹部3內。
在將該加熱溫度設為T[℃]，將構成玻璃基板102’的玻璃材料的?；瘻囟仍O為Tg1[℃]，將構成帶凹部基板101的材料的?；瘻囟仍O為Tg2[℃]時，優(yōu)選滿足Tg1≤T≤Tg2的關系，更優(yōu)選滿足Tg1+100≤T≤Tg2-100的關系。由此，在將構成玻璃基板102’的玻璃材料填充到凹部3內時，可以充分防止對凹部3造成損傷，并且，能夠更可靠地將玻璃材料填充到凹部3內。
另外，加熱可以在冷卻玻璃基板102’的與帶凹部基板101相反側的表面的同時進行。由此，可以保持玻璃基板102’的與帶凹部基板101相反側的表面的平滑性，并且能夠將玻璃材料填充到帶凹部基板101的凹部3內。
<3>
接著，如圖3(b)所示，使已加熱的帶凹部基板101和玻璃基板102’接觸。
<4>
接著，在已如上所述進行加熱的狀態(tài)下，將帶凹部基板101和玻璃基板102’進行壓焊，使得已軟化的玻璃材料被填充到凹部3內。然后，通過進行冷卻，玻璃基板102’形成透鏡層102。由此，如圖3(c)所示，得到帶凹部基板101與透鏡層102接合的微透鏡基板10(本發(fā)明的微透鏡基板)。
所述冷卻優(yōu)選，不是急速降低溫度，而是通過緩慢的降溫來進行。由此，可以更加有效地防止在所得到的微透鏡基板10上產生形變等。
上述的壓焊工序優(yōu)選在減壓氣氛下進行。由此，能夠在將玻璃材料填充到凹部3內時，防止在填充到凹部3內的玻璃材料中進入氣泡。
具體而言，壓焊工序時的氣氛氣壓優(yōu)選為50Pa以下，更優(yōu)選為5Pa以下。由此，在將玻璃材料填充到凹部3內時，可以防止對帶凹部基板101的凹部3造成損傷，并且，防止了在填充到凹部3內的玻璃材料中進入氣泡，從而能夠將玻璃材料更加可靠地填充到凹部3內。
而且，在壓焊工序中，通過適宜地調整壓焊工序后從玻璃基板102’與帶凹部基板101的接合面中如圖3所示的平坦部103、到與接合面相反側的面的厚度，即，通過調整所形成的透鏡層102的沒有形成微透鏡8的部分的厚度，可以使入射到所形成的微透鏡8的光的光路長度為最佳。
在將壓焊工序前的玻璃基板102’的厚度設為T1[mm]，將透鏡層102的沒有形成微透鏡8的部分的厚度為T2[mm]時，優(yōu)選滿足0.5≤T2/T1≤0.95的關系，更優(yōu)選為滿足0.6≤T2/T1≤0.8的關系。通過滿足這樣的關系，可以防止對帶凹部基板101的凹部3造成損傷，并且能夠更加可靠地將玻璃材料填充到凹部3內。而且，可以使得入射到帶凹部基板101所形成的微透鏡8的光的光路長度為最佳，并且，可以效率良好地將玻璃基板102’形成為透鏡層102。
另外，在上述說明中，雖然對加熱帶凹部基板101和玻璃基板102’雙方進行了說明，但是，也可以僅加熱帶凹部基板101，還可以僅加熱玻璃基板102’。在僅加熱帶凹部基板101時，可以僅使玻璃基板102’的表面能夠容易變形，從而，能夠更加可靠地保持玻璃基板102’的不與帶凹部基板101接觸的面的平滑性。在僅加熱玻璃基板102’時，能夠更加可靠地使玻璃基板102’可以變形，從而可以容易地將玻璃材料填充到凹部3內。
另外，也可以為了形成最佳的光路長度，在壓焊工序之后，有對透鏡層102的表面進行研磨的研磨工序。
接著，對本發(fā)明的液晶面板用對置基板的制造方法進行說明。
<1>
如圖4(d)所示，在通過上述工序獲得的微透鏡基板10的透鏡層102上形成黑矩陣11，該黑矩陣11形成有開口111。
此時，黑矩陣11形成為與微透鏡8的位置對應，具體而言，微透鏡8的光軸Q通過黑矩陣11的開口111(參照圖1)。
該黑矩陣11例如由Cr、Al、Al合金、Ni、Zn、Ti等的金屬膜，分散有碳或鈦等的樹脂層等構成。在這些當中，黑矩陣11優(yōu)選由Cr膜或Al合金膜構成。如果黑矩陣11由Cr膜構成，則能夠得到遮光性優(yōu)越的黑矩陣11。另外，如果黑矩陣11由Al合金膜構成，則可以獲得具有優(yōu)越散熱性的液晶面板用對置基板1。
從抑制對液晶面板用對置基板1的平坦性的影響的觀點等出發(fā)，優(yōu)選黑矩陣11的厚度為0.03～1.0μm左右，更優(yōu)選為0.05～0.3μm左右。
該形成有開口111的黑矩陣11，例如可以通過下述方式形成。首先，在透鏡層102上，通過濺射法等氣相成膜法來使作為黑矩陣11的薄膜成膜。接著，在該成為黑矩陣11的薄膜上形成抗蝕膜。接著，以黑矩陣11的開口111位于和微透鏡8(凹部3)對應的位置的方式，來曝光前述抗蝕膜，從而在該抗蝕膜上形成開口111的圖案。接著，進行濕蝕刻，僅將前述薄膜中的成為開口111的部分除去。接著，除去前述抗蝕膜。另外，作為進行濕蝕刻時的剝離液，例如當成為黑矩陣11的薄膜由Al合金等構成時，可以使用磷酸系蝕刻液。
另外，也可以通過使用氯系氣體等的干蝕刻，來恰當地形成形成有開口111的黑矩陣11。
<2>
接著，以覆蓋黑矩陣11的方式，在透鏡層102上形成透明導電膜(公共電極)12。
由此，能夠得到液晶面板用對置基板1或可以采用多枚液晶面板用對置基板1的晶片。
該透明導電膜12，例如由銦錫氧化物(ITO)、銦氧化物(IO)、氧化錫(SnO2)等構成。
優(yōu)選透明導電膜12的厚度為0.03～1μm左右，更優(yōu)選為0.05～0.30μm左右。
該導電透明膜12例如可以通過濺射法形成。
<3>
最后，根據需要，使用切割裝置等，將液晶面板用對置基板1的晶片切割成規(guī)定的形狀和大小。
由此，可以得到圖1所示的液晶面板用對置基板1。
另外，在以上述工序<2>得到液晶面板用對置基板1等情況下，即在不需要進行切割的情況下，也可以不進行本工序。
另外，在制造液晶面板用對置基板時，例如也可以不形成黑矩陣11，而在透鏡層102上直接形成透明導電膜12。
接著，參照圖5，對使用了圖1所示的液晶面板用對置基板1的液晶面板(液晶光閘)進行說明。
如圖5所示，本發(fā)明的液晶面板(TFT液晶面板)16具有TFT基板(液晶驅動基板)17、與TFT基板17接合的液晶面板用對置基板1、由封入在TFT基板17和液晶面板用對置基板1的空隙中的液晶而形成的液晶層18。
TFT基板17是用于驅動液晶層18的液晶的基板，具有玻璃基板171；設置在該玻璃基板171上的多個像素電極172；和設置在該像素電極172的附近并與各個像素電極172對應的多個薄膜晶體管(TFT)173。
在該液晶面板16中，以液晶面板用對置基板1的透明導電膜(公共電極)12和TFT基板17的像素電極172對置的方式，TFT基板17和液晶面板用對置基板1隔開一定距離而接合。
玻璃基板171優(yōu)選由石英玻璃構成。由此，不容易發(fā)生翹曲、彎曲等，能夠具有優(yōu)越的穩(wěn)定性。
像素電極172通過在與透明導電膜(公共電極)12之間進行充放電，來驅動液晶層18的液晶。該像素電極172，例如由和前述的透明導電膜12相同的材料構成。
薄膜晶體管173與附近的對應的像素電極172連接。而且，薄膜晶體管173與未圖示的控制電路連接，控制向像素電極172供給的電流。由此，可以控制像素電極172的充放電。
液晶層18含有液晶分子(未圖示)，該液晶分子與像素電極172的充放電對應，即液晶的取向發(fā)生變化。
在該液晶面板16中，通常一個微透鏡8、與該微透鏡8的光軸Q對應的黑矩陣11的1個開口111、1個像素電極172、與該像素電極172連接的1個薄膜晶體管173，對應于1個像素。
從帶凹部基板101側入射的入射光L通過玻璃基板5，然后，在通過微透鏡8時被聚光，并透過透鏡層102、黑矩陣11的開口111、透明導電膜12、液晶層18、像素電極172、玻璃基板171。另外，此時，由于通常在帶凹部基板101的入射側配置有偏振板(未圖示)，所以，在入射光L透過液晶層18時，入射光L變成直線偏振光。此時，該入射光L的偏振方向被控制成與液晶層18的液晶分子的取向狀態(tài)對應。因此，通過使透過液晶面板16的入射光L透過偏振板(未圖示)，可以控制射出光的亮度。
另外，偏振板例如由底部(base)基板和在該底部基板上層疊的偏振基體材料構成，該偏振基體材料例如是由添加了偏振元件(碘絡合物、二色性染料等)的樹脂構成。
就該該液晶面板16而言，例如是在對通過公知的方法而制造的TFT基板17與液晶面板用對置基板1進行取向處理之后，經由密封材料(未圖示)將兩者接合，接著，從由此形成的空隙部的封入孔(未圖示)將液晶注入到空隙部內，接著，通過堵塞該封入孔而制造。然后，按照需要，還可以在液晶面板16的入射側或射出側粘貼偏振板。
另外，雖然在上述液晶面板16中使用了TFT基板作為液晶驅動基板，但是，也可以使用TFT基板之外的其他液晶驅動基板，例如TFD基板、STN基板等作為液晶驅動基板。
下面，對使用了上述液晶面板16的投射型顯示裝置進行說明。
圖6是模式化表示本發(fā)明的投射型顯示裝置的光學系統(tǒng)的圖。
如該圖所示，透射型顯示裝置300具有光源301、具備多個積分透鏡的照明光學系統(tǒng)、具備多個分色鏡等的色分離光學系統(tǒng)(導光光學系統(tǒng))、與紅色對應的(紅色用的)液晶光閥(液晶光閘陣列)74、與綠色對應的(綠色用的)液晶光閥(液晶光閘陣列)75、與藍色對應的(藍色用的)液晶光閥(液晶光閘陣列)76、形成有僅反射紅色光的分色鏡面711和僅反射藍色光的分色鏡面712的二色棱鏡(色合成光學系統(tǒng))71、和投射透鏡(投射光學系統(tǒng))72。
另外，照明光學系統(tǒng)具有積分透鏡302和303。色分離光學系統(tǒng)具有反射鏡304、306、309；反射藍色光和綠色光(僅透過紅色光)的分色鏡305；僅反射綠色光的分色鏡307；僅反射藍色光的分色鏡(或者反射藍色光的反射鏡)308；聚光透鏡310、311、312、313和314。
液晶光閥75包括前述的液晶面板16；與液晶面板16的入射面?zhèn)?帶凹部基板101位于的面?zhèn)?，即與二色棱鏡71相反一側)接合的第1偏振板(未圖示)；與液晶面板16的射出面?zhèn)?與帶凹部基板101對置的面?zhèn)龋炊忡R71側)接合的第2偏振板(未圖示)。液晶光閥74和76形成與液晶光閥75相同的構成。這些液晶光閥74、75和76所具備的液晶面板16分別與未圖示的驅動電路連接。
另外，在投射型顯示裝置300中，由二色棱鏡71和投射透鏡72構成了光學塊70。而且，該光學塊70和相對二色棱鏡71被固定設置的液晶光閥74、75以及76構成了顯示單元73。
下面，對投射型顯示裝置300的作用進行說明。
從光源301射出的白色光(白色光束)透過積分透鏡302和303。通過積分透鏡302和303，該白色光的光強度(亮度分布)被均勻化。
透過積分透鏡302和303的白色光，通過反射鏡304向圖6中左側反射，其反射光中的藍色光(B)和綠色光(G)分別通過分色鏡305向圖6中下側反射，紅色光(R)透過分色鏡305。
透過分色鏡305的紅色光，通過反射鏡306向圖6中下側反射，其反射光通過聚光透鏡310被整形，然后入射到紅色用的液晶光閥74。
由分色鏡305反射的藍色光和綠色光中的綠色光，通過分色鏡307向圖6中左側反射，藍色光透過分色鏡307。
由分色鏡307反射的綠色光通過聚光透鏡311被整形，并入射到綠色用的液晶光閥75。
而且，透過分色鏡307的藍色光通過分色鏡(或反射鏡)308向圖6中左側反射，其反射光通過反射鏡309向圖6中上側反射。前述藍色光通過聚光透鏡312、313和314被整形，并入射到藍色用的液晶光閥76。
這樣，從光源301射出的白色光通過色分離光學系統(tǒng)，被色分離成三原色，即紅色、綠色和藍色，并分別導向、入射到對應的液晶光閥。
此時，液晶光閥74具有的液晶面板16的各像素(薄膜晶體管173和與其連接的像素電極172)，通過基于紅色用的圖像信號而工作的驅動電路(驅動機構)，被開關控制(ON/OFF)，即被調制。
同樣地，綠色光和藍色光分別入射到液晶光閥75和76，并通過各自的液晶面板16被調制，由此，形成了綠色用的圖像和藍色用的圖像。此時，液晶光閥75所具有的液晶面板16的各像素，通過基于綠色用的圖像信號而工作的驅動電路被開關控制；液晶光閥76所具有的液晶面板16的各像素，通過基于藍色用的圖像信號而工作的驅動電路被開關控制。
由此，紅色光、綠色光和藍色光分別通過液晶光閥74、75和76被調制，分別形成了紅色用的圖像、綠色用的圖像和藍素用的圖像。
由前述液晶光閥74形成的紅色用的圖像，即來自液晶光閥74的紅色光，從面713入射到二向棱鏡71，通過分色鏡面711向圖6中左側反射，并透過分色鏡面712，從射出面716射出。
而且，由前述液晶光閥75形成的綠色用的圖像，即來自液晶光閥75的綠色光，從面714入射到二向棱鏡71，并分別透過分色鏡面711和712，從射出面716射出。
另外，由前述液晶光閥76形成的藍色用的圖像，即來自液晶光閥76的藍色光，從面715入射到二向棱鏡71，通過分色鏡面712向圖6中左側反射，并透過分色鏡面711，從射出面716射出。
這樣，來自前述液晶光閥74、75和76的各色光，即由液晶光閥74、75和76形成的各圖像，通過二色棱鏡71被合成，由此，形成了彩色的圖像。該圖像通過投射透鏡72，被投影(放大投射)到設置在規(guī)定位置的屏幕320上。
此時，由于液晶光閥74、75和76具備前述的液晶面板16，所以，抑制了來自光源301的光在通過液晶光閥74、75和76時的衰減，從而可以在屏幕320上投影明亮的圖像。
上面，對本發(fā)明的微透鏡基板的制造方法、微透鏡基板、液晶面板用對置基板、液晶面板以及投射型顯示裝置的優(yōu)選實施方式進行了說明，但是，本發(fā)明并不限定于此。
例如，在本發(fā)明的微透鏡的制造方法中，也可以追加1道或2道以上的任意目的的工序。
而且，構成本發(fā)明的微透鏡基板的帶凹部基板也可以通過任意的方法來制造。例如，帶凹部基板也可以使用具有凸部的模來制造。
而且，在前述的實施方式中，對實施掩模來進行蝕刻的方法進行了說明，但是，也可以不實施掩模而進行蝕刻。
并且，在前述的實施方式中，以將本發(fā)明的微透鏡基板應用于具備液晶面板用對置基板、液晶面板和該液晶光閥的投射型顯示裝置的情況為例，進行了說明，但是，本發(fā)明并不限定于此，也可以將本發(fā)明的微透鏡基板應用于例如CCD、光通信元件等各種電光學裝置、有機或無機EL(電致發(fā)光)顯示裝置、其它的裝置等。
另外，在前述的實施方式中，說明了將本發(fā)明的微透鏡基板應用于投射型顯示裝置的情況，但是，本發(fā)明的微透鏡基板也可以應用于透過型屏幕、后置型投影機。
(實施例)(實施例1)如下所述，制造了具有多個凹部的微透鏡用帶凹部基板，并使用該微透鏡用帶凹部基板制造微透鏡基板。
(帶凹部基板的形成工序)首先，準備厚為2mm的石英玻璃基板(?；瘻囟?060℃，折射率1.46)作為玻璃基板。
將該石英玻璃基板浸漬到已加熱至85℃的洗滌液中(80％硫酸+20％過氧化氫水)進行洗滌，來洗凈其表面。
接著，通過濺射法在該石英玻璃基板上形成0.03μm厚的Cr膜。即，在石英玻璃基板的表面上形成Cr膜的掩模和背面保護膜。
接著，對掩模進行激光加工，來形成多個初期孔(參照圖2(b))。
另外，激光加工是通過使用YAG激光，在能量強度為1mW、光束直徑為3μm、照射時間為60×10-9秒的條件下進行的。
所形成的初期孔的平均孔徑為5μm。
接著，對石英玻璃基板實施濕蝕刻，從而在石英玻璃基板上形成多個凹部(參照圖2(d))。
該濕蝕刻的蝕刻時間設定為72分鐘，并使用氫氟酸系的蝕刻液作為蝕刻液。
接著，通過CF氣體進行干蝕刻，來除去掩模和背面保護層。
由此，可以獲得在石英玻璃基板上規(guī)則地排列多個凹部的帶凹部基板。另外，所形成的凹部的平均直徑為15μm，曲率半徑為7.5μm。而且，相鄰的微透鏡用凹部之間的間隔(凹部彼此的中心間平均距離)為15μm。
(壓焊工序)另一方面，準備由無鉛玻璃(?；瘻囟?60℃、折射率1.61)構成的厚度為T10.1mm的薄板玻璃基板(玻璃基板)。
將該玻璃基板設置成與帶凹部基板的形成有凹部的面對置(參照圖3(a)) 。
接著，在將氣氛壓力減壓至5Pa之后，將帶凹部基板和薄板玻璃基板加熱至800℃。另外，對薄板玻璃基板的與設置有帶凹部基板的一側相反的面進行冷卻，同時進行加熱。
接著，在壓焊薄板玻璃基板和帶凹部基板，將已軟化的薄板玻璃填充到凹部內之后，進行冷卻(參照圖3(c))。
由此，得到了帶凹部基板與透鏡層接合的微透鏡基板。所形成的微透鏡的平均直徑為15μm，平均曲率半徑為7.5μm。而且，從透鏡層與帶凹部基板的接合面的平坦部、到與接合面相反側的面的厚度T2，即未形成微透鏡的部分的厚度T2為0.07mm。
(實施例2)如下所述，使用與實施例1一樣得到的帶凹部基板，制造微透鏡基板。
(壓焊工序)準備玻化溫度為660℃、折射率為1.61的薄板玻璃基板。此時的薄板玻璃的厚度T1為0.5mm。
將該玻璃基板設置成與帶凹部基板的形成有凹部的面對置(參照圖3(a)) 。
接著，在將氣氛壓力減壓至5Pa之后，將帶凹部基板和薄板玻璃基板加熱至800℃。另外，對薄板玻璃基板的與設置有帶凹部基板的一側相反的面進行冷卻，同時進行加熱。
接著，在壓焊薄板玻璃基板和帶凹部基板，將已軟化的薄板玻璃填充到凹部內之后，進行冷卻(參照圖3(c))。由此，在凹部內形成了微透鏡。被接合的薄板玻璃基板(透鏡層)的沒有形成微透鏡的部分的厚度T2為0.35mm。
接著，對已接合的薄板玻璃基板進行研削、研磨，使得沒有形成微透鏡的部分的厚度為0.05mm。
之后，使用刷洗洗滌裝置來洗滌研磨面，從而得到了微透鏡基板。
(比較例)對和前述實施例1一樣形成的帶凹部基板的形成有凹部的面，賦予未重合(未固化)的紫外線(UV)固化型環(huán)氧樹脂(折射率1.59)。
接著，通過由石英玻璃構成的玻璃蓋片，來按壓UV固化型環(huán)氧樹脂。此時，玻璃蓋片與UV固化型環(huán)氧樹脂之間沒有空氣侵入。
接著，通過從玻璃蓋片上照射10000mJ/cm2的紫外線，來使UV固化型環(huán)氧樹脂固化，從而將玻璃蓋片和帶凹部基板接合起來。
接著，對該已接合的玻璃蓋片進行研削、研磨，使得玻璃蓋片的厚度為50μm。
然后，使用刷洗洗滌裝置來洗滌玻璃蓋片的研磨面。
由此，得到微透鏡基板。所形成的微透鏡的平均直徑為15μm，平均曲率半徑為7.5μm。
實施例1～2和比較例中的帶凹部基板的凹部的平均直徑、凹部的曲率半徑、凹部的深度、折射率，構成帶凹部基板和玻璃基板的玻璃材料的種類和玻化溫度、折射率、樹脂基板的厚度T1、所制造的微透鏡基板的微透鏡的平均直徑、微透鏡的曲率半徑、透鏡層的厚度T2、T2/T1，如表1所示。
表1

*是研磨前的厚度
(評價)與比較例相比，在實施例1～2中能夠容易地制造微透鏡基板。
而且，在使用各實施例和比較例的方法連續(xù)地制造微透鏡基板時，在實施例1～2中，能夠生產率良好地制造質量穩(wěn)定的微透鏡基板。與此相對，在比較例中，則會產生次品使得成品率極其低下。
然后，使用在各實施例和比較例中得到的微透鏡基板，來制作圖1所示的液晶面板用對置基板，并使用該液晶面板用對置基板來制作圖5所示的液晶面板，然后使用該液晶面板制作圖6所示的投射型顯示裝置。
在使所得到的投射型顯示裝置連續(xù)驅動5000小時，并觀察驅動后5000小時的投射型圖像時，觀測結果為，使用了實施例1～2的微透鏡基板的投射型顯示裝置投射出鮮明的投射圖像。與之相對，在比較例的投射型顯示裝置中，雖然驅動后不久的投射圖像鮮明，但是，隨著驅動時間的增加，投射圖像的鮮明度明顯降低。認為這是因為，構成微透鏡基板的樹脂材料由于光或驅動產生的熱量而惡化，使得透過率等降低。
權利要求
1.一種微透鏡基板的制造方法，是具有多個微透鏡的微透鏡基板的制造方法，其中，具有在加熱的狀態(tài)下對帶凹部基板和基體材料進行壓焊的壓焊工序，所述帶凹部基板在表面上具有與所述微透鏡的形狀對應的形狀的多個凹部，所述基體材料由玻化溫度比構成所述帶凹部基板的材料的?；瘻囟鹊偷牟ＡР牧蠘嫵?，在所述壓焊工序中，將所述玻璃材料填充到所述凹部內，并接合所述帶凹部基板和所述基體材料。
2.根據權利要求1所述的微透鏡基板的制造方法，其中，所述帶凹部基板的折射率與所述玻璃材料的折射率之差的絕對值為0.01以上。
3.根據權利要求1或2所述的微透鏡基板的制造方法，其中，所述加熱是在所述玻璃材料的?；瘻囟纫陨?、構成所述帶凹部基板的材料的?；瘻囟纫韵碌臏囟认逻M行。
4.根據權利要求1或2所述的微透鏡基板的制造方法，其中，當將所述玻璃材料的?；瘻囟仍O為Tg1[℃]，將構成所述帶凹部基板的材料的?；瘻囟仍O為Tg2[℃]時，滿足Tg2-Tg1≥50的關系。
5.根據權利要求1或2所述的微透鏡基板的制造方法，其中，所述壓焊在減壓氣氛下進行。
6.根據權利要求1或2所述的微透鏡基板的制造方法，其中，當將所述壓焊工序前的所述基體材料的厚度設為T1[mm]，將所述壓焊工序后的從所述基體材料與所述帶凹部基板的接合面的平坦部、到與所述接合面相反側的面的厚度設為T2[mm]時，滿足0.5≤T2/T1≤0.95的關系。
7.一種微透鏡基板，其中，通過權利要求1～6中任意一項所述的方法制造。
8.一種液晶面板用對置基板，其中，具備權利要求7所述的微透鏡基板。
9.一種液晶面板，其中，具備權利要求8所述的液晶面板用對置基板。
10.一種液晶面板，其中，具有具備像素電極的液晶驅動基板、與該液晶驅動基板接合的權利要求8所述的液晶面板用對置基板、封入在所述液晶驅動基板和所述液晶面板用對置基板的空隙的液晶。
11.根據權利要求10所述的液晶面板，其中，所述液晶驅動基板是具有以矩陣狀配設的所述像素電極和與所述像素電極連接的薄膜晶體管的TFT基板。
12.一種投射型顯示裝置，其中，包括具備權利要求9～11中任意一項所述的液晶面板的光閥，使用至少一個該光閥來投射圖像。
全文摘要
本發(fā)明的微透鏡基板的制造方法是具有多個微透鏡的微透鏡基板的制造方法，其特征在于，具有壓焊工序，即在加熱的狀態(tài)下，對帶凹部基板和基體材料進行壓焊，所述帶凹部基板在表面上具有與所述微透鏡的形狀對應的形狀的多個凹部，所述基體材料由?；瘻囟缺葮嫵伤鰩О疾炕宓牟牧系牟；瘻囟鹊偷牟ＡР牧蠘嫵?，在所述壓焊工序中，將所述玻璃料填充到所述凹部內，并接合所述帶凹部基板和所述基體材料。所述帶凹部基板的折射率與所述玻璃材料的折射率之差的絕對值為0.01以上。本發(fā)明提供能夠容易地制造光學特性和耐久性優(yōu)越的微透鏡基板的微透鏡基板的制造方法、微透鏡基板、液晶面板用對置基板、液晶面板和投射型顯示裝置。
文檔編號G02F1/136GK1862292SQ20061007949
公開日2006年11月15日 申請日期2006年5月9日 優(yōu)先權日2005年5月9日
發(fā)明者宮尾信之, 田中光豐 申請人:精工愛普生株式會社