專利名稱：精密加工設(shè)備的提高重復(fù)精度的工件臺(tái)結(jié)構(gòu)及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及高精度加工設(shè)備領(lǐng)域，具體地說(shuō)，涉及一種提高運(yùn)動(dòng)平臺(tái)重復(fù)精度的工件臺(tái)結(jié)構(gòu)及方法。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)的高精密加工設(shè)備往往著眼于較高精度運(yùn)動(dòng)控制即可滿足加工要求，對(duì)于設(shè)備的重復(fù)精度要求并不非常嚴(yán)格。所述重復(fù)精度并非指加工設(shè)備運(yùn)動(dòng)時(shí)的重復(fù)精度，而是指設(shè)備從未知狀態(tài)進(jìn)入工作狀態(tài)的重復(fù)性。例如切斷設(shè)備電源后重新上電恢復(fù)使用，要保證其坐標(biāo)的建立與前一次工作狀態(tài)非常接近，即保證相同(盡量接近)的坐標(biāo)原點(diǎn)和坐標(biāo)方向。然而隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，傳統(tǒng)方法已經(jīng)不能滿足某些領(lǐng)域的超高精度加工要求，其不僅表現(xiàn)在更高的精度要求，另外對(duì)重復(fù)精度的要求也異常苛刻，例如半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)制造過(guò)程中，同一臺(tái)設(shè)備上的加工工序往往多達(dá)幾十道，且后道工序?qū)η暗拦ば蛴钟泻軓?qiáng)的位置關(guān)系依賴性，這就對(duì)加工設(shè)備的重復(fù)精度提出了較高要求。
目前，具有高精度、高潔凈度要求的加工設(shè)備普遍采用由直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)運(yùn)動(dòng)裝置、氣浮導(dǎo)軌、高精密測(cè)量系統(tǒng)等組成高精度運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)，并將整機(jī)系統(tǒng)封閉于獨(dú)立的潔凈工作環(huán)境中，以提高加工過(guò)程的精度要求。這一技術(shù)目前已被普遍采用，本發(fā)明實(shí)施方式中所揭示的方法也不例外，也是以此類加工設(shè)備作為硬件支撐提高運(yùn)動(dòng)精度，以滿足實(shí)際生產(chǎn)的應(yīng)用要求。
現(xiàn)有設(shè)備中，廣泛采用絕對(duì)傳感器來(lái)保證設(shè)備初始位置，從而確定設(shè)備的坐標(biāo)原點(diǎn)，即以測(cè)量系統(tǒng)編碼器(光柵尺)上的某一標(biāo)志位置為基準(zhǔn)確定坐標(biāo)原點(diǎn)。另一種方法是在x、y向各設(shè)置一個(gè)絕對(duì)傳感器，當(dāng)運(yùn)動(dòng)部件運(yùn)動(dòng)至特定位置時(shí)，上述兩個(gè)絕對(duì)傳感器的信號(hào)同時(shí)滿足特定條件時(shí)，則將該位置定位為初始位置，即坐標(biāo)原點(diǎn)，此種方法較前一種方法在重復(fù)精度上有一定程度的提升，技術(shù)實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)單，可以有效保證原點(diǎn)位置坐標(biāo)(x、y)在一定精度范圍之內(nèi)，基本滿足生產(chǎn)要求，但是保證rz方向的重復(fù)性，增加后續(xù)處理難度。美國(guó)專利第5699621號(hào)公開(kāi)了一種采用后一種方法的光刻領(lǐng)域精密工作臺(tái)結(jié)構(gòu)，其運(yùn)動(dòng)平臺(tái)采用傳統(tǒng)的直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)方式，采用各種傳感器進(jìn)行位置與間隙測(cè)量，一定程度上保證了x、y向重復(fù)精度，但并未針對(duì)rz方向進(jìn)行修正。
另外，中國(guó)專利第20041009664.0號(hào)公開(kāi)了一種光刻精密磁懸浮工件臺(tái)，其未涉及到提高設(shè)備重復(fù)精度的內(nèi)容，僅依賴于傳統(tǒng)方法。
基于以上考慮，需要一種更為有效的方法，在設(shè)備恢復(fù)時(shí)同時(shí)保證x、y、rz三個(gè)自由度上的坐標(biāo)重復(fù)性，從而降低生產(chǎn)設(shè)備的技術(shù)復(fù)雜程度，提高生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的技術(shù)問(wèn)題在于提供一種重復(fù)精度較高的精密加工設(shè)備的的工件臺(tái)結(jié)構(gòu)及方法。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種精密加工設(shè)備的提高重復(fù)精度的工件臺(tái)結(jié)構(gòu)，其具有運(yùn)動(dòng)平臺(tái)和基準(zhǔn)平面，運(yùn)動(dòng)平臺(tái)上表面固裝有x向零位磁鐵、y向零位磁鐵，基準(zhǔn)平面上固裝有x向零位傳感器、y1向零位傳感器、y2向零位傳感器，且所述的y1向零位傳感器與y2向零位傳感器在x向相隔固定距離。
進(jìn)一步地，所述零位傳感器為霍爾元件。
進(jìn)一步地，運(yùn)動(dòng)平臺(tái)位于名義零點(diǎn)位置時(shí)，所述x向零位傳感器及y1向零位傳感器分別與x向零位磁鐵及y1向磁鐵垂向正對(duì)。
本發(fā)明提供了一種精密加工設(shè)備的提高重復(fù)精度的方法，其包括如下步驟a.將運(yùn)動(dòng)平臺(tái)運(yùn)動(dòng)至特定位置，采樣當(dāng)前位置分別取出x向零位傳感器、y1向零位傳感器、y2向零位傳感器的輸出，依據(jù)公式(1)分別取上述三個(gè)零位傳感器的背景磁場(chǎng)強(qiáng)度B0，其中n為采樣點(diǎn)數(shù)；B0=Σi=1nBi/n---(1)]]>b.運(yùn)動(dòng)平臺(tái)運(yùn)動(dòng)首先到名義零點(diǎn)位置(x，y1)，即x向零位磁鐵及y1向磁鐵分別與x向零位傳感器及y1向零位傳感器的垂向正對(duì)位置，然后分別進(jìn)行搜索x向與y向的零高斯點(diǎn)步驟；c.搜索完成，運(yùn)動(dòng)平臺(tái)靜止于(x′，y1′)點(diǎn)，然后以此位置為基準(zhǔn)點(diǎn)，沿x向相對(duì)該基準(zhǔn)點(diǎn)運(yùn)動(dòng)所述固定距離至名義y2零點(diǎn)傳感器位置(x0，y2)處，進(jìn)行y向的零高斯點(diǎn)搜索；d.搜索完成，運(yùn)動(dòng)平臺(tái)靜止于(x0，y2′)，然后運(yùn)動(dòng)平臺(tái)在(x0，y2′)點(diǎn)處沿x負(fù)方向運(yùn)動(dòng)所述固定距離至(x′，y1′)點(diǎn)附近，依據(jù)公式(4)搜索結(jié)果計(jì)算偏轉(zhuǎn)角度α，其中L為所述固定距離；α≈(y2′-y1′)/L (4)e.運(yùn)動(dòng)平臺(tái)在rz反方向運(yùn)動(dòng)上述角度α；f.重新進(jìn)行x向與y向的零高斯點(diǎn)搜索，搜索零點(diǎn)位置，確定物理位置；g.計(jì)算測(cè)量系統(tǒng)當(dāng)前所需偏置，即將輸出確定為零，采集當(dāng)前原始測(cè)量結(jié)果，根據(jù)測(cè)量系統(tǒng)計(jì)算模型逆推偏置數(shù)值，并且將其激活為當(dāng)前配置。
進(jìn)一步地，步驟b、c、f中搜索零高斯點(diǎn)的步驟如下讀取當(dāng)前位置零位傳感器輸出值B，減去背景磁場(chǎng)因素B0，根據(jù)比例因子K，依據(jù)公式(2)計(jì)算得出當(dāng)前位置距離零高斯點(diǎn)的位移s，然后逐漸逼近，如此往復(fù)執(zhí)行，直至滿足預(yù)設(shè)條件。
s＝K·(B-B0) (2)與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的零點(diǎn)傳感器的布局和提高重復(fù)精度的方法，有效保證了運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的高重復(fù)精度，有效降低后續(xù)運(yùn)算處理負(fù)擔(dān)，起到了提高生產(chǎn)效率的有益效果。


通過(guò)以下對(duì)本發(fā)明一實(shí)施例結(jié)合其附圖的描述，可以進(jìn)一步理解其發(fā)明的目的、具體結(jié)構(gòu)特征和優(yōu)點(diǎn)。其中，附圖為圖1a為零位傳感器與零位磁鐵的垂向位置關(guān)系示意圖；圖1b為零位傳感器與零位磁鐵的水平位置關(guān)系示意圖；圖2為零高斯點(diǎn)的示意圖；圖3為運(yùn)動(dòng)平臺(tái)偏轉(zhuǎn)角度算法原理圖；圖4為測(cè)量模型示意圖。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明提供一種面向高端應(yīng)用的高精密加工設(shè)備的用于提高運(yùn)動(dòng)平臺(tái)重復(fù)精度的工件臺(tái)結(jié)構(gòu)及方法。所述高精密加工設(shè)備可以是半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、微加工設(shè)備等等。
請(qǐng)參閱圖1a、1b，用于提高加工設(shè)備運(yùn)動(dòng)平臺(tái)重復(fù)精度的工件臺(tái)結(jié)構(gòu)主要包括如下部分測(cè)量系統(tǒng)、運(yùn)動(dòng)平臺(tái)7、固裝于運(yùn)動(dòng)平臺(tái)7上表面的兩個(gè)零位磁鐵5、6、固裝于基準(zhǔn)板4的基準(zhǔn)平面40上的霍爾元件即三個(gè)零位傳感器1、2、3以及水平三自由度x、y、rz(x、y平面上的旋轉(zhuǎn))執(zhí)行機(jī)構(gòu)等等。其中零位傳感器1通過(guò)對(duì)零位磁鐵5的感應(yīng)，確定運(yùn)動(dòng)平臺(tái)7在x向的位置坐標(biāo)，零位傳感器2、3通過(guò)對(duì)零位磁鐵6的感應(yīng)，確定運(yùn)動(dòng)平臺(tái)7在y向的位置坐標(biāo)。因此為便于敘述，零位磁鐵5定義為x向零位磁鐵5；零位磁鐵6定義為y向零位磁鐵6；零位傳感器1定義為x向零位傳感器1；零位傳感器2、3定義為y向零位傳感器2、3，又由于兩個(gè)y向零位傳感器在y向位置坐標(biāo)不同，為避免混淆，分別定義為y1向零位傳感器2和y2向零位傳感器3，以下同。為滿足高精度運(yùn)動(dòng)要求，水平向測(cè)量系統(tǒng)采用激光干涉儀8、9，運(yùn)動(dòng)平臺(tái)7在水平向三自由度(x，y，rz)可控制。
所述方法依賴于零位傳感器1、2、3與零位磁鐵5、6的布局來(lái)提高重復(fù)精度。x向零位傳感器1與y1向零位傳感器2相鄰為一組，用于共同搜索運(yùn)動(dòng)平臺(tái)7的實(shí)際零點(diǎn)坐標(biāo)；y2向零位傳感器3一組，用于搜索運(yùn)動(dòng)平臺(tái)7運(yùn)動(dòng)到y(tǒng)2向零位傳感器3位置處時(shí)實(shí)際的y坐標(biāo)。所述的y1向零位傳感器2與y2向零位傳感器3在x向相隔固定距離Lm(米)，L的大小根據(jù)根據(jù)加工設(shè)備的硬件條件確定。上述提高運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的重復(fù)精度的方法主要采用如下步驟來(lái)實(shí)現(xiàn)1.將運(yùn)動(dòng)平臺(tái)7運(yùn)動(dòng)至特定位置，采樣當(dāng)前位置分別取出x向零位傳感器1、y1向零位傳感器2、y2向零位傳感器3的輸出，依據(jù)公式(1)分別取背景磁場(chǎng)強(qiáng)度B0，其中n為采樣點(diǎn)數(shù)；B0=Σi=1NBi/n---(1)]]>
2.運(yùn)動(dòng)平臺(tái)7運(yùn)動(dòng)到名義零點(diǎn)位置(x，y1)，即零位磁鐵5、6與零位傳感器1、2的垂向正對(duì)位置，然后分別進(jìn)行搜索x向與y向的零高斯點(diǎn)步驟，如圖2所示，搜索完成保存當(dāng)前坐標(biāo)值(即激光干涉儀測(cè)量結(jié)果)，其中搜索零高斯點(diǎn)的步驟如下讀取當(dāng)前位置零位傳感器輸出值B，減去背景磁場(chǎng)因素B0，根據(jù)比例因子K，依據(jù)公式(2)計(jì)算得出當(dāng)前位置距離零高斯點(diǎn)的位移s，然后逐漸逼近，如此往復(fù)執(zhí)行，直至滿足預(yù)設(shè)條件；s＝K·(B-B0) (2)3.搜索完成，運(yùn)動(dòng)平臺(tái)靜止于(x′，y1′)點(diǎn)，然后以此位置為基準(zhǔn)點(diǎn)，沿x向相對(duì)該基準(zhǔn)(x′，y1′)運(yùn)動(dòng)固定距離Lm至名義Y2傳感器3位置(x0，y2)處，進(jìn)行y向的零高斯點(diǎn)搜索，搜索過(guò)程與步驟b中所述相同；4.搜索完成，運(yùn)動(dòng)平臺(tái)7靜止于點(diǎn)(x0，y2′)，然后沿x負(fù)方向運(yùn)動(dòng)Lm至(x′，y1′)點(diǎn)附近，依據(jù)搜索結(jié)果計(jì)算偏轉(zhuǎn)角度α，請(qǐng)參閱圖3；α＝arctg((y2′-y1′)/L) (3)因偏轉(zhuǎn)角α通常很微小，因此該公式可簡(jiǎn)化處理α≈(y2′-y1′)/L (4)5.上述計(jì)算結(jié)果即為當(dāng)前運(yùn)動(dòng)平臺(tái)坐標(biāo)系方向與基準(zhǔn)方向(零位傳感器確定的基準(zhǔn)方向)的夾角，運(yùn)動(dòng)平臺(tái)在rz反方向運(yùn)動(dòng)上述角度α；6.重新搜索零點(diǎn)位置，搜索過(guò)程與步驟b中所述相同，此時(shí)運(yùn)動(dòng)平臺(tái)物理位置已經(jīng)確定，即物理位置的重復(fù)性已經(jīng)得到保證，然而其坐標(biāo)值輸出值卻不為零；7.根據(jù)應(yīng)用場(chǎng)景計(jì)算激光干涉儀當(dāng)前所需偏置，計(jì)算原理如圖4所示，即將輸出確定為零，采集當(dāng)前原始測(cè)量結(jié)果，根據(jù)測(cè)量系統(tǒng)計(jì)算模型逆推偏置數(shù)值，并且將其激活為當(dāng)前配置，則保證坐標(biāo)輸出同時(shí)為0，這樣在保證物理位置重復(fù)性的同時(shí)也保證了坐標(biāo)輸出結(jié)果的重復(fù)性。
采用上述傳感器布局及實(shí)現(xiàn)方法，有效保證了加工設(shè)備運(yùn)動(dòng)平臺(tái)7的高重復(fù)精度，大大提高了設(shè)備系統(tǒng)性能。本發(fā)明公開(kāi)的實(shí)現(xiàn)方法，適用于任何具有高重復(fù)精度要求的高精設(shè)備。雖然基于加工設(shè)備其他硬件結(jié)構(gòu)布局的差異，在實(shí)現(xiàn)細(xì)節(jié)上稍有不同，但均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。以下部分以加工設(shè)備為半導(dǎo)體領(lǐng)域的步進(jìn)掃描光刻機(jī)為例，來(lái)說(shuō)明步進(jìn)掃描光刻機(jī)采用本發(fā)明的實(shí)現(xiàn)方法的具體過(guò)程。
步進(jìn)掃描光刻機(jī)的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)7為承載硅片的硅片臺(tái)，請(qǐng)參閱圖1a、1b，根據(jù)硅片與硅片物理特性，選擇y1向、y2向零點(diǎn)傳感器2、3沿x向之間的特定的工裝距離Lm。
根據(jù)步驟1，將硅片臺(tái)運(yùn)動(dòng)至特定位置，讀取背景磁場(chǎng)，根據(jù)公式(1)，根據(jù)實(shí)際需要選取n值的，讀取背景磁場(chǎng)強(qiáng)度并保存，且需要分別測(cè)得B0x、B0y1、B0y2。
根據(jù)步驟2，首先運(yùn)動(dòng)硅片臺(tái)至名義零點(diǎn)位置，然后搜索精確的x、y1的精確坐標(biāo)值(x′，y1′)，滿足預(yù)設(shè)條件即搜索成功，根據(jù)公式(2)，計(jì)算得出當(dāng)前位置與零高斯點(diǎn)的距離，并與預(yù)設(shè)值進(jìn)行比較，符合要求停止逼近。
根據(jù)步驟3，硅片臺(tái)沿x向運(yùn)動(dòng)Lm至名義y2零點(diǎn)傳感器3位置(x0，y2)，搜索精確坐標(biāo)值；根據(jù)步驟4，依據(jù)公式(4)計(jì)算偏轉(zhuǎn)角度，得出當(dāng)前硅片臺(tái)坐標(biāo)與基準(zhǔn)方向的夾角。
根據(jù)步驟5，修正上述角度，使硅片臺(tái)當(dāng)前方向與基準(zhǔn)方向保持一致，此時(shí)硅片臺(tái)rz方向的物理重復(fù)性已得到保證。
根據(jù)步驟6，將硅片臺(tái)沿x負(fù)方向運(yùn)動(dòng)Lm，即回到(x′，y1′)點(diǎn)附近，重新搜索該準(zhǔn)確位置。搜索成功保持靜止，該位置即為當(dāng)前硅片臺(tái)坐標(biāo)原點(diǎn)，或作為坐標(biāo)原點(diǎn)基準(zhǔn)位置。
通過(guò)以上流程不但保證了坐標(biāo)原點(diǎn)(0，0)點(diǎn)的重復(fù)性，也有效保證了rz方向的重復(fù)性。物理位置雖已得到有效保證，但其測(cè)量輸出卻并不是(0，0，0)也不是加上某一固定偏置的測(cè)量結(jié)果。因此根據(jù)步驟7，修正測(cè)量模型偏置參數(shù)，保證測(cè)量輸出的精確性，具體偏置算法與測(cè)量模型關(guān)系密切，實(shí)際為一逆向運(yùn)算得出偏置設(shè)置。本例中經(jīng)整理簡(jiǎn)化后算法如下，以x向激光干涉測(cè)量光束的第一束(簡(jiǎn)稱“x1”)進(jìn)行偏置計(jì)算為例fringes_at_zero_x＝beam_len_at_zero_x/λoffset_x1＝fringes_at_zero_x+2*rz_x-raw_if_x1注beam_len_at_zero_x為設(shè)備固有常數(shù)；
λ為測(cè)量光波長(zhǎng)；fringes_at_zero_x為坐標(biāo)零點(diǎn)至干涉儀出光面的波長(zhǎng)計(jì)數(shù)；rz_x為模型參數(shù)，rz對(duì)x的影響因子；raw_if_x1為當(dāng)前位置測(cè)量結(jié)果原始值。
根據(jù)以上流程分別計(jì)算得出測(cè)量光束的偏置，同時(shí)更新測(cè)量系統(tǒng)模型參數(shù)并激活，則硅片臺(tái)的坐標(biāo)不僅在物理位置上保證了高重復(fù)性，而且在邏輯上保證了輸出結(jié)果與之對(duì)應(yīng)，從而達(dá)到預(yù)期目的，實(shí)際應(yīng)用中明顯提高硅片臺(tái)重復(fù)精度30％，有效降低后續(xù)運(yùn)算處理負(fù)擔(dān)，提高生產(chǎn)效率。
權(quán)利要求
1.一種精密加工設(shè)備的提高重復(fù)精度的工件臺(tái)結(jié)構(gòu)，其包括運(yùn)動(dòng)平臺(tái)和基準(zhǔn)平面，其特征在于，運(yùn)動(dòng)平臺(tái)上表面固裝有x向零位磁鐵、y向零位磁鐵，基準(zhǔn)平面上固裝有x向零位傳感器、y1向零位傳感器、y2向零位傳感器，且所述的y1向零位傳感器與y2向零位傳感器在x向相隔固定距離。
2.如權(quán)利要求1所述的工件臺(tái)結(jié)構(gòu)，其特征在于所述零位傳感器為霍爾元件。
3.如權(quán)利要求1所述的工件臺(tái)結(jié)構(gòu)，其特征在于運(yùn)動(dòng)平臺(tái)位于名義零點(diǎn)位置時(shí)，所述x向零位傳感器及y1向零位傳感器分別與x向零位磁鐵及y1向磁鐵垂向正對(duì)。
4.一種采用如權(quán)利要求1所述工件臺(tái)結(jié)構(gòu)提高重復(fù)精度的方法，其特征在于，該方法包括如下步驟a.將運(yùn)動(dòng)平臺(tái)運(yùn)動(dòng)至特定位置，采樣當(dāng)前位置分別取出x向零位傳感器、y1向零位傳感器、y2向零位傳感器的輸出，依據(jù)公式(1)分別取上述三個(gè)零位傳感器的背景磁場(chǎng)強(qiáng)度B0，其中n為采樣點(diǎn)數(shù)；B0=Σi=1nBi/n...(1)]]>b.運(yùn)動(dòng)平臺(tái)運(yùn)動(dòng)首先到名義零點(diǎn)位置(x，y1)，即x向零位磁鐵及y1向磁鐵分別與x向零位傳感器及y1向零位傳感器垂向正對(duì)的位置，然后分別進(jìn)行搜索x向與y向的零高斯點(diǎn)步驟；c.搜索完成，運(yùn)動(dòng)平臺(tái)靜止于(x′，y1′)點(diǎn)，然后以此位置為基準(zhǔn)點(diǎn)，相對(duì)該基準(zhǔn)點(diǎn)(x′，y1′)在x向運(yùn)動(dòng)所述固定距離至y2零點(diǎn)傳感器名義位置(x0，y2)處，進(jìn)行y向的零高斯點(diǎn)搜索；d.搜索完成，運(yùn)動(dòng)平臺(tái)靜止于(x0，y2′)，然后運(yùn)動(dòng)平臺(tái)在(x0，y2′)點(diǎn)處沿x負(fù)方向運(yùn)動(dòng)所述固定距離至(x′，y1′)點(diǎn)附近，依據(jù)公式(4)搜索結(jié)果計(jì)算偏轉(zhuǎn)角度α，其中L為所述固定距離；α≈(y2′-y1′)/L (4)e.運(yùn)動(dòng)平臺(tái)在rz反方向運(yùn)動(dòng)上述角度α；f進(jìn)行x向與y向的零高斯點(diǎn)搜索，.重新搜索零點(diǎn)位置；g.計(jì)算測(cè)量系統(tǒng)當(dāng)前所需偏置，即將輸出確定為零，采集當(dāng)前原始測(cè)量結(jié)果，根據(jù)測(cè)量系統(tǒng)計(jì)算模型逆推偏置數(shù)值，并且將其激活為當(dāng)前配置。
5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于步驟b、c、f中搜索零高斯點(diǎn)的步驟執(zhí)行如下讀取當(dāng)前位置零位傳感器輸出值B，減去背景磁場(chǎng)因素B0，根據(jù)比例因子K，依據(jù)公式(2)計(jì)算得出當(dāng)前位置距離零高斯點(diǎn)的位移s，然后逐漸逼近，如此往復(fù)執(zhí)行，直至零位傳感器輸出值B等于背景磁場(chǎng)因素B0。s＝K·(B-B0)(2)
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種提高重復(fù)精度的工件臺(tái)結(jié)構(gòu)及方法，涉及高精度加工設(shè)備領(lǐng)域。該工件臺(tái)結(jié)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)固裝有x、y向零位磁鐵，基準(zhǔn)平面上固裝有x、y1、y2向零位傳感器，y1、y2向零位傳感器在x向相隔固定距離。該方法包括將運(yùn)動(dòng)平臺(tái)運(yùn)動(dòng)至特定位置，取背景磁場(chǎng)強(qiáng)度；運(yùn)動(dòng)平臺(tái)運(yùn)動(dòng)到名義零點(diǎn)位置(x，y1)，搜索x向與y向的零高斯點(diǎn)；運(yùn)動(dòng)平臺(tái)靜止于(x′，y1′)點(diǎn)，以此位置為基準(zhǔn)，沿x向相對(duì)該基準(zhǔn)運(yùn)動(dòng)固定距離至名義y2零點(diǎn)傳感器位置處，進(jìn)行零高斯點(diǎn)搜索；計(jì)算偏轉(zhuǎn)角度；運(yùn)動(dòng)平臺(tái)在rz反方向運(yùn)動(dòng)該角度；重新搜索零點(diǎn)位置；計(jì)算測(cè)量系統(tǒng)當(dāng)前所需偏置。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明有效保證了運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的高重復(fù)精度，有效降低后續(xù)運(yùn)算處理負(fù)擔(dān)。
文檔編號(hào)G03F7/20GK101067726SQ20071004162
公開(kāi)日2007年11月7日 申請(qǐng)日期2007年6月5日 優(yōu)先權(quán)日2007年6月5日
發(fā)明者楊鋒力, 劉君, 沈錦華 申請(qǐng)人:上海微電子裝備有限公司