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      光學(xué)用薄膜及使用它的透明導(dǎo)電性構(gòu)件、透明觸控面板的制作方法

      文檔序號:2737650閱讀:190來源:國知局

      專利名稱::光學(xué)用薄膜及使用它的透明導(dǎo)電性構(gòu)件、透明觸控面板的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      :本發(fā)明是涉及可維持其硬涂性及透視分辨率、并且抑制干涉橫紋的光學(xué)用薄膜及使用它的透明導(dǎo)電性構(gòu)件、透明觸控面板。
      背景技術(shù)
      :近年來,作為影像顯示元件,液晶顯示裝置備受矚目。液晶顯示裝置被應(yīng)用于手機(jī)用的電子記事本、信息終端機(jī)等,例如用作手機(jī)用電子記事本、信息終端機(jī)等的輸入裝置。當(dāng)使用液晶顯示元件作為輸入裝置時(shí),是釆用液晶顯示元件上搭載透明的觸控面板的構(gòu)造。特別是由價(jià)格等的觀點(diǎn)而言,一般是使用電阻膜方式的觸控面板。電阻膜方式的觸控面板,一般是使用以適當(dāng)?shù)拈g隙隔開透明導(dǎo)電性薄膜與附有透明導(dǎo)電膜的玻璃而配置的構(gòu)造。透明導(dǎo)電性薄膜是通過手指或筆壓下而與對置的附有透明導(dǎo)電膜的玻璃接觸,使兩者通電。因此,壓下的動(dòng)作可通過是否通電而檢驗(yàn)出。作為透明導(dǎo)電性薄膜,一般使用在塑料薄膜等基材薄膜的下面(與附有透明導(dǎo)電膜的玻璃相對置的面)形成銦一錫氧化物(以下簡稱IT0)等透明導(dǎo)電膜的薄膜。作為基材薄膜,可使用在透明高分子薄膜的表面上設(shè)置透明硬涂膜的透明硬涂薄膜。通過使用透明硬涂薄膜作為透明導(dǎo)電性薄膜的基材薄膜,而使透明導(dǎo)電性薄膜的耐久性提高。另外,在使用手機(jī)用電子記事本、信息終端機(jī)等輸入裝置的環(huán)境下,多使用三波長熒光燈作為照明。其原因在于,三波長熒光燈是使特定的三波長的發(fā)光強(qiáng)度大,具有可確實(shí)地看見物體的特性。但是,如專利文獻(xiàn)l上所記載的,組裝入目前觸控面板等的透明硬涂薄膜,會發(fā)生因透明硬涂膜的厚度不均所引起的干涉橫紋,特別是在以三波長熒光燈作為照明的環(huán)境下,將會有干涉橫紋很明顯的問題發(fā)生。此干涉橫紋雖可通過使構(gòu)成透明硬涂薄膜的透明高分子薄膜與透明硬涂膜的4折射率相同而消除,但要一邊維持透明硬涂膜的硬涂性一邊調(diào)整折射率是困難的。此外,通過使透明硬涂膜上含有消光(matt)劑后,使其表面為凹凸面,從而雖也可使干涉橫紋不明顯,但透過透明硬涂薄膜所看到的像的分辨率(透視分辨率)將會降低。在專利文獻(xiàn)l中,揭示了通過調(diào)整透明硬涂膜的色調(diào)與彩度來抑制干涉橫紋。為了抑制由于設(shè)置在硬涂膜上的抗反射層的厚度不均而發(fā)生的干涉橫紋,在專利文獻(xiàn)2中,揭示了使抗反射層在固定的折射率范圍下成為高折射率層與低折射率層的2層構(gòu)造?!矊@墨I(xiàn)1〕日本特開2003—334891號公報(bào)(
      背景技術(shù)
      )〔專利文獻(xiàn)2)日本特開2005—257840號公報(bào)(
      背景技術(shù)
      )
      發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是以提供一種可維持其硬涂性及透視分辨率、且干涉橫紋不明顯的光學(xué)用薄膜為其目的。此外,也以提供使用此光學(xué)用薄膜作為基材的透明導(dǎo)電性構(gòu)件為目的。而且,以提供使用此透明導(dǎo)電性構(gòu)件的觸控面板為目的。經(jīng)本發(fā)明者們專致研究的結(jié)果發(fā)現(xiàn),通過使構(gòu)成光學(xué)用薄膜的各層的折射率呈特定關(guān)系,而可使干涉橫紋不明顯,上述課題則獲得解決。也即,本發(fā)明的光學(xué)用薄膜,是在基材層的至少一側(cè)的面上依次層疊了底涂層、樹脂層,當(dāng)設(shè)基材層的折射率為na、底涂層的折射率為nb、樹脂層的折射率為nc時(shí),滿足na蕓nbSnc或na^nb^nc的關(guān)系(其中,na^nc),且基材層的折射率與樹脂層的折射率的差為0.5以內(nèi)。此外,本發(fā)明的光學(xué)用薄膜,其特征例如,相鄰的層的折射率的差為0.2以內(nèi)。本發(fā)明的光學(xué)用薄膜,其特征例如,前述底涂層的以JISK6768:1999所規(guī)定的表面濕潤張力為40mN/m以上。本發(fā)明的光學(xué)用薄膜的特征例如,以JISK7105:1981所規(guī)定的霧度為5%以下。此外,本發(fā)明的光學(xué)用薄膜,其特征例如,前述樹脂層為硬涂層。本發(fā)明的光學(xué)用薄膜,其特征例如,前述基材層、底涂層及樹脂層的5折射率的關(guān)系為na^nb^nc(其中,na^nc),且基材層的折射率為1.45以上1.75以下,底涂層的折射率為1.40以上1.70以下,樹脂層的折射率為1.35以上1.65以下。本發(fā)明的透明導(dǎo)電性構(gòu)件,其特征在于,上述光學(xué)用薄膜的至少一側(cè)的面上具有透明導(dǎo)電膜。而且,本發(fā)明的透明觸控面板,其特征是至少在單面上設(shè)置有透明導(dǎo)電膜的2片透明電極基板,以相互的透明導(dǎo)電膜彼此相對置的方式進(jìn)行配置而構(gòu)成的透明觸控面板,其中,使用上述的透明導(dǎo)電性構(gòu)件作為透明電極基板中的至少一個(gè)。此外,本發(fā)明的透明觸控面板,其特征例如,2片透明電極基板之中,一個(gè)為可動(dòng)電極基板,另一個(gè)為固定電極基板,且使用上述透明導(dǎo)電性構(gòu)件作為可動(dòng)電極基板。根據(jù)本發(fā)明,可提供能夠既維持硬涂性及透視分辨率,又通過使構(gòu)成光學(xué)用薄膜的各層的折射率呈特定關(guān)系而讓干涉橫紋不明顯的光學(xué)用薄膜以及使用光學(xué)用薄膜作為基材的透明導(dǎo)電性構(gòu)件。進(jìn)而,可提供使用此透明導(dǎo)電性構(gòu)件的觸控面板。圖1表示本發(fā)明的光學(xué)用薄膜的一實(shí)施方式的剖視圖。圖2表示本發(fā)明的透明觸控面板的一實(shí)施方式的剖視圖。圖中l(wèi)一透明觸控面板;2—光學(xué)用薄膜;3—透明導(dǎo)電膜;4一透明導(dǎo)電性構(gòu)件;5—間隔物;6—玻璃基板;7—透明導(dǎo)電膜;21—基材層;22—底涂層;23—樹脂層具體實(shí)施方式對本發(fā)明的光學(xué)用薄膜的實(shí)施方式進(jìn)行說明。本發(fā)明的光學(xué)用薄膜2如圖1所示,具有基材層21、配置于基材層21的至少一側(cè)的面上的底涂層22與層疊于底涂層22上面的樹脂層23。樹脂層23是具有硬涂性的層。而此3層的折射率則設(shè)計(jì)成具有規(guī)定的關(guān)系。更具體地,當(dāng)基材層21的折射率為na、底涂層22的折射率為nb、樹脂層23的折射率為nc時(shí),是滿足nainb^nc或na^nb^nc的關(guān)系(其中,na^nc),且設(shè)計(jì)基材層21的折射率與樹脂層23的折射率的差在0.5以內(nèi)。如此,基材層21與樹脂層23之間,配置有底涂層22,當(dāng)基材層21、底涂層22、樹脂層23的折射率在滿足上述關(guān)系時(shí),因這3層的界面的折射率差變小,從而能夠抑制因樹脂層23的厚度不均引起的干涉紋。由此,可使干涉橫紋及因干涉橫紋引起的色彩不均(以下簡稱干涉不均)變得不明顯。但即使?jié)M足na^nbSnc或na^nb^nc的關(guān)系,若基材層21與樹脂層23的折射率的差大于0.5,則發(fā)生于各層界面的折射率變化變大,以至于無法抑制干涉不均的發(fā)生。更優(yōu)選,基材層21、底涂層22與樹脂層23是其相鄰的層的折射率差在0.2以內(nèi)。如此,可因相鄰的層的折射率差變小而對于抑制干涉不均更為有利。特別優(yōu)選,設(shè)計(jì)各層的折射率為na^nb^nc。具體而言,是使基材層的折射率在1.45以上1.75以下,底涂層的折射率在1.40以上1.70以下,樹脂層的折射率在1.35以上1.65以下的范圍。為了防止樹脂層23的硬涂性降低的主要原因,底涂層22優(yōu)選為單層,并適當(dāng)?shù)卦O(shè)計(jì)其材質(zhì)及厚度。此外,通過適當(dāng)?shù)卦O(shè)計(jì)底涂層22的材質(zhì)及厚度,可產(chǎn)生使基材層21與樹脂層23的密著性提高的作用。一般而言,為了抑制干涉不均,雖可考慮使具有硬涂性的樹脂層23由氟樹脂等來形成,而使基材層21與樹脂層23的折射率變小,但此樹脂層23容易變脆,且與基材層21的密著性也會降低的緣故而不為優(yōu)選。此外,一般因基材層21要比樹脂層23的折射率大,為使兩者的折射率差變小,也可考慮通過混合如金屬等折射率高的物質(zhì)而使樹脂層23的折射率提高,但因會導(dǎo)致硬涂性降低而不為優(yōu)選。本發(fā)明中,通過配置底涂層22,且適當(dāng)?shù)卦O(shè)計(jì)3層的折射率差,從而并不會產(chǎn)生如此的問題且抑制了干涉不均的發(fā)生。作為本發(fā)明的光學(xué)用薄膜的基材層21,只要是透過率高者皆可,例如可使用聚酯系樹脂、丙烯系樹脂、丙烯氨基甲酸乙酯系樹脂、聚酯丙烯酸酯系樹脂、聚氨酯丙烯酸酯系樹脂、環(huán)氧丙烯酸酯系樹脂、氨基甲酸乙酯7系樹脂、環(huán)氧系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、纖維素系樹脂、聚甲醛系樹脂、乙烯系樹脂、聚乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚酰亞胺系樹脂、三聚氰胺系樹脂、苯酚系樹脂、聚硅氧烷系樹脂、氟系樹脂、環(huán)狀烯烴等的1種或混合2種以上的透明性優(yōu)異的高分子薄膜。特別是經(jīng)二軸延伸的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜因機(jī)械性強(qiáng)度、尺寸穩(wěn)定性優(yōu)異而很適合使用。此外,因耐熱性優(yōu)異,在需要耐熱性的用途上,可使用聚萘二甲酸乙二醇酯。作為基材的厚度,并無特別限制,若為便于操作的厚度即可,一般為10"m500um左右,優(yōu)選為12um350um。底涂層22既可以設(shè)置于基材層21的至少一側(cè)的面上,也可以設(shè)置于基材層21的兩面。底涂層22是可由例如熱可塑性樹脂或熱固化性樹脂而形成。作為底涂層22的厚度,優(yōu)選為0.031um程度。0.03yro以上為了提高基材層21與樹脂層23的密著性,而lum以下則是為了抑制因底涂層22的厚度不均所引起的干涉不均,而且不降低樹脂層23的硬涂性。作為用于底涂層22的熱可塑性樹脂或熱固化性樹脂,可使用聚酯系樹脂、丙烯系樹脂、丙烯基氨基甲酸乙酯系樹脂、聚酯丙烯酸酯系樹脂、聚氨酯丙烯酸酯系樹脂、環(huán)氧丙烯酸酯系樹脂、氨基甲酸乙酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、纖維素系樹脂、聚甲醛系樹脂、聚乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚酰亞胺系樹脂、三聚氰胺系樹脂、苯酚系樹脂、聚硅氧烷系樹脂等的1種或2種以上。此外,底涂層22優(yōu)選是以JISK6768:1999所規(guī)定的表面濕潤張力為40mN/m以上。因表面濕潤張力為40raN/m以上,而使樹脂層23的不均消失呈均勻平滑的涂膜,從而可抑制因樹脂層23的厚度不均所導(dǎo)致的干涉不均。且可抑制基材層21與樹脂層23的密著性不良。此外,通過防止干涉不均,可防止因反射狀態(tài)所導(dǎo)致透視分辨率變差的問題。而表面濕潤張力依樹脂本來的性質(zhì),不一定為40raN/m以上。在底涂層22的表面上,通過施以電暈放電處理等可提高表面濕潤張力,也可使其成為40mN/m以上。作為樹脂層23,可使用熱可塑性樹脂、熱固化性樹脂、電離輻射線固化性樹脂等的樹脂。特別是當(dāng)其由電離輻射線固化性樹脂所形成時(shí),因表面硬度等所代表的硬涂性可獲得發(fā)揮而為優(yōu)選。作為樹脂層23,當(dāng)其作為光學(xué)用薄膜時(shí)的表面硬度,優(yōu)選為H以上,更優(yōu)選為3H以上。若小于H時(shí),因?yàn)槿菀啄p而不為優(yōu)選。光學(xué)用薄膜的用途若是被要求要有顯著的視覺辨識性及透過性的用途時(shí),則希望樹脂層23中不要添加顏料。因其會成為視覺辨識性及透過性降低的主要原因,而且,會損及光澤感等外觀性。例如,作為光學(xué)用薄膜時(shí)于JISK7105:1981所規(guī)定霧度(haze)在5%以下為優(yōu)選,而更優(yōu)選在3%以下。作為構(gòu)成樹脂層23的熱可塑性樹脂、熱固化性樹脂,可使用上述底涂層22中所用的樹脂。作為電離輻射線固化性樹脂,則可使用通過電離輻射線(紫外線或電子線)的照射而可進(jìn)行交聯(lián)固化的光聚合性預(yù)聚物(pre-polymer),作為此光聚合性預(yù)聚物,特別優(yōu)選使用1分子中具有2個(gè)以上丙烯酰基,且通過交聯(lián)固化而可成為3維網(wǎng)狀構(gòu)造的丙烯系預(yù)聚物。作為此丙烯系預(yù)聚物,可使用氨基甲酸酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、環(huán)氧丙烯酸酯、三聚氰胺丙烯酸酯、聚氟烷基丙烯酸酯、聚硅氧烷丙烯酸酯等。而且,這些丙烯系預(yù)聚物也可以單獨(dú)使用,但若是為了提高交聯(lián)固化性且使表面保護(hù)膜的硬度更得以提高,則優(yōu)選添加光聚合性單體(monomer)。作為光聚合性單體,可使用2—乙基己基丙烯酸酯、2—羥基乙基丙烯酸酯、2—羥基丙基丙烯酸酯、丁氧基乙基丙烯酸酯等的單官能(mono-functional)丙烯單體;1,6—己烷二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸酯新戊二醇二丙烯酸酯等的雙官能(bi-functional)丙烯單體;二季戊四醇六丙烯酸酯、三甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯等的多官能(multi-functional)丙烯單體等的1種或2種以上。當(dāng)使電離輻射線固化性樹脂通過紫外線照射而固化時(shí),除了使用上述的光聚合性預(yù)聚體以及光聚合性單體之外,優(yōu)選使用光聚合起始劑或光聚合促進(jìn)劑等的添加劑。作為光聚合起始劑,可舉出苯乙酮、二苯甲酮、米希勒酮(Michler'sketone)、二苯乙醇酮、芐基甲基縮酮、苯酰苯甲酸酯、a—?;旷?、硫雜蒽酮類等。此外,作為光聚合促進(jìn)劑,能減輕因固化時(shí)的空氣所引起的聚合阻礙并加速固化速度,可舉例如P—二甲基胺基安息香酸異戊酯、P—二甲基胺基安息香酸乙基酯等。此外,構(gòu)成底涂層22與樹脂層23各層的樹脂,為了提高層與層之間的密著性,優(yōu)選選擇成為主成分的樹脂的溶解度系數(shù)互相接近的樹脂。特別優(yōu)選溶解度系數(shù)的差在1以內(nèi)的樹脂。例如,樹脂層23中使用電離輻射線固化性樹脂時(shí)所選擇的樹脂,是使構(gòu)成電離輻射線固化性樹脂的預(yù)聚物的主要的預(yù)聚物成分的溶解度系數(shù)與構(gòu)成底涂層22主要的樹脂的單體成分的溶解度系數(shù)差為1以內(nèi)的樹脂。具體而言,當(dāng)形成樹脂層23的電離輻射線固化性樹脂的預(yù)聚物成分為氨基甲酸酯丙烯酸酯時(shí),其溶解度系數(shù)為10,可通過使用與此溶解度系數(shù)10的差為1以內(nèi)的飽和聚酯樹脂,形成底涂層22。此外,樹脂層23的厚度因使用的樹脂等而不同,但為發(fā)揮硬涂性,一般為0.5um15um,更優(yōu)選為2um10um左右。使樹脂層23的厚度為0.5ixm以上,是為了能夠賦予足夠的硬涂性。而使其為15ym以下則可防止因樹脂層的固化收縮所發(fā)生的彎曲,此外,也是為了可以防止因紫外線照度不夠所引發(fā)的固化不足以及與底涂層的密著性降低等問題。另外,在基材層21的與樹脂層23相反的面上,可設(shè)置粘著層。粘著層的材質(zhì)是可使用公知的,例如天然橡膠系、再生橡膠系、氯丁二烯橡膠系、硝基橡膠系、苯乙烯,丁二烯系等的彈性體粘著劑;丙烯系、聚酯系、環(huán)氧系、氨基甲酸乙酯系、氰基丙烯酸酯系等的合成樹脂粘著劑;此外,還有乳劑系粘著劑等。為了發(fā)揮粘著性,一般粘著層的厚度為15um以上,因而對于干涉不均幾乎不產(chǎn)生影響。作為以上所述的底涂層22、樹脂層23、粘著層的形成方法,可使用如下方法即搭配各自的構(gòu)成成分或根據(jù)需要的其它成分,進(jìn)而在適當(dāng)?shù)娜軇┲惺蛊淙芙饣蚍稚碚{(diào)制涂敷液,并將該涂敷液通過輥筒涂敷法、桿式涂敷(bar-coating)法、噴霧涂敷法、氣刀涂敷(airknifecoating)法等公知的方法進(jìn)行涂敷、干燥之后,利用適當(dāng)而必要的周化方法使其固化。此外,在以上說明的各層2123及粘著層中,也可使其保有紫外線吸收性能。特別是使350380nm范圍的光線透過率為0.1%70°/。左右時(shí),既可保持硬涂性,也可賦予耐候性。當(dāng)在樹脂層23中使用了電離輻射線固化性樹脂時(shí),通過調(diào)整電離輻射線固化性樹脂固化的紫外線區(qū)域與吸收的紫外線區(qū)域,可不影響樹脂層23的固化,而賦予紫外線吸收性。例如,優(yōu)選使用在與紫外線吸收劑的吸收波長區(qū)域的波峰差異20nm以上的位置上具有吸收波長區(qū)域的波峰的光聚合起始劑。由此,可使樹脂層23充分地固化,且可賦予優(yōu)異的硬涂性。此外,在本實(shí)施方式中,雖已如圖1所示說明了基材層21的單面上設(shè)置樹脂層23的情況,但樹脂層23也可設(shè)置于基材層21的兩面,在此情況下,優(yōu)選以基材層21為中心,在一側(cè)的面與另一側(cè)的面均分別設(shè)置底涂層22及樹脂層23,且兩面分別符合上述的折射率條件(naSnb^nc或na^nb^nc,且|na—nc|^0.5)。此時(shí),關(guān)于na^nb^nc或na^nb^nc的條件,基材層21的兩面是可滿足相同的條件,也可滿足不同的條件。例如,可以在基材層21的一側(cè)的面?zhèn)葷M足na^nb^nc,另一側(cè)的面?zhèn)葷M足na^nb^nc。接著,關(guān)于使用上述光學(xué)用薄膜而構(gòu)成的透明導(dǎo)電性構(gòu)件的實(shí)施方式,以圖2來進(jìn)行說明。圖2所示的透明導(dǎo)電性構(gòu)件4,在上述所構(gòu)成的光學(xué)用薄膜2的至少一側(cè)的面上具備有透明導(dǎo)電膜3。在此,在光學(xué)用薄膜2的與設(shè)置樹脂層23的面為反側(cè)的面上設(shè)置透明導(dǎo)電膜3的情況為例來進(jìn)行說明,但也可在樹脂層23上設(shè)置透明導(dǎo)電膜3。作為透明導(dǎo)電膜3的材質(zhì),可使用一般廣為人知的透明導(dǎo)電性材料。例如,可使用氧化銦、氧化錫、銦一錫氧化物、金、銀、鈀等的透明導(dǎo)電性物質(zhì)。它們可通過真空蒸鍍法、濺射法、離子噴涂法、溶液涂敷法等,在光學(xué)用薄膜的與樹脂層面的反側(cè)面上形成薄膜。此外,可使用由聚對苯、聚乙炔、聚苯胺、聚噻吩、聚對苯乙烯、聚吡咯、聚呋喃、聚硒吩、聚吡啶等的導(dǎo)電性高分子所成的有機(jī)導(dǎo)電性材料來形成透明導(dǎo)電膜。特別優(yōu)選使用透明性、導(dǎo)電性優(yōu)異,且較低成本即可取得的氧化銦、氧化錫或氧化銦錫的任一為主要成分的透明導(dǎo)電性材料。透明導(dǎo)電膜3的厚度,會因使用的材料而不同,故不能一概而論,但ii一般希望為表面電阻率在1000Q以下的厚度,優(yōu)選為500Q以下的厚度。例如,優(yōu)選為IOnm以上,而更優(yōu)選為20nm以上??紤]其經(jīng)濟(jì)性,則優(yōu)選為80nm以下,更優(yōu)選為70nm以下的范圍。在如此的薄膜中,難以產(chǎn)生因透明導(dǎo)電膜3的厚度不均所導(dǎo)致的可見光的干涉橫紋。此外,全光線透過率通常優(yōu)選為80%以上,更優(yōu)選為85%以上,而特別優(yōu)選為88%以上。如此構(gòu)成的透明導(dǎo)電性構(gòu)件4,因可使干涉不均不明顯,從而可作為抗靜電薄膜或紅外線屏蔽薄膜、抗反射薄膜、透明電極用構(gòu)件來使用。其次,關(guān)于本發(fā)明的透明觸控面板1的實(shí)施方式,以圖2來進(jìn)行說明。本發(fā)明的透明觸控面板1,是使至少于單面上設(shè)置有透明導(dǎo)電膜的2片透明電極基板以相互的透明導(dǎo)電膜彼此相對置的方式配置,且使一側(cè)為可動(dòng)電極的構(gòu)成。作為可動(dòng)側(cè)的透明電極基板使用了本發(fā)明的透明導(dǎo)電性構(gòu)件4。更具體而言,如圖2所示,在非可動(dòng)側(cè)的透明電極基板的玻璃基板6上,形成透明導(dǎo)電膜7,而其上配置有點(diǎn)狀的間隔物(spacer)5。上述實(shí)施方式的透明導(dǎo)電性構(gòu)件4是使透明導(dǎo)電膜3以與間隔物5相對置的方式與玻璃基板6相對置而配置。在透明導(dǎo)電性構(gòu)件4以及玻璃基板6的端部則配置有未圖示的電極。由此,可構(gòu)成電阻膜方式的透明觸控面板l。如此的透明觸控面板1可由使用者以指頭或筆等押下透明導(dǎo)電性構(gòu)件4,而使透明導(dǎo)電膜3與玻璃基板6上的透明導(dǎo)電膜7接觸。此接觸可通過端部的電極進(jìn)行電檢測,而檢測出被押下的位置。透明觸控面板1因使用透明導(dǎo)電性構(gòu)件4作為可動(dòng)電極的緣故,可抑制干涉不均。而且,本發(fā)明的光學(xué)用薄膜2因具有高硬涂性以及高透視分辨率的緣故,而使透明觸控面板l不容易受損,可使配置于觸控面板l下方的液晶顯示面板的顯示具有易于觀賞的效果。此外,間隔物5只要根據(jù)需要予以配置即可,也可使其為不配置間隔物5的構(gòu)成。也可使用本發(fā)明的透明導(dǎo)電性構(gòu)件4取代非可動(dòng)電極(玻璃基板6以及透明導(dǎo)電膜7)。由此,可成為更輕、更薄,不易破裂的觸控面板。〔實(shí)施例〕以下,通過實(shí)施例進(jìn)一步說明本發(fā)明。而且,「份」、「%」若無特12別限定,則作為重量基準(zhǔn)?!矊?shí)施例1)作為基材層21,使用了厚度188ym的透明高分子薄膜(聚對苯二甲酸乙二醇酯、折射率1.65)。在基材層21—側(cè)的表面上是通過桿式涂敷下述組成的底涂層用涂敷液進(jìn)行涂敷,使其加熱固化,形成厚度約0.2ym、折射率1.60的聚酯系樹脂制的底涂層22。再者,在底涂層22上,通過桿式涂敷下述組成的樹脂層用涂敷液進(jìn)行涂敷*干燥,并以高壓水銀燈實(shí)施紫外線照射使其固化之后,形成厚度約IOym、折射率1.50的電離輻射線固化性樹脂制的樹脂層23,而獲得實(shí)施例1的光學(xué)用薄膜?!吹淄繉佑猛糠笠赫凵渎?.60〉聚酯系樹脂1份(ElitelUE3200:尤尼吉可公司(UNITIKALTD))稀釋溶劑32份〈樹脂層用涂敷液折射率1.50〉電離輻射線固化性樹脂10份(Beamset575:荒川化學(xué)工業(yè)公司)光聚合起始劑0.5份(Irgacurel84:巴塞爾化學(xué)工業(yè)公司(CibaSpecialtyChemicalsK.K.))稀釋溶劑10份〔實(shí)施例2)使用折射率1.75的聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜作為基材層21。此外,與實(shí)施例1同樣獲得了實(shí)施例2的光學(xué)用薄膜。〔實(shí)施例3)基材層21使用了與實(shí)施例2相同的折射率1.75的聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜。作為底涂層用涂敷液與樹脂層用涂敷液分別使用了下述組成,通過與實(shí)施例1同樣的方法,形成厚度約0.2um、折射率1.50的丙烯樹脂制的底涂層22,以及厚度約10ym、折射率1.45的聚乙酸乙烯酯制的樹脂層23,而獲得實(shí)施例3的光學(xué)用薄膜。其中,在樹脂層23形成時(shí),未實(shí)施紫外線照射。〈底涂層用涂敷液折射率1.50〉丙烯樹脂1份(JURIMAFC-60:日本純藥公司)稀釋溶劑7份〈樹脂層用涂敷液折射率1.45〉*聚乙酸乙烯酯10份(柯賽羅(Gohsenol)GL-05:日本合成化學(xué)工業(yè)公司)稀釋溶劑10份〔實(shí)施例4〕基材層21使用了與實(shí)施例1相同的折射率1.65的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜。底涂層用涂敷液使用了下述組成。樹脂層用涂敷液使用了與實(shí)施例l相同組成。通過與實(shí)施例1同樣的方法,形成厚度約0.2um、折射率1.60的聚苯乙烯系樹脂制的底涂層22,以及厚度約10lim、折射率1.50的電離輻射線固化性樹脂制的樹脂層23,而獲得實(shí)施例4的光學(xué)用薄膜?!吹淄繉佑猛糠笠赫凵渎?.60〉聚苯乙烯系樹脂1份(HIStyron70:旭化成工業(yè)公司)稀釋溶劑7份〔實(shí)施例5)基材層21使用了與實(shí)施例1相同的折射率1.65的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜。底涂層用涂敷液使用了下述組成。樹脂層用涂敷液使用了與實(shí)施例l相同組成。通過與實(shí)施例1同樣的方法,形成厚度約0.2um、折射率1.60的聚偏氯乙烯樹脂制的底涂層22,以及厚度約IOiiiiK折射率1.50的電離輻射線固化性樹脂制的樹脂層23,而獲得實(shí)施例5的光學(xué)用薄膜?!吹淄繉佑猛糠笠赫凵渎?.60〉,聚偏氯乙烯樹脂2份(SalanLatexL-504:旭化成工業(yè)公司)稀釋溶劑31份〔實(shí)施例6〕基材層21使用了折射率1.49的聚丙烯薄膜。底涂層用涂敷液使用了與實(shí)施例3相同組成。樹脂層用涂敷液使用了下述組成。通過與實(shí)施例l同樣的方法,形成厚度約0.2um、折射率1.50的丙烯樹脂制的底涂層22,以及厚度約IOum、折射率1.60的聚酯系樹脂制的樹脂層23,而獲得實(shí)施例6的光學(xué)用薄膜。其中,在樹脂層23形成時(shí),未實(shí)施紫外線照射。〈樹脂層用涂敷液折射率1.60〉聚酯系樹脂10份(ElitelUE3200:尤尼吉可公司(隨TIKALTD))稀釋溶劑10份〔實(shí)施例7〕基材層21使用了與實(shí)施例2相同的折射率1.75的聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜。底涂層用涂敷液使用了與實(shí)施例l相同組成。使用了與實(shí)施例3相同組成作為樹脂層用涂敷液。通過與實(shí)施例1同樣的方法,形成厚度約0.2um、折射率1.60的聚酯系樹脂制的底涂層22,以及厚度約10um、折射率1.45的聚乙酸乙烯酯制的樹脂層23,而獲得實(shí)施例7的光學(xué)用薄膜。其中,在樹脂層23形成時(shí),未實(shí)施紫外線照射。(實(shí)施例8)基材層21是使用了與實(shí)施例2相同的折射率1.75的聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜。底涂層用涂敷液使用了與實(shí)施例l相同組成。使用了下述組成作為樹脂層用涂敷液。通過與實(shí)施例1同樣的方法,形成厚度約0.2ym、折射率1.60的聚酯系樹脂制的底涂層22,以及厚度約10iim、折射率1.35的氟樹脂制的樹脂層23,而獲得實(shí)施例8的光學(xué)用薄膜。其中,在實(shí)施例8中,底涂層22形成之后,在底涂層22的表面上實(shí)施電暈放電處理,且在其上形成了樹脂層23。由此,可使底涂層與樹脂層23的密著性提高。在樹脂層23形成時(shí),未實(shí)施紫外線照射?!礃渲瑢佑猛糠笠赫凵渎?.35〉氟樹脂10份(CytopCTX-107AP:旭硝子公司)稀釋溶劑未使用(實(shí)施例9)使用與實(shí)施例4相同的基材層21、底涂層用涂敷液及樹脂層用涂敷液后,通過與實(shí)施例1同樣的方法,獲得與實(shí)施例4具有同樣層構(gòu)成的實(shí)施例9的光學(xué)用薄膜。其中,在實(shí)施例9中,底涂層22形成之后,在底涂層22的表面上實(shí)施電暈放電處理,且于其上形成樹脂層23。由此,可使底涂層與樹脂層23的密著性比實(shí)施例4更加提高。在樹脂層23形成時(shí),未實(shí)施紫外線照射。〔實(shí)施例10)使用了與實(shí)施例3相同的基材層薄膜、底涂層用涂敷液及樹脂層用涂敷液。其中,在樹脂層用涂敷液中,追加了0.3份粒徑1wm的二氧化硅粒子。通過與實(shí)施例3同樣的方法,形成折射率1.75的聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜的基材層21,與厚度約0.2wm、折射率1.50的丙烯樹脂制的底涂層22,以及厚度約10um、折射率1.45的聚乙酸乙烯酯(添加粒徑1um的二氧化硅粒子)制的樹脂層23,而獲得實(shí)施例10的光學(xué)用薄膜。實(shí)施例10的光學(xué)用薄膜雖在樹脂層23添加有二氧化硅粒子,但因?yàn)閷渲瑢?3的膜厚(10um)而言粒徑小(llini)的緣故,在樹脂層23的表面上無凹凸,未產(chǎn)生外部霧度。只產(chǎn)生二氧化硅粒子所導(dǎo)致的內(nèi)部霧度?!脖容^例1〕基材層21使用了與實(shí)施例1相同的折射率1.65的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜。底涂層用涂敷液使用了下述組成。樹脂層用涂敷液使用了與實(shí)施例l相同組成。通過與實(shí)施例1同樣的方法,形成厚度約0.2ym、折射率1.45的聚乙酸乙烯酯制的底涂層22,以及厚度約10um、折射率1.50的電離輻射線固化性樹脂制的樹脂層23,而獲得比較例1的光學(xué)用薄膜?!吹淄繉佑猛糠笠赫凵渎?.45〉聚乙酸乙烯酯1份(柯賽羅(Gohsenol)GL-05:日本合成化學(xué)工業(yè)公司),稀釋溶劑32份〔比較例2〕基材層21使用了折射率2.0含金屬微粒子的薄膜。作為底涂層用涂敷液以及樹脂層用涂敷液,使用了與比較例1相同組成。與實(shí)施例1同樣地,形成厚度約0.2um、折射率1.45的聚乙酸乙烯酯制的底涂層22,以及厚度約10um、折射率1.50的電離輻射線固化性樹脂制的樹脂層23,而獲得比較例2的光學(xué)用薄膜?!脖容^例3〕基材層21使用了與實(shí)施例1相同的折射率L65的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜。作為底涂層用涂敷液以及樹脂層用涂敷液,使用了與比較例1相同組成。其中,在樹脂層用涂敷液中,添加了10份粒徑5um的二氧化硅粒子。通過與實(shí)施例1同樣的方法,形成厚度約0.2um、折射率1.45的聚乙酸乙烯酯制的底涂層22,以及厚度約IOum、折射率1.50的電離輻射線固化性樹脂制(添加粒徑5ym的二氧化硅粒子)的樹脂層23,而獲得比較例3的光學(xué)用薄膜。比較例3的光學(xué)薄膜,雖對樹脂層23的膜厚(IOum)而言添加有粒徑大(5um)的二氧化硅粒子的緣故,樹脂層23的表面上因粒子而形成了凹凸,產(chǎn)生外部霧度。(比較例4)使用與比較例3相同的基材層21、底涂層用涂敷液及樹脂層用涂敷液后,通過與實(shí)施例1同樣的方法,獲得與比較例3具有同樣層構(gòu)成的比較例4的光學(xué)用薄膜。其中,添加于樹脂層用涂敷液的二氧化硅粒子,使用了粒徑1ym的二氧化硅粒子。添加量為0.3份。比較例4的光學(xué)薄膜與比較例3不同,因?qū)渲瑢?3的膜厚(IOym)而言,二氧化硅粒子的粒徑小(lPm)的緣故,樹脂層23的表面上無凹凸,未產(chǎn)生外部霧度。只產(chǎn)生二氧化硅粒子所導(dǎo)致的內(nèi)部霧度?!脖容^例5〕基材層21使用了與比較例2相同組成。底涂層用涂敷液及樹脂層用涂敷液使用了與實(shí)施例3相同組成。通過與實(shí)施例1同樣的方法,在折射率2.0含金屬微粒子的薄膜的基材層21上,形成厚度約0.2ym、折射率1.50的丙烯樹脂制的底涂層22,以及厚度約10ym、折射率1.45的聚乙酸乙烯酯制的樹脂層23,而獲得比較例5的光學(xué)用薄膜。其中,在樹脂層23形成時(shí),未實(shí)施紫外線照射。(比較例6)基材層21及底涂層用涂敷液使用了與比較例2相同組成。樹脂層用17涂敷液使用了與實(shí)施例8相同組成。通過與實(shí)施例1同樣的方法,在折射率2.0含金屬微粒子的薄膜的基材層21上,形成厚度約0.2uni、折射率1.45的聚乙酸乙烯酯制的底涂層22,以及厚度約10um、折射率1.35的氟樹脂制的樹脂層23,而獲得比較例6的光學(xué)用薄膜。其中,在樹脂層23形成時(shí),未實(shí)施紫外線照射。上述于實(shí)施例110以及比較例16所得的光學(xué)用薄膜的基材層21的折射率na、底涂層22的折射率nb以及樹脂層23的折射率nc的各數(shù)值與各層的折射率大小關(guān)系(〉或〈)列示于表1。而且,關(guān)于基材層21與樹脂層23的折射率差(1na—nc|)、相鄰的基材層21與底涂層22的折射率差(|na—nb|)、相鄰的底涂層22與樹脂層23的折射率差(|nb—nc|)也列示于表l。〔表面濕潤張力〕其次,對實(shí)施例110以及比較例16所得的光學(xué)用薄膜的底涂層的表面濕潤張力,根據(jù)JISK6768:1999進(jìn)行了測定。作為試驗(yàn)用混合液使用了表面濕潤張力為40.0mN/m的試驗(yàn)用混合液。使表面濕潤張力為40.OmN/m以上者為「40^」、未達(dá)40.0mN/m者為「<40」,列示于表1。〔溶解度系數(shù)〕計(jì)算出實(shí)施例110以及比較例16中所用的底涂層22以及樹脂層23的主成分的溶解度系數(shù),使該差在l以內(nèi)者為「Sl」,而比l大者為「K」,列示于表l。此外,溶解度系數(shù)是按vonKreevelen所提出的原子團(tuán)加和法所規(guī)定的,具體而言,是通過PolymerHandbook,FourthEdition,JohnWiley&Sons,Inc.,1999的VII/675頁VI1/686頁所記載的方法所計(jì)算出的?!哺缮娌痪?在黑色的布上,通過三波長燈使照明光照射到實(shí)施例110以及比較例16所得的光學(xué)用薄膜的樹脂層上,在可觀察到因反射光所成的三波長燈的像的位置上以目視來觀察在反射光上產(chǎn)生的干涉不均。使完全看不出干涉不均者為「◎」,干涉不均不明顯者為「〇」,雖有干涉不均但不甚明顯者為「△」,干涉不均非常明顯者為「X」來進(jìn)行評價(jià)。此外,在相同實(shí)施例中制作多個(gè)試驗(yàn)樣品,若依據(jù)試驗(yàn)樣品有或〇的評價(jià)不同的狀況時(shí),則評價(jià)該實(shí)施例為「◎〇」,同樣地,若因試驗(yàn)樣品有O或A的評價(jià)不同的狀況時(shí),使該實(shí)施例的評價(jià)為「〇△」。評價(jià)結(jié)果列示于表2。(密著性)在實(shí)施例110以及比較例16所得的光學(xué)用薄膜的樹脂層上,以JISK5400的棋盤格膠帶法為基準(zhǔn),以間隙間隔1mm的方格子切割出100個(gè)格子,粘貼JIS—Z1522中規(guī)定的玻璃紙粘著膠帶,剝離后的涂膜的狀態(tài)以目視進(jìn)行觀察,使全部無發(fā)生剝離者為「〇」,稍微剝離者為「AJ,全部剝離者為「X」來進(jìn)行評價(jià)。評價(jià)結(jié)果列示于表2?!餐敢暦直媛省酬P(guān)于實(shí)施例110以及比較例16所得的光學(xué)用薄膜,是依JISK7105為標(biāo)準(zhǔn),使用影像清晰度(imageclarity)測定器(ICM—1DP:須賀試驗(yàn)機(jī)公司),測定光柵2.0mm的影像鮮明度,使測定值為90%以上者為「〇」,80%以上未達(dá)90%者為「△」,未達(dá)80%者為「X」進(jìn)行評價(jià)。而且,測定是由具有樹脂層的面使光射入。結(jié)果列示于表2?!察F度)使用SM彩色計(jì)算機(jī)UGV—5K(須賀試驗(yàn)機(jī)公司),以JISK7105:1981為基準(zhǔn),測定了實(shí)施例16以及比較例14所得的光學(xué)用薄膜的霧度(單位為「%」)。而且,測定是由具有樹脂層的面使光射入。測定的結(jié)果,使5%以下者為「〇」,超過5%者為「X」。19<table>tableseeoriginaldocumentpage20</column></row><table>[表2]<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table>由表1可知,實(shí)施例110的光學(xué)用薄膜,其基材層21的折射率na、底涂層22的折射率nb、樹脂層23的折射率nc,是滿足na^nb^nc或na^nb^nc的關(guān)系的。相對于此,比較例14的光學(xué)用薄膜,既不滿足na^nb^nc的關(guān)系,也不滿足na^nb^nc的關(guān)系。如表2所示,干涉不均的評價(jià)結(jié)果,是相對于實(shí)施例110的光學(xué)用薄膜為A②,比較例1、3、4任一者其干涉不均皆評價(jià)為明顯的X。因此,可確認(rèn)滿足na^nb^nc或na^nb^nc的關(guān)系可降低干涉不均。此外,比較例3則盡管不滿足na^nb^nc或na^nb^nc的關(guān)系,干涉不均的評價(jià)仍為O。其理由是,比較例3的光學(xué)用薄膜,因在樹脂層23中添加了粒徑大的粒子,使表面上有凹凸,而產(chǎn)生外部霧度讓干涉不均變得不明顯的緣故。但是,由表2清楚得知,外部霧度會使比較例3的光學(xué)用薄膜的透視分辨率降低,使評價(jià)為X(參考表2)。由此可確認(rèn),若要既維持透視分辨率又抑制干涉不均,則滿足na^nb^nc或na^nb^nc的關(guān)系是有效的。也即,雖因外部霧度而獲得干涉不均不明顯的作用,但卻無法維持透視分辨率。而比較例4的光學(xué)薄膜,雖因在樹脂層23中添加了粒徑小的粒子而產(chǎn)生內(nèi)部霧度,但由表2清楚得知干涉不均的評價(jià)為X。由此可知,內(nèi)部霧度并無法抑制干涉不均。接著,當(dāng)將比較例5以及6的光學(xué)用薄膜的折射率與實(shí)施例110的光學(xué)用薄膜的折射率對比時(shí),如表1及表2所示,比較例5及6盡管滿足了na^nbSnc或na^nb^nc的關(guān)系,但仍無法抑制干涉不均。這是因基材層21的折射率na與樹脂層的折射率nc的差(lna—nc1)大于0.5的緣故。因此,即使?jié)M足na^nb^nc或na^nb^nc的關(guān)系,但若相鄰層之間的折射率差變大,則容易產(chǎn)生干涉不均。由此可確認(rèn),不僅要滿足na^nb^nc或na^nb^nc的關(guān)系,還有必要使基材層21的折射率na與樹脂層的折射率nc的差為0.5以內(nèi)。此外,若實(shí)施例3、8、10的光學(xué)用薄膜與實(shí)施例1、2、5、6、9的光學(xué)用薄膜進(jìn)行比較,則其干涉不均的評價(jià)較差。這是因?qū)嵤├?以及實(shí)施例10的光學(xué)用薄膜,其相鄰的基材層21與底涂層22的折射率差lna一nbI比其它實(shí)施例大,而實(shí)施例8的光學(xué)用薄膜,其底涂層22與樹脂層23的折射率差lnb—nc|比其它實(shí)施例大,而不管任一者的差都超過了0.2。由此可知,若想更加抑制干涉不均,則優(yōu)選設(shè)計(jì)相鄰的層的折射率差在0.2以下。若實(shí)施例4的光學(xué)用薄膜與實(shí)施例1、2、5、6、9的光學(xué)用薄膜進(jìn)行比較,則其干涉不均的評價(jià)較差。這是因底涂層22的表面濕潤張力比40mN/m還小,與表面濕潤張力為40mN/m以上的其它實(shí)施例相比,樹脂層23形成時(shí)的涂膜的厚度均勻性低的緣故。由此可知,底涂層22的表面濕潤張力優(yōu)選設(shè)計(jì)成40mN/m以上。由此,因可提高樹脂層的均勻度,而可進(jìn)一步抑制干涉不均。此外,表面濕潤張力,依構(gòu)成底涂層22的樹脂原本的性質(zhì),不受限于為40mN/m以上。如實(shí)施例8、9,也可通過電暈放電處理等而提高表面濕潤張力。若表面濕潤張力40mN/m以上,則可提高樹脂層的均勻度。此時(shí),可由實(shí)施例8、9的干涉不均的評價(jià)高而得以確認(rèn)。特別是實(shí)施例9,是與實(shí)施例4的層構(gòu)成相同,唯一差異的只有實(shí)施例9是由電暈放電處理而使底涂層22的表面濕潤張力提高至40mN/m以上。由此可知,實(shí)施例9的干涉不均的評價(jià)比實(shí)施例4更高,是因其提高了底涂層的表面濕潤張力的緣故。在實(shí)施例5的光學(xué)用薄膜中,如表1所示,構(gòu)成底涂層22與樹脂層23的樹脂,其主要成份的樹脂的溶解度系數(shù)差大于l。因此,由表2可清楚得知,實(shí)施例5的光學(xué)用薄膜,其層的密著性比上述溶解度系數(shù)差為1以下的其它實(shí)施例14、610變差。由此可知,光學(xué)用薄膜的構(gòu)成底涂層22與樹脂層23的樹脂,優(yōu)選選擇主要成份的樹脂的溶解度系數(shù)差為1以下的樹脂。由此可使層間的密著性提高。而且,由表2中清楚可知,樹脂層23中添加粒子、霧度較5%大的實(shí)施例10的光學(xué)用薄膜,其透視分辨率比霧度為5%以下的其它實(shí)施例19的光學(xué)用薄膜變差。由此可知,本發(fā)明的光學(xué)用薄膜,例如即使是內(nèi)部霧度都希望霧度小,具體來說,優(yōu)選使霧度在5%以下?!矊?shí)施例11)其次,作為實(shí)施例ll,使用上述實(shí)施例16的光學(xué)用薄膜來制作了圖2構(gòu)成的觸控面板1。同樣地,使用比較例13、6的光學(xué)用薄膜來制作了比較例的觸控面板。制作透明導(dǎo)電性構(gòu)件在與上述實(shí)施例16以及比較例13、6的光學(xué)用薄膜的樹脂層23相反一側(cè)的面上,以濺射法形成了厚度約20mn的ITO膜作為透明導(dǎo)電膜3,審U作了實(shí)施例16以及比較例13、6的透明導(dǎo)電性構(gòu)件4。制作下部電極的面板作為透明電極基板即玻璃基板6,準(zhǔn)備好厚度lmm的強(qiáng)化玻璃板,在一側(cè)的面上,以濺射法形成厚度約20nm的IT0膜作為透明導(dǎo)電膜7,切取成4型的大小(縱87.3min、橫64.0mm的長方形),制作了下部電極的面板。制作間隔物在上述下部電極的面板的具有透明導(dǎo)電膜7的面上,作為間隔物用涂敷液,是將電離輻射線固化性樹脂(DotCureTR5903:太陽油墨公司)通過網(wǎng)版印刷法點(diǎn)狀印刷后,以高壓水銀燈照射紫外線,使直徑50um、高度8ym的間隔物5以1mm的間隔排列。制作透明觸控面板將上述透明導(dǎo)電性構(gòu)件4與下部電極的面板,以透明導(dǎo)電膜3與透明導(dǎo)電膜7相對置的方式進(jìn)行配置,再以厚度30um、寬幅3mra的雙面粘貼膠帶粘住邊緣,制作了透明觸控面板。此時(shí),使粘著部分盡量在透明觸控面板的表示面的區(qū)域外。使用實(shí)施例1、2、5、6的光學(xué)用薄膜所制作的觸控面板,除了干涉不均不明顯之外,還易于操作。使用了實(shí)施例3、4的光學(xué)用薄膜制得的觸控面板,雖有干涉不均,但未到明顯的程度,而可易于操作。比較例l、2、6的觸控面板是干涉不均明顯,且難以操作。比較例3的觸控面板,因在樹脂層中含有玻璃粒子而使表面上呈凹凸的緣故,閃爍炫目而難以操作。權(quán)利要求1.一種光學(xué)用薄膜,其在基材層的至少一側(cè)的面上依次層疊了底涂層、樹脂層,其特征在于,當(dāng)設(shè)基材層的折射率為na、底涂層的折射率為nb、樹脂層的折射率為nc時(shí),滿足na≦nb≦nc或na≧nb≧nc的關(guān)系,且基材層的折射率與樹脂層的折射率的差為0.5以內(nèi),其中,na≠nc。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)用薄膜,其特征在于,相鄰的層的折射率的差為0.2以內(nèi)。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)用薄膜,其特征在于,前述底涂層的以JISK6768:1999所規(guī)定的表面濕潤張力為40mN/m以上。4.根據(jù)權(quán)利要求13中任一項(xiàng)所述的光學(xué)用薄膜,其特征在于,以JISK7105:1981所規(guī)定的霧度為5%以下。5.根據(jù)權(quán)利要求14中任一項(xiàng)所述的光學(xué)用薄膜,其特征在于,前述樹脂層為硬涂層。6.根據(jù)權(quán)利要求15項(xiàng)中任一項(xiàng)所述的光學(xué)用薄膜,其特征在于,前述基材層、底涂層及樹脂層的折射率的關(guān)系為前述na^nb^nc的關(guān)系,且前述基材層的折射率為1.45以上1.75以下,前述底涂層的折射率為1.40以上1.70以下,前述樹脂層的折射率為1.35以上1.65以下,其中na^nc。7.—種透明導(dǎo)電性構(gòu)件,其特征在于,具有權(quán)利要求16中任一項(xiàng)所述的光學(xué)用薄膜;和在該光學(xué)用薄膜的至少一側(cè)的面上配置的透明導(dǎo)電膜。8.—種透明觸控面板,其是至少在單面上設(shè)置有透明導(dǎo)電膜的2片透明電極基板,以相互的透明導(dǎo)電膜彼此相對置的方式進(jìn)行配置而構(gòu)成的透明觸控面板,其特征在于,使用權(quán)利要求7所述的透明導(dǎo)電性構(gòu)件作為前述透明電極基板中的至少一個(gè)。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的透明觸控面板,其特征在于,前述2片透明電極基板之中,一個(gè)為可動(dòng)電極基板,另一個(gè)為固定電極基板,且使用權(quán)利要求7所述的透明導(dǎo)電性構(gòu)件作為前述可動(dòng)電極基板。全文摘要本發(fā)明提供一種光學(xué)用薄膜,其可維持硬涂性及透視分辨率、并且使干涉不均不明顯。該光學(xué)用薄膜,在基材層(21)與具有硬涂性的樹脂層(23)之間配置底涂層(22)。當(dāng)設(shè)基材層(21)的折射率為na、底涂層(22)的折射率為nb、樹脂層(23)的折射率為nc時(shí),滿足na≤nb≤nc或na≥nb≥nc的關(guān)系(其中,na≠nc)。且基材層(21)的折射率與樹脂層(23)的折射率的差為0.5以內(nèi)。由此,能減少相鄰的層的折射率差,從而能抑制干涉不均,并能維持透視分辨率。文檔編號G02B1/10GK101523241SQ20078003618公開日2009年9月2日申請日期2007年9月21日優(yōu)先權(quán)日2006年9月29日發(fā)明者小山益生,齋藤正登申請人:木本股份有限公司
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