專利名稱：一種涂布設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種涂布設(shè)備。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體器件和平面顯示裝置制造的光刻工藝中，常涉及電路圖形在基板表面涂布光刻膠、曝光和顯影。在現(xiàn)有技術(shù)中，液晶顯示裝置(TFT-IXD)、有機(jī)發(fā)光顯示裝置(OLED)中的有源驅(qū)動(dòng)方式等均涉及薄膜晶體管(TFT)的制作工藝，其包括薄膜(Thin Film)工藝、光刻(Wioto)工藝、刻蝕(Etch)工藝等工藝步驟，而光刻工藝是TFT制作過程中的核心工藝?，F(xiàn)有技術(shù)中，在基板表面涂布光刻膠包括兩個(gè)步驟，分別是采用涂布設(shè)備進(jìn)行狹縫涂布(slit coater)與采用旋轉(zhuǎn)設(shè)備進(jìn)行旋轉(zhuǎn)勻膠(spin coater)，即將基板平放在涂布臺(tái)面上，在保證涂布設(shè)備中狹縫底端和基板之間精確的間隙基礎(chǔ)上，狹縫口在基板上涂布厚度大于目標(biāo)厚度的光刻膠，然后通過旋轉(zhuǎn)設(shè)備高速旋轉(zhuǎn)基板，利用離心力使基板上的光刻膠分布均勻，從而達(dá)到目標(biāo)厚度。其中的光刻膠狹縫涂布是光刻工藝的一個(gè)非常重要的工藝步驟，其涂覆質(zhì)量的好壞直接影響到后續(xù)的旋轉(zhuǎn)勻膠工藝，從而最終影響到TFT的性能。圖1所示為現(xiàn)有技術(shù)中采用涂布設(shè)備對被涂布體表面進(jìn)行涂布的工作示意圖，圖中箭頭方向表示涂布設(shè)備的移動(dòng)方向，即從被涂布體的一端涂布到另一端的方向。圖2為圖1所示涂布設(shè)備的截面視圖。如圖1和圖2所示，該涂布設(shè)備包括一個(gè)長方體的罩體1 以及設(shè)置在罩體1內(nèi)部的涂布裝置，罩體1的底部開有狹縫2，狹縫2的底端是狹縫口 9 ；涂布裝置中包括有與狹縫口 9連通的涂布液供給通道4。所述狹縫口 9沿罩體1的長度方向延伸，狹縫口 9的延伸方向與涂布設(shè)備的移動(dòng)方向垂直。當(dāng)采用涂布設(shè)備對基板8表面進(jìn)行光刻膠涂布時(shí)，狹縫口 9的寬度設(shè)置為3cm左右，狹縫底端與基板8之間的距離為0. 2 0. 3mm。涂布裝置在平動(dòng)裝置的帶動(dòng)下勻速從基板8的一端移動(dòng)到另一端的同時(shí)，光刻膠經(jīng)涂布液供給通道4到達(dá)狹縫口 9，并從狹縫口 9 中滴落而涂覆到基板8上，完成光刻膠的預(yù)涂布；然后將預(yù)涂布好的基板放到旋轉(zhuǎn)設(shè)備中， 利用旋轉(zhuǎn)離心力、控制轉(zhuǎn)速及時(shí)間旋轉(zhuǎn)勻膠，使光刻膠達(dá)到需要的厚度。在實(shí)際的涂布過程中，被涂布體上往往沉積有灰塵、浮游顆粒等浮塵，如果不清除這些浮塵，會(huì)使得涂布后的涂布液厚度不均勻，從而影響涂布質(zhì)量；若是對基板進(jìn)行光刻膠涂布，則可能影響光刻膠的涂布厚度，導(dǎo)致顯影后的電路圖形被破壞，最終造成各種TFT或半導(dǎo)體器件性能的不良，從而增加返工(Rework)率，降低產(chǎn)能?？梢?，保持涂布之前的被涂布體的潔凈度非常重要，因此，在實(shí)際生產(chǎn)過程中，涂布之前需要先對被涂布體進(jìn)行除塵。在現(xiàn)有技術(shù)中，除塵方式一般是使用氣槍提前對被涂布體進(jìn)行噴氣除塵，但是采用這種除塵方式不僅除塵效果差，而且效率低，不利于提高生產(chǎn)效率
實(shí)用新型內(nèi)容
[0008]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是針對現(xiàn)有技術(shù)中涂布設(shè)備存在的上述不足，提供一種能夠?qū)Ρ煌坎俭w進(jìn)行清潔的涂布設(shè)備，以便在涂布之前對被涂布體進(jìn)行清潔，從而提高涂布質(zhì)量，降低返工率，提高產(chǎn)能。解決本實(shí)用新型技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是該涂布設(shè)備，包括罩體和設(shè)于罩體內(nèi)部的涂布裝置，所述罩體底部開有狹縫，所述罩體和/或狹縫上設(shè)有用于清除被涂布體表面浮塵的除塵單元。優(yōu)選的是，所述除塵單元采用噴氣裝置，所述噴氣裝置能噴出具有一定壓力的氣體，以清除被涂布體表面的浮塵。所述噴氣裝置包括設(shè)于罩體和/或狹縫上的若干個(gè)噴孔、 以及壓縮空氣供給裝置，所述壓縮空氣供給裝置與所述若干個(gè)噴孔連通。其中一種方案是，所述噴孔采用多個(gè)，且設(shè)置在狹縫的下部，所述多個(gè)噴孔排列為一排，多個(gè)噴孔與狹縫底端距離分別相等，所述噴氣裝置中還包括有與噴孔數(shù)量相應(yīng)的多個(gè)噴嘴，所述多個(gè)噴嘴分別對應(yīng)設(shè)置在多個(gè)噴孔上，所述多個(gè)噴嘴的設(shè)置方向?yàn)橄蛳聝A斜， 并朝向被涂布體表面。采用向下傾斜的噴嘴，使得除塵更有方向性，除塵效果更好。優(yōu)選的是，所述多個(gè)噴嘴分布在狹縫的兩側(cè)，噴嘴與水平面的夾角范圍為 30° -60°。另一種方案是，所述噴孔采用多個(gè)，且設(shè)置在狹縫的下部，所述多個(gè)噴孔排列為一排，多個(gè)噴孔與狹縫底端距離分別相等，所述噴氣裝置中還包括有擋風(fēng)板，所述擋風(fēng)板采用兩塊，其分別設(shè)置在多個(gè)噴孔的上方和下方，擋風(fēng)板的設(shè)置方向?yàn)橄蛳聝A斜，并朝向被涂布體表面。采用擋風(fēng)板，既能保證對被涂布體整個(gè)表面除塵不發(fā)生遺漏，又能使風(fēng)力分布更均勻。優(yōu)選的是，所述多個(gè)噴嘴分布在狹縫的兩側(cè)，所述擋風(fēng)板采用平板或內(nèi)凹的曲面板，擋風(fēng)板的板面方向與水平面的夾角范圍為30° -60°。進(jìn)一步優(yōu)選的是，上述兩種方案中所述多個(gè)噴孔在狹縫上的設(shè)置位置為距離狹縫底端3-5cm ；所述多個(gè)噴孔中，每相鄰兩個(gè)噴孔之間間隔的距離范圍為5-8cm。在上述兩種方案中，所述罩體內(nèi)部還設(shè)有壓縮空氣管道，所述壓縮空氣供給裝置通過壓縮空氣管道連接至噴孔，所述噴孔中噴出的氣體的壓力范圍為0. 2-0. 5MPa。本實(shí)用新型的有益效果是由于該涂布設(shè)備具有除塵單元，使得在被涂布體上涂布涂布液和對被涂布體進(jìn)行清潔能同步進(jìn)行，節(jié)省了制作工序，節(jié)約了時(shí)間，提高了生產(chǎn)效率；還能有效避免現(xiàn)有技術(shù)中使用氣槍對被涂布體除塵后與實(shí)際涂布涂布液時(shí)間段中浮塵對被涂布體的再次污染；同時(shí)，利用噴氣裝置中的高壓氣體除塵，使得除塵更徹底，能更有效降低浮塵對涂覆質(zhì)量的影響，避免涂布液涂覆均勻性被破壞，從而提高良品率，降低了返工率，提高了產(chǎn)能。

圖1是為現(xiàn)有技術(shù)中涂布設(shè)備對被涂布體進(jìn)行涂布的工作示意圖；圖2是圖1所示涂布設(shè)備的截面視圖；圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例1中涂布設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是圖3所示涂布設(shè)備的截面視圖；圖5是本實(shí)用新型實(shí)施例2中涂布設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；[0023]圖6是圖5所示涂布設(shè)備的截面視圖。圖中1-罩體；2-狹縫；3-噴嘴；4-涂布液供給管道；5-壓縮空氣管道；6_噴孔； 7-擋風(fēng)板；8-基板；9-狹縫口。
具體實(shí)施方式
為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本實(shí)用新型的技術(shù)方案，
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對本實(shí)用新型涂布設(shè)備作進(jìn)一步詳細(xì)描述。該涂布設(shè)備包括罩體1和設(shè)于罩體1內(nèi)部的涂布裝置，所述罩體1底部開有狹縫 2，所述罩體1和/或狹縫2上設(shè)有用于清除被涂布體表面浮塵的除塵單元。其中，所述除塵單元可以采用噴氣裝置，所述噴氣裝置能噴出具有一定壓力的氣體，以清除被涂布體表面的浮塵。實(shí)施例1 如圖3所示，涂布設(shè)備包括罩體1和設(shè)于罩體1內(nèi)部的涂布裝置，所述罩體1底部開有狹縫2，狹縫2上設(shè)有用于清除被涂布體表面浮塵的除塵單元。本實(shí)施例中，所述除塵單元采用噴氣裝置。所述噴氣裝置包括噴孔6 (圖3中未示出)和壓縮空氣供給裝置(圖 3中未示出)。所述噴孔6采用多個(gè)，且所述多個(gè)噴孔6分別設(shè)置在狹縫2下部的兩側(cè)，狹縫2的每一側(cè)各分布有若干個(gè)噴孔6，所述每一側(cè)的若干個(gè)噴孔6排列為一排，該排列為一排的多個(gè)噴孔6與狹縫2底端的距離分別相等，在本實(shí)施例中，狹縫2下部每一側(cè)的多個(gè)噴孔6在狹縫2上的設(shè)置位置為距離狹縫2底端3-5cm，每相鄰兩個(gè)噴孔6之間間隔的距離范圍為 5-8cm。多個(gè)噴孔6的形狀為相同尺寸的圓形。所述噴氣裝置中還包括有與噴孔6數(shù)量相應(yīng)的多個(gè)噴嘴3，所述多個(gè)噴嘴3分別對應(yīng)設(shè)置在多個(gè)噴孔6上，噴嘴3的形狀為與噴孔6相適配的圓形。所述多個(gè)噴嘴3的設(shè)置方向?yàn)橄蛳聝A斜，并朝向被涂布體表面。在本實(shí)施例中，噴嘴3向下傾斜的方向與水平面的夾角范圍為30° -60°。所述壓縮空氣供給裝置設(shè)置在罩體1外部，如圖4所示，罩體1內(nèi)部還設(shè)有壓縮空氣管道5，所述壓縮空氣供給裝置通過壓縮空氣管道5連接至多個(gè)噴孔6，本實(shí)施例中，壓縮空氣供給裝置提供0. 2-0. 5MPa的高壓氣體，高壓氣體從噴孔6經(jīng)噴嘴3噴出，因而從多個(gè)噴嘴3中噴出的氣體的壓力范圍為0. 2-0. 5MPa。壓縮空氣供給裝置中還設(shè)置有開關(guān)，可根據(jù)情況對高壓氣體壓強(qiáng)進(jìn)行調(diào)節(jié)，也可對高壓氣體的噴出與關(guān)閉進(jìn)行控制，以方便對灰塵、 浮游顆粒等浮塵進(jìn)行清潔。如圖4所示，與現(xiàn)有技術(shù)中涂布設(shè)備一樣，本實(shí)施例中涂布設(shè)備罩體1內(nèi)部的涂布裝置包括有涂布液供給單元，涂布液供給單元通過涂布液供給管道4連接至狹縫口 9，以便滴漏涂布液并進(jìn)行涂布。在使用本實(shí)施例中的涂布設(shè)備對基板8進(jìn)行光刻膠涂布時(shí)，先打開壓縮空氣供給裝置的開關(guān)，并根據(jù)實(shí)際工況將氣體壓力調(diào)節(jié)至合適的氣體壓力值，此時(shí)狹縫2兩側(cè)的若干個(gè)噴孔6中均噴出具有該壓力值的氣體，一段時(shí)間后(一般為5秒鐘)后關(guān)閉位于涂布設(shè)備前進(jìn)方向背面的一排噴嘴3，而只保留涂布設(shè)備前進(jìn)方向側(cè)的一排噴嘴3繼續(xù)噴氣；然后打開狹縫口 9，狹縫口 9的寬度大約為3cm，將狹縫2底端與基板8的距離調(diào)整為0. 2 0. 3mm,由平動(dòng)裝置帶動(dòng)涂布設(shè)備勻速前進(jìn)，當(dāng)該涂布設(shè)備從基板8 —端向另一端移動(dòng)的過程中，即可在對基板8表面的浮塵進(jìn)行清潔的同時(shí)，在基板8表面進(jìn)行光刻膠涂布；當(dāng)該涂布設(shè)備移動(dòng)到基板8的另一端后，關(guān)閉狹縫口 9，并關(guān)閉涂布設(shè)備前進(jìn)方向側(cè)的一排噴嘴3， 使之停止噴氣，即完成光刻膠在基板8表面的光刻膠涂布。本實(shí)施例采用向下傾斜的噴嘴，使得對基板整個(gè)表面除塵更有方向性，除塵效果更好。實(shí)施例2 本實(shí)施例與實(shí)施例1的區(qū)別在于，所述噴氣裝置的結(jié)構(gòu)不一樣。如圖5、6所示，在本實(shí)施例中，所述噴氣裝置包括多個(gè)噴孔6、擋風(fēng)板7以及壓縮空氣供給裝置(圖中未示出)。所述多個(gè)噴孔6采用多個(gè)，且設(shè)置在狹縫2下部的兩側(cè)，狹縫 2每一側(cè)各分布有若干個(gè)噴孔6，所述每一側(cè)的若干個(gè)噴孔6排列為一排，該排列為一排的若干個(gè)噴孔6與狹縫2底端的距離分別相等。在本實(shí)施例中，所述排列為一排的多個(gè)噴孔6在狹縫2上的設(shè)置位置為距離狹縫 2底端3-5cm，每相鄰兩個(gè)噴孔6之間間隔的距離范圍為5-8cm。所述多個(gè)噴孔6的形狀為尺寸相同的圓形。所述擋風(fēng)板7設(shè)置在噴孔的上方和/或下方。本實(shí)施例中，狹縫2的每一側(cè)均各自設(shè)置有兩塊擋風(fēng)板7，所述兩擋風(fēng)板7分別設(shè)置在排列為一排的多個(gè)噴孔6的上方和下方，擋風(fēng)板7的設(shè)置方向?yàn)橄蛳聝A斜，并朝向基板8表面。其中，擋風(fēng)板7的板面與水平面的夾角范圍為30° -60°。本實(shí)施例中，所述擋風(fēng)板7可以采用平板或內(nèi)凹的曲面板。本實(shí)施例中涂布設(shè)備的其他結(jié)構(gòu)以及涂布設(shè)備的使用均與實(shí)施例1相同，這里不再贅述。本實(shí)施例采用擋風(fēng)板，既能保證對基板整個(gè)表面除塵不發(fā)生遺漏，又能使風(fēng)力分布更均勻。這里應(yīng)該理解的是，在實(shí)施例1和實(shí)施例2中，噴孔6的形狀均采用圓形只是基于圓形噴孔結(jié)構(gòu)簡單且易于加工，但本實(shí)用新型涂布裝置中的噴孔的形狀并不限于上述圓形噴孔，其他形狀，如長圓形、扇形、橢圓形均可采用作為噴孔形狀，甚至，也可以在罩體1靠近狹縫2底端的部位不設(shè)置多個(gè)噴孔，而將多個(gè)噴孔直接改為設(shè)置開槽。另外，本實(shí)用新型中的除塵單元并不限于只采用上述實(shí)施例中的噴氣裝置，噴氣裝置也可以為其他能夠清潔被涂布體表面的除塵裝置所代替，這些裝置都視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。在實(shí)施例1和實(shí)施例2，所述涂布設(shè)備采用除塵單元對基板進(jìn)行清潔的同時(shí)在基板上進(jìn)行涂布光刻膠，節(jié)省了制作工序，節(jié)約了時(shí)間，提高了生產(chǎn)效率；有效避免現(xiàn)有技術(shù)中使用氣槍對基板除塵后與實(shí)際涂布光刻膠時(shí)間段中浮塵對基板的再次污染；同時(shí)，利用噴氣裝置中的高壓氣體除塵，使得除塵更徹底，能更有效地降低浮塵對涂覆質(zhì)量的影響，避免光刻膠涂覆均勻性被破壞，從而提高良品率，降低了返工率，提高了產(chǎn)能。可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說明本實(shí)用新型的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本實(shí)用新型并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本實(shí)用新型的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種涂布設(shè)備，包括罩體(1)和設(shè)于罩體(1)內(nèi)部的涂布裝置，所述罩體(1)底部開有狹縫O)，其特征在于所述罩體(1)和/或狹縫( 上設(shè)有用于清除被涂布體表面浮塵的除塵單元。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布設(shè)備，其特征在于所述除塵單元采用噴氣裝置，所述噴氣裝置能噴出具有一定壓力的氣體，以清除被涂布體表面的浮塵。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的涂布設(shè)備，其特征在于所述噴氣裝置包括設(shè)于罩體(1)和/ 或狹縫( 上的若干個(gè)噴孔(6)、以及壓縮空氣供給裝置，所述壓縮空氣供給裝置與所述若干個(gè)噴孔(6)連通。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂布設(shè)備，其特征在于所述噴孔(6)采用多個(gè)，且設(shè)置在狹縫O)的下部，所述多個(gè)噴孔(6)排列為一排，多個(gè)噴孔(6)與狹縫( 底端的距離分別相等，所述噴氣裝置中還包括有與噴孔(6)數(shù)量相應(yīng)的多個(gè)噴嘴(3)，所述多個(gè)噴嘴C3)分別對應(yīng)設(shè)置在多個(gè)噴孔(6)上，所述多個(gè)噴嘴(3)的設(shè)置方向?yàn)橄蛳聝A斜并朝向被涂布體表
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂布設(shè)備，其特征在于所述多個(gè)噴嘴(3)分布在狹縫O)的兩側(cè)，噴嘴(3)與水平面的夾角范圍為30° -60°。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂布設(shè)備，其特征在于所述噴孔(6)采用多個(gè)，且設(shè)置在狹縫 (2)的下部，所述多個(gè)噴孔(6)排列為一排，多個(gè)噴孔(6)與狹縫( 底端距離分別相等，所述噴氣裝置中還包括有擋風(fēng)板(7)，所述擋風(fēng)板(7)采用兩塊，其分別設(shè)置在多個(gè)噴孔(6) 的上方和下方，擋風(fēng)板(7)的設(shè)置方向?yàn)橄蛳聝A斜并朝向被涂布體表面。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的涂布設(shè)備，其特征在于所述多個(gè)噴嘴(3)分布在狹縫O)的兩側(cè)，所述擋風(fēng)板(7)采用平板或內(nèi)凹的曲面板，擋風(fēng)板(7)的板面與水平面的夾角范圍為 30° -60°。
8.根據(jù)權(quán)利要求4-7之一所述的涂布設(shè)備，其特征在于所述多個(gè)噴孔(6)在狹縫(2) 上的設(shè)置位置為距離狹縫(2)底端3-5cm。
9.根據(jù)權(quán)利要求4-7之一所述的涂布設(shè)備，其特征在于所述多個(gè)噴孔(6)中，每相鄰兩個(gè)噴孔(6)之間間隔的距離范圍為5-8cm。
10.根據(jù)權(quán)利要求3-7之一所述的涂布設(shè)備，其特征在于所述罩體(1)內(nèi)部還設(shè)有壓縮空氣管道(5)，所述壓縮空氣供給裝置通過壓縮空氣管道( 連接至噴孔(6)，所述噴孔 (6)中噴出的氣體的壓力范圍為0. 2-0. 5MPa。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種涂布設(shè)備，其包括罩體(1)和設(shè)于(1)內(nèi)部的涂布裝置，所述罩體(1)罩體底部開有狹縫(2)，所述罩體(1)和/或狹縫(2)上設(shè)有用于清除被涂布體表面浮塵的除塵單元。本實(shí)用新型通過采用除塵單元在涂布之前對被涂布體表面進(jìn)行清潔，除塵效果好，生產(chǎn)效率高，降低了浮塵對涂覆質(zhì)量的影響，避免涂布液涂覆均勻性被破壞，從而提高良品率，降低了返工率，提高了產(chǎn)能。
文檔編號(hào)G03F7/16GK202166827SQ20112028919
公開日2012年3月14日 申請日期2011年8月10日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月10日
發(fā)明者周偉峰, 高濤 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司