涂布裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種涂布裝置，將涂布液涂布于半導(dǎo)體晶片(wafer)、液晶顯示裝置用玻璃(glass)基板、等離子體顯示面板(Plasma Display Panel，PDP)用玻璃基板、有機(jī)電致發(fā)光(Electroluminescence，EL)顯示面板用玻璃基板、太陽電池用基板、磁盤或光盤用玻璃或陶瓷(ceramic)基板等各種被處理基板。
【背景技術(shù)】
[0002]例如，在有機(jī)EL顯示裝置的制造時，作為將包含空穴(hole)傳輸材料的流動性材料或包含有機(jī)EL材料的流動性材料等涂布液涂布于基板的涂布裝置，已知有如下裝置:使連續(xù)地噴出涂布液的多個噴嘴(nozzle)，相對于基板而在主掃描方向及與主掃描方向正交的副掃描方向上相對移動，借此，將涂布液呈條紋狀地涂布于基板上的涂布區(qū)域(例如，專利文獻(xiàn)I)。
[0003][現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)]
[0004][專利文獻(xiàn)]
[0005][專利文獻(xiàn)I]日本專利特開2011-72974號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006][發(fā)明所要解決的問題]
[0007]對于此種涂布裝置，要求涂布于基板上的涂布液的膜厚的均勻性。為了使涂布液的膜厚均勻，需要使從噴嘴噴出的涂布液的流量均勻。
[0008]然而，在通過涂布液供給管對移動的噴嘴供給涂布液的構(gòu)成中產(chǎn)生如下問題:在涂布液供給管內(nèi)流動的涂布液被賦予伴隨噴嘴移動的慣性力，因所述慣性力的影響而導(dǎo)致從噴嘴噴出的涂布液的流量紊亂。
[0009]本發(fā)明是為了解決所述問題而完成的，目的在于提供一種涂布裝置，在利用涂布液供給管對移動的噴嘴輸送涂布液的構(gòu)成中，可減少從噴嘴噴出的涂布液的流量紊亂。
[0010][解決問題的技術(shù)手段]
[0011]本發(fā)明的第一實(shí)施方式的涂布裝置包括:基板保持部，保持基板；涂布單元(unit)，保持至少一個噴嘴，所述噴嘴對保持于所述基板保持部的所述基板的主表面噴出涂布液；移位機(jī)構(gòu)，使所述涂布單元沿著主掃描方向移位，所述主掃描方向與保持于所述基板保持部的所述基板的所述主表面平行；配管，為至少一個，將從涂布液供給源供給的涂布液輸送至所述至少一個噴嘴；以及壓力變動吸收部，為至少一個，吸收在所述配管的內(nèi)部流動的涂布液的壓力變動；所述配管具有上游側(cè)的第一管路區(qū)間與下游側(cè)的第二管路區(qū)間，所述第二管路區(qū)間相對地固定配置于所述涂布單元，所述第二管路區(qū)間具有所述第二管路區(qū)間中的上游側(cè)的上游側(cè)固定管路區(qū)間、與所述第二管路區(qū)間中的下游側(cè)的下游側(cè)固定管路區(qū)間，所述下游側(cè)固定管路區(qū)間沿著與所述主掃描方向正交的面內(nèi)而配設(shè)，所述壓力變動吸收部設(shè)于所述下游側(cè)固定管路區(qū)間。
[0012]本發(fā)明的第二實(shí)施方式的涂布裝置是根據(jù)第一實(shí)施方式的涂布裝置，其中所述第二管路區(qū)間具有分支部，所述分支部使被捆扎的多個所述配管分支，所述第二管路區(qū)間中的比所述分支部更靠上游側(cè)為所述上游側(cè)固定管路區(qū)間，所述第二管路區(qū)間中的比所述分支部更靠下游側(cè)為所述下游側(cè)固定管路區(qū)間，在所述第一管路區(qū)間及所述上游側(cè)固定管路區(qū)間中，多個所述配管被捆扎。
[0013]本發(fā)明的第三實(shí)施方式的涂布裝置包括:基板保持部，保持基板；涂布單元，保持至少一個噴嘴，所述噴嘴對保持于所述基板保持部的所述基板的主表面噴出涂布液；移位機(jī)構(gòu)，使所述涂布單元沿著主掃描方向移位，所述主掃描方向與保持于所述基板保持部的所述基板的所述主表面平行；配管，為至少一個，將從涂布液供給源供給的涂布液輸送至所述至少一個噴嘴；以及，壓力變動吸收部，為至少一個，吸收在所述配管的內(nèi)部流動的涂布液的壓力變動；所述配管具有上游側(cè)的第一管路區(qū)間與下游側(cè)的第二管路區(qū)間，所述第二管路區(qū)間相對地固定配置于所述涂布單元，所述第二管路區(qū)間配設(shè)于與所述主掃描方向正交的面內(nèi)，所述壓力變動吸收部設(shè)于所述第二管路區(qū)間。
[0014]本發(fā)明的第四實(shí)施方式的涂布裝置是根據(jù)第三實(shí)施方式的涂布裝置，其中還具有配管支撐構(gòu)件，所述配管支撐構(gòu)件與利用所述移位機(jī)構(gòu)使所述涂布單元沿著所述主掃描方向的移位同步地，沿著所述主掃描方向移位，所述配管支撐構(gòu)件配設(shè)于所述第一管路區(qū)間的中途，在所述第一管路區(qū)間中的比所述配管支撐構(gòu)件更靠上游側(cè)，多個所述配管被捆扎，在所述第一管路區(qū)間中的比所述配管支撐構(gòu)件更靠下游側(cè)，多個所述配管分支。
[0015]本發(fā)明的第五實(shí)施方式的涂布裝置是根據(jù)第一至第四中任一實(shí)施方式的涂布裝置，其中所述壓力變動吸收部具有可撓性的第一配管，所述第一配管的管徑大于所述第一管路區(qū)間的配管的管徑，所述配管的一部分包含所述第一配管。
[0016]本發(fā)明的第六實(shí)施方式的涂布裝置是根據(jù)第一至第四中任一實(shí)施方式的涂布裝置，其中所述壓力變動吸收部具有可撓性的第二配管，所述第二配管的管徑小于所述第一管路區(qū)間的配管的管徑，所述配管的一部分包含所述第二配管。
[0017]本發(fā)明的第七實(shí)施方式的涂布裝置是根據(jù)第一至第四中任一實(shí)施方式的涂布裝置，其中所述壓力變動吸收部具有T字配管，所述T字配管包括干路與支路，所述干路沿著所述配管中的所述涂布液的流路方向，所述支路是從所述干路向與所述主掃描方向正交的方向分支而成，所述配管的一部分包含所述T字配管。
[0018]本發(fā)明的第八實(shí)施方式的涂布裝置是根據(jù)第一至第四中任一實(shí)施方式的涂布裝置，其中所述涂布單元具有:可動元件，利用所述移位機(jī)構(gòu)而沿著所述主掃描方向移位；以及噴嘴保持部，與所述可動元件結(jié)合而保持所述噴嘴；所述配管是將η根(η為2以上的整數(shù))配管利用η-l個配管連接部串聯(lián)連接而構(gòu)成，從所述可動元件觀察時，在所述噴嘴保持部側(cè)至多僅配設(shè)有一個配管連接部。
[0019]本發(fā)明的第九實(shí)施方式的涂布裝置是根據(jù)第八實(shí)施方式的涂布裝置，其中所述噴嘴保持部是將所述噴嘴可動地保持的部分，所述涂布裝置還包括噴嘴移動機(jī)構(gòu)，所述噴嘴移動機(jī)構(gòu)對所述噴嘴保持部中的所述噴嘴的位置進(jìn)行調(diào)節(jié)。
[0020][發(fā)明的效果]
[0021]本發(fā)明的第一實(shí)施方式的涂布裝置包括將從涂布液供給源供給的涂布液向至少一個噴嘴輸送的至少一個配管。所述配管具有上游側(cè)的第一管路區(qū)間與下游側(cè)的第二管路區(qū)間，所述第二管路區(qū)間相對地固定配置于涂布單元。因此，即便涂布單元移動，配管的第二管路區(qū)間也不會因該移動而撓曲，從而可防止因撓曲而導(dǎo)致在配管內(nèi)部流動的涂布液產(chǎn)生壓力變動的情況。
[0022]第二管路區(qū)間具有上游側(cè)固定管路區(qū)間與下游側(cè)固定管路區(qū)間，所述上游側(cè)固定管路區(qū)間位于所述第二管路區(qū)間中的上游側(cè)，所述下游側(cè)固定管路區(qū)間在所述第二管路區(qū)間中的下游側(cè)沿著與涂布單元的掃描方向正交的面內(nèi)而配設(shè)。因此，可有效防止如下情況:因通過涂布單元的掃描產(chǎn)生的慣性力(在掃描方向上作用的力)，而導(dǎo)致在配管的下游側(cè)固定管路區(qū)間的內(nèi)部流動的涂布液產(chǎn)生流路方向的壓力變動。
[0023]而且，在配管的下游側(cè)固定管路區(qū)間配設(shè)有壓力變動吸收部，所述壓力變動吸收部吸收在所述配管的內(nèi)部流動的涂布液的壓力變動。因此，能夠?qū)毫ψ儎颖怀浞治盏耐坎家汗┙o至噴嘴。
[0024]本發(fā)明的第三實(shí)施方式的涂布裝置包括將從涂布液供給源供給的涂布液向至少一個噴嘴輸送的至少一個配管。所述配管具有上游側(cè)的第一管路區(qū)間與下游側(cè)的第二管路區(qū)間，所述第二管路區(qū)間相對地固定配置于涂布單元。因此，即便涂布單元移動，配管的第二管路區(qū)間也不會因該移動而撓曲，從而可防止因撓曲而導(dǎo)致在配管內(nèi)部流動的涂布液產(chǎn)生壓力變動的情況。
[0025]第二管路區(qū)間沿著與涂布單元的掃描方向正交的面內(nèi)而配設(shè)。因此，可有效防止如下情況:因通過涂布單元的掃描產(chǎn)生的慣性力(在掃描方向上作用的力)，而導(dǎo)致在配管的第二管路區(qū)間的內(nèi)部流動的涂布液產(chǎn)生流路方向的壓力變動。
[0026]而且，在配管的第二管路區(qū)間配設(shè)有壓力變動吸收部，所述壓力變動吸收部吸收在所述配管的內(nèi)部流動的涂布液的壓力變動。因此，能夠?qū)毫ψ儎颖怀浞治盏耐坎家汗┙o至噴嘴。
[0027]本發(fā)明的第八實(shí)施方式的涂布裝置中，在將η根(η為2以上的整數(shù))配管利用η-l個配管連接部串聯(lián)連接而構(gòu)成配管的情況下，從可動元件觀察時，在噴嘴保持部側(cè)至多僅配設(shè)有I個配管連接部。因此，可充分減少配設(shè)于噴嘴保持部側(cè)的構(gòu)件構(gòu)成，從而當(dāng)對噴嘴進(jìn)行各種處理時，變得易于進(jìn)行所述處理。
【附圖說明】
[0028]圖1是表示實(shí)施方式的涂布裝置I的概略平面圖。
[0029]圖2是表示實(shí)施方式的涂布裝置I的概略前視圖。
[0030]圖3是圖2中的A-A剖面圖。
[0031]圖4是表示涂布單元50的構(gòu)成的立體圖。
[0032]圖5是表示關(guān)于I根配管83的構(gòu)件構(gòu)成的示意圖。
[0033]圖6是表示變形例的涂布單元50Α的構(gòu)成的立體圖。
[0034]圖7是表示關(guān)于變形例的I根配管83的構(gòu)件構(gòu)成的示意圖。
[0035]圖8是表示變形例的T字配管835的概略側(cè)視