專利名稱：Pcb曝光機(jī)的糾偏均分對(duì)位方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及PCB制版技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種PCB曝光機(jī)的糾偏均分對(duì)位方法。
背景技術(shù)：
曝光機(jī)是用于線路板行業(yè)的一種設(shè)備，它通過紫外光等將菲林片上的圖像信息轉(zhuǎn)移到涂有感光物質(zhì)(如干膜)的覆銅板上。根據(jù)機(jī)器的自動(dòng)化程度，分為手動(dòng)對(duì)位曝光機(jī)和自動(dòng)對(duì)位曝光機(jī)。手動(dòng)對(duì)位曝光機(jī)通過人工將菲林片與覆銅板進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)，然后進(jìn)行曝光，對(duì)人的要求比較高，且效率準(zhǔn)確度都不夠高。而自動(dòng)對(duì)位曝光機(jī)是通過CCD成像得到對(duì)位孔等靶標(biāo)信息，然后通過對(duì)位算法計(jì)算出應(yīng)該偏移旋轉(zhuǎn)的值，繼而控制電機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)達(dá)到對(duì)位的目的的設(shè)備，其對(duì)位準(zhǔn)確度及其精度高，大大提高了生產(chǎn)效率與生產(chǎn)質(zhì)量。曝光機(jī)對(duì)位的目標(biāo)是覆銅板與菲林片，它們是通過靶標(biāo)進(jìn)行對(duì)位的，如覆銅板上的靶標(biāo)為圓孔，菲林片上靶標(biāo)為實(shí)心圓，覆銅板與菲林片上各四個(gè)靶標(biāo)，分散在四個(gè)角。最終的目標(biāo)就是把覆銅板與菲林片上的靶標(biāo)進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)，最理想的情況如

圖1所示，完全對(duì)準(zhǔn)。但是實(shí)際情況因?yàn)榇嬖诜屏肿冃蔚雀鱾€(gè)因素，所以會(huì)存在很多種情況，如圖2所示，怎樣對(duì)準(zhǔn)，什么情況下算是對(duì)準(zhǔn)了，這個(gè)就是自動(dòng)對(duì)位曝光機(jī)所要做的，這也決定了自動(dòng)對(duì)位曝光機(jī)的性能。目前已有的算法中，各有缺點(diǎn)，精度也有差別，如采用最小二乘方法，特別是在碰到圖3這些情況的時(shí)候，對(duì)位的結(jié)果是不盡人意。

發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述的不足，本發(fā)明的目的是提供一種PCB曝光機(jī)的糾偏均分對(duì)位方法，解決了以往算法在出現(xiàn) 多點(diǎn)不同方向偏移的時(shí)候糾偏對(duì)位出現(xiàn)偏差的問題。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:
一種PCB曝光機(jī)的糾偏均分對(duì)位方法法，所述糾偏均分對(duì)位方法步驟包括:
利用CCD成像技術(shù)，得到上、下菲林的對(duì)位靶標(biāo)點(diǎn)的中心點(diǎn)坐標(biāo)；
利用CXD成像技術(shù)，通過對(duì)上、下菲林得到的對(duì)位靶標(biāo)點(diǎn)的中心點(diǎn)坐標(biāo)進(jìn)行距離計(jì)算，分別得出上、下菲林的四個(gè)對(duì)位靶標(biāo)點(diǎn)的偏移距離值d ；
建立數(shù)據(jù)模型，設(shè)定對(duì)位靶標(biāo)點(diǎn)的坐標(biāo)為(X，y)，偏移角度為沒，xl為X方向的偏移量，yl為I方向的偏移量，(xi, yi)為經(jīng)過矩陣變化后的對(duì)位祀標(biāo)點(diǎn)的坐標(biāo)，根據(jù)公式:
權(quán)利要求
1.一種PCB曝光機(jī)的糾偏均分對(duì)位方法，其特征在于:所述糾偏均分對(duì)位方法步驟包括: 利用CCD成像技術(shù)，得到上、下菲林的對(duì)位靶標(biāo)點(diǎn)的中心點(diǎn)坐標(biāo)； 利用C⑶成像技術(shù)，通過對(duì)上、下菲林得到的對(duì)位靶標(biāo)點(diǎn)的中心點(diǎn)坐標(biāo)進(jìn)行距離計(jì)算，分別得出上、下菲林的四個(gè)對(duì)位靶標(biāo)點(diǎn)的偏移距離值d ； 建立數(shù)據(jù)模型，設(shè)定對(duì)位靶標(biāo)點(diǎn)的坐標(biāo)為(X，y)，偏移角度為沒，Xl為X方向的偏移量，yl為I方向的偏移量，(xi, yi)為經(jīng)過矩陣變化后的對(duì)位祀標(biāo)點(diǎn)的坐標(biāo),根據(jù)公式:
全文摘要
本發(fā)明提供一種PCB曝光機(jī)的糾偏均分對(duì)位方法，其包括區(qū)中心點(diǎn)坐標(biāo)、求偏移距離值d、建立數(shù)據(jù)模型、利用序列二次規(guī)劃算法求得對(duì)位靶標(biāo)點(diǎn)的x方向的偏移量x1、y方向的偏移量y1、偏移角度，其中p為靶標(biāo)點(diǎn)，按得到的偏移量偏移對(duì)位，校準(zhǔn)最終坐標(biāo)，本發(fā)明能有效的增加PCB曝光機(jī)對(duì)位的精確性。
文檔編號(hào)G03F9/00GK103217876SQ201310114799
公開日2013年7月24日 申請(qǐng)日期2013年4月3日 優(yōu)先權(quán)日2013年4月3日
發(fā)明者張方德, 王玉璋, 賀興志, 鐘靖 申請(qǐng)人:浙江歐視達(dá)科技有限公司