顯示基板及其制造方法和顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種顯示基板及其制造方法和顯示裝置。該顯示基板包括襯底基板、黑矩陣、覆蓋層、主隔墊物和副隔墊物，所述黑矩陣位于所述襯底基板的上方，所述覆蓋層位于所述黑矩陣的上方，所述主隔墊物和所述副隔墊物位于所述覆蓋層之上且位于所述黑矩陣的上方，所述覆蓋層上設置有第一凹槽，所述副隔墊物位于所述第一凹槽內。本發(fā)明通過在覆蓋層上設置第一凹槽，使得主隔墊物和副隔墊物之間形成的主副段差較大，從而實現(xiàn)了形成主副段差較大的主隔墊物和副隔墊物。
【專利說明】
顯示基板及其制造方法和顯示裝置

【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術領域】，特別涉及一種顯示基板及其制造方法和
[0002]顯示裝置。

【背景技術】
[0003]液晶顯示器是目前最常用的平板顯示器，其中薄膜晶體管液晶顯示器(Thin FilmTransistor Liquid Crystal Display,簡稱TFT-1XD)是液晶顯示器中的主流產(chǎn)品。顯示裝置是液晶顯示器中的重要部件。通常顯示裝置包括對盒設置的陣列基板和彩膜基板(ColorFilter,簡稱CF)，陣列基板和彩膜基板之間填充有液晶層。為使得顯示裝置具備一定的盒厚(Cell Gap)，需要在陣列基板和彩膜基板之間設置隔墊物(Photo Spacer，簡稱PS)。彩膜基板可包括襯底基板和形成于襯底基板上方的黑矩陣、彩色矩陣圖形，黑矩陣和彩色矩陣圖形的上方形成有覆蓋層，隔墊物可形成于覆蓋層上。可在覆蓋層上沉積隔墊物材料層，再對隔墊物材料層進行構圖工藝以形成隔墊物，其中，構圖工藝可包括曝光、顯影和刻蝕。通常，隔墊物可分為主隔墊物(Main PS)和副隔墊物(Sub PS)，主隔墊物和副隔墊物位于表面平坦的覆蓋層上，且主隔墊物的高度大于副隔墊物的高度，因此主隔墊物和副隔墊物之間存在主副段差(M-S段差)，該主副段差即主隔墊物的頂端和副隔墊物的頂端之間的高度差。當彩膜基板和陣列基板對盒后，主隔墊物直接支撐在陣列基板上以起到主要支撐作用，而正常情況下副隔墊物不與陣列基板接觸，只在受外力作用時副隔墊物才起到輔助支撐作用，以防止主隔墊物壓縮量過大造成損壞。
[0004]主隔墊物和副隔墊物是通過一次構圖工藝同步制成。若需要制成主副段差小于0.2μπι的主隔墊物和副隔墊物時，在構圖工藝中僅需調節(jié)工藝參數(shù)即可實現(xiàn)；若需要制成主副段差小于0.6 μ m且大于0.2 μ m的主隔墊物和副隔墊物時，可通過在構圖工藝中使用半色調掩膜板(Half-tone Mask)來實現(xiàn)，半色調掩膜板上與主隔墊物對應部位的透過率和與副隔墊物對應部位的透過率不同，從而在曝光工藝中實現(xiàn)了局部不同強度的曝光，進而最終形成高度不同的主隔墊物和副隔墊物，但是在實際應用中采用半色調掩膜板難以形成主副段差大于0.6 μ m的主隔墊物和副隔墊物。
[0005]綜上所述，現(xiàn)有技術的技術方案形成的主隔墊物和副隔墊物之間的主副段差較小，難以形成主副段差較大的主隔墊物和副隔墊物。


【發(fā)明內容】

[0006]本發(fā)明提供一種顯示基板及其制造方法和顯示裝置，用于實現(xiàn)形成主副段差較大的主隔墊物和副隔墊物。
[0007]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種顯示基板，包括襯底基板、黑矩陣、覆蓋層、主隔墊物和副隔墊物，所述黑矩陣位于所述襯底基板的上方，所述覆蓋層位于所述黑矩陣的上方，所述主隔墊物和所述副隔墊物位于所述覆蓋層之上且位于所述黑矩陣的上方，所述覆蓋層上設置有第一凹槽，所述副隔墊物位于所述第一凹槽內。
[0008]可選地，還包括位于所述襯底基板上方的彩色矩陣圖形，所述覆蓋層位于所述彩色矩陣圖形之上，位于所述黑矩陣之上的彩色矩陣圖形在所述黑矩陣之上形成第二凹槽，所述第二凹槽位于所述第一凹槽的下方，部分所述覆蓋層位于所述第二凹槽內以使所述覆蓋層上形成所述第一凹槽。
[0009]可選地，所述第二凹槽的縱截面的形狀為方形、梯形或者階梯形。
[0010]可選地，所述第一凹槽底部的寬度大于或者等于所述副隔墊物底部的寬度。
[0011]可選地，所述主隔墊物的高度與所述副隔墊物的高度相同，所述主隔墊物和所述副隔墊物之間的主副段差為所述第一凹槽的深度。
[0012]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種顯示裝置，包括相對設置的對置基板和上述顯不基板。
[0013]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種顯示基板的制造方法，包括:
[0014]在襯底基板的上方形成黑矩陣；
[0015]在所述黑矩陣的上方形成覆蓋層，所述覆蓋層上設置有第一凹槽；
[0016]在所述覆蓋層之上形成主隔墊物和副隔墊物，所述主隔墊物和所述副隔墊物位于所述黑矩陣的上方，且所述副隔墊物位于所述第一凹槽內。
[0017]可選地，所述在所述黑矩陣的上方形成覆蓋層，所述覆蓋層上設置有第一凹槽包括:
[0018]在所述黑矩陣的上方形成覆蓋層；
[0019]通過構圖工藝，在所述覆蓋層上形成所述第一凹槽。
[0020]可選地，所述在所述黑矩陣的上方形成覆蓋層之前還包括:在所述襯底基板的上方形成彩色矩陣圖形，位于所述黑矩陣之上的彩色矩陣圖形在所述黑矩陣之上形成第二凹槽，所述第二凹槽位于所述第一凹槽的下方；
[0021]所述在所述黑矩陣的上方形成覆蓋層包括:在所述彩色矩陣圖形之上形成所述覆蓋層，部分所述覆蓋層位于所述第二凹槽內以使所述覆蓋層上形成所述第一凹槽。
[0022]可選地，所述主隔墊物的高度與所述副隔墊物的高度相同，所述主隔墊物和所述副隔墊物之間的主副段差為所述第一凹槽的深度。
[0023]本發(fā)明具有以下有益效果:
[0024]本發(fā)明提供的顯示基板及其制造方法和顯示裝置的技術方案中，主隔墊物和副隔墊物位于覆蓋層之上且位于黑矩陣的上方，覆蓋層上設置有第一凹槽，副隔墊物位于第一凹槽內以使主隔墊物和副隔墊物之間形成主副段差，本發(fā)明通過在覆蓋層上設置第一凹槽，使得主隔墊物和副隔墊物之間形成的主副段差較大，從而實現(xiàn)了形成主副段差較大的主隔墊物和副隔墊物。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0025]圖1為本發(fā)明實施例一提供的一種顯示基板的結構示意圖；
[0026]圖2為本發(fā)明實施例二提供的一種顯示基板的結構示意圖；
[0027]圖3為本發(fā)明實施例三提供的一種顯示基板的結構示意圖；
[0028]圖4為本發(fā)明實施例四提供的一種顯示基板的制造方法的流程圖；
[0029]圖5a為實施例四中形成黑矩陣和彩色矩陣圖形的示意圖；
[0030]圖5b為實施例四中形成覆蓋層的示意圖；
[0031]圖5c為涂覆隔墊物材料層的示意圖；
[0032]圖6a為實施例五中形成黑矩陣和彩色矩陣圖形的示意圖；
[0033]圖6b為實施例五中形成覆蓋層的示意圖；
[0034]圖6c為涂覆隔墊物材料層的示意圖。

【具體實施方式】
[0035]為使本領域的技術人員更好地理解本發(fā)明的技術方案，下面結合附圖對本發(fā)明提供的顯示基板及其制造方法和顯示裝置進行詳細描述。
[0036]圖1為本發(fā)明實施例一提供的一種顯示基板的結構示意圖，如圖1所示，該顯示基板可包括襯底基板11、黑矩陣12、覆蓋層13、主隔墊物14和副隔墊物15，黑矩陣12位于襯底基板11的上方，覆蓋層13位于黑矩陣12的上方，主隔墊物14和副隔墊物15位于覆蓋層13之上且位于黑矩陣12的上方，覆蓋層13上設置有第一凹槽16，副隔墊物15位于第一凹槽16內。
[0037]該顯示基板還包括位于襯底基板11上方的彩色矩陣圖形，覆蓋層13位于彩色矩陣圖形之上，位于黑矩陣12之上的彩色矩陣圖形在黑矩陣12之上形成第二凹槽17，第二凹槽17位于第一凹槽16的下方，部分覆蓋層13位于第二凹槽17內以使覆蓋層13上形成第一凹槽16。本實施例中，彩色矩陣圖形可以為紅色矩陣圖形R、綠色矩陣圖形G或者藍色矩陣圖形B，襯底基板11上方形成多個彩色矩陣圖形，則該多個彩色矩陣圖形可包括依次排列的紅色矩陣圖形R、綠色矩陣圖形G或者藍色矩陣圖形B。在實際應用中，彩色矩陣圖形還可以為其它顏色的矩陣圖形，此處不再一一列舉。彩色矩陣圖形部分位于襯底基板11之上，部分位于相鄰的黑矩陣12之上，位于黑矩陣12之上的相鄰的彩色矩陣圖形形成第二凹槽17，例如:圖1中相鄰的綠色矩陣圖形G和藍色矩陣圖形B在黑矩陣12之上形成第二凹槽17。
[0038]本實施例中，第二凹槽17的縱截面的形狀為方形。第二凹槽17的深度以及第二凹槽17的底部的寬度均可根據(jù)需要進行設置，只要該第二凹槽17的深度以及底部的寬度設置為能夠使得第一凹槽16的各項尺寸滿足預定值即可。
[0039]為保證副隔墊物15能夠平穩(wěn)的放置于第一凹槽16中，第一凹槽16底部的寬度可大于或者等于副隔墊物15底部的寬度。本實施例中，優(yōu)選地，第一凹槽16底部的寬度等于副隔墊物15底部的寬度。
[0040]當主隔墊物14的高度與副隔墊物15的高度相同時，主隔墊物14和副隔墊物15之間的主副段差d為第一凹槽16的深度。本實施例中，覆蓋層13為平坦層，在覆蓋層13中第一凹槽16之外的部分為平坦結構，由于副隔墊物15位于第一凹槽16中，而主隔墊物14位于覆蓋層13的平坦結構上，因此主隔墊物14的頂部高于副隔墊物15的頂部，從而使得主隔墊物14和副隔墊物15之間存在主副段差。而由于副隔墊物15的底部位于第一凹槽16底部表面上，且主隔墊物14的高度與副隔墊物15的高度又相同，因此第一凹槽16的深度即為主副段差d。
[0041]本實施例中，優(yōu)選地，覆蓋層13的厚度為1.5μπι至2μπι，彩色矩陣圖形的厚度為L 5 μ m 至 2 μ m0
[0042]本實施例中，主隔墊物14和副隔墊物15之間的主副段差d可以為0.6μπι以上。
[0043]本實施例提供的顯示基板的技術方案中，主隔墊物和副隔墊物位于覆蓋層之上且位于黑矩陣的上方，覆蓋層上設置有第一凹槽，副隔墊物位于第一凹槽內以使主隔墊物和副隔墊物之間形成主副段差，本實施例通過在覆蓋層上設置第一凹槽，使得主隔墊物和副隔墊物之間形成的主副段差較大，從而實現(xiàn)了形成主副段差較大的主隔墊物和副隔墊物。
[0044]圖2為本發(fā)明實施例二提供的一種顯示基板的結構示意圖，如圖2所示，本實施例中的顯示基板與上述實施例一中的顯示基板的區(qū)別在于，第二凹槽17的縱截面的形狀為梯形。具體地，該第二凹槽17的縱截面的形狀為倒梯形。本實施例的顯示基板中其余結構與上述實施例一相同，此處不再重復描述。
[0045]在實際應用中，第二凹槽17的形狀還可以為其它形狀，例如:階梯形。
[0046]本實施例提供的顯示基板的技術方案中，主隔墊物和副隔墊物位于覆蓋層之上且位于黑矩陣的上方，覆蓋層上設置有第一凹槽，副隔墊物位于第一凹槽內以使主隔墊物和副隔墊物之間形成主副段差，本實施例通過在覆蓋層上設置第一凹槽，使得主隔墊物和副隔墊物之間形成的主副段差較大，從而實現(xiàn)了形成主副段差較大的主隔墊物和副隔墊物。
[0047]圖3為本發(fā)明實施例三提供的一種顯示基板的結構示意圖，如圖2所示，該顯示基板可包括襯底基板11、黑矩陣12、覆蓋層13、主隔墊物14和副隔墊物15，黑矩陣12位于襯底基板11的上方，覆蓋層13位于黑矩陣12的上方，主隔墊物14和副隔墊物15位于覆蓋層13之上且位于黑矩陣12的上方，覆蓋層13上設置有第一凹槽16，副隔墊物15位于第一凹槽16內。
[0048]該顯示基板還包括位于襯底基板11上方的彩色矩陣圖形，覆蓋層13位于彩色矩陣圖形之上。本實施例中，彩色矩陣圖形可以為紅色矩陣圖形R、綠色矩陣圖形G或者藍色矩陣圖形B，襯底基板11上方形成多個彩色矩陣圖形，則該多個彩色矩陣圖形可包括依次排列的紅色矩陣圖形R、綠色矩陣圖形G或者藍色矩陣圖形B。在實際應用中，彩色矩陣圖形還可以為其它顏色的矩陣圖形，此處不再一一列舉。彩色矩陣圖形部分位于襯底基板11之上，部分位于相鄰的黑矩陣12之上。
[0049]本實施例中的顯示基板與上述實施例一中的顯示基板的區(qū)別在于，位于黑矩陣12之上的相鄰的彩色矩陣圖形未形成第二凹槽，例如:圖3中相鄰的綠色矩陣圖形G和藍色矩陣圖形B在黑矩陣12之上未形成第二凹槽。
[0050]為保證副隔墊物15能夠平穩(wěn)的放置于第一凹槽16中，第一凹槽16底部的寬度可大于或者等于副隔墊物15底部的寬度。本實施例中，優(yōu)選地，第一凹槽16底部的寬度等于副隔墊物15底部的寬度。
[0051]當主隔墊物14的高度與副隔墊物15的高度相同時，主隔墊物14和副隔墊物15之間的主副段差d為第一凹槽16的深度。本實施例中，覆蓋層13為平坦層，在覆蓋層13中第一凹槽16之外的部分為平坦結構，由于副隔墊物15位于第一凹槽16中，而主隔墊物14位于覆蓋層13的平坦結構上，因此主隔墊物14的頂部高于副隔墊物15的頂部，從而使得主隔墊物14和副隔墊物15之間存在主副段差。而由于副隔墊物15的底部位于第一凹槽16底部表面上，且主隔墊物14的高度與副隔墊物15的高度又相同，因此第一凹槽16的深度即為主副段差d。
[0052]本實施例中，優(yōu)選地，覆蓋層13的厚度為1.5μπι至2μπι，彩色矩陣圖形的厚度為L 5 μ m 至 2 μ m0
[0053]本實施例中，主隔墊物14和副隔墊物15之間的主副段差d可以為0.6μπι以上。
[0054]本實施例提供的顯示基板的技術方案中，主隔墊物和副隔墊物位于覆蓋層之上且位于黑矩陣的上方，覆蓋層上設置有第一凹槽，副隔墊物位于第一凹槽內以使主隔墊物和副隔墊物之間形成主副段差，本實施例通過在覆蓋層上設置第一凹槽，使得主隔墊物和副隔墊物之間形成的主副段差較大，從而實現(xiàn)了形成主副段差較大的主隔墊物和副隔墊物。
[0055]本發(fā)明實施例四提供了一種顯示裝置，該顯示裝置可包括相對設置的對置基板和顯示基板。其中，顯示基板可采用上述實施例一、實施例二或者實施例三提供的顯示基板，此處不再贅述。
[0056]對置基板和顯示基板之間可設置有液晶層。
[0057]可選地，顯示基板為彩膜基板，則對置基板為陣列基板。
[0058]可選地,顯不基板為彩膜陣列基板(color filter on array,簡稱COA),則對置基板為透明基板。
[0059]本實施例提供的顯示裝置的技術方案中，主隔墊物和副隔墊物位于覆蓋層之上且位于黑矩陣的上方，覆蓋層上設置有第一凹槽，副隔墊物位于第一凹槽內以使主隔墊物和副隔墊物之間形成主副段差，本實施例通過在覆蓋層上設置第一凹槽，使得主隔墊物和副隔墊物之間形成的主副段差較大，從而實現(xiàn)了形成主副段差較大的主隔墊物和副隔墊物。
[0060]圖4為本發(fā)明實施例四提供的一種顯示基板的制造方法的流程圖，如圖4所示，該方法包括:
[0061]步驟101、在襯底基板的上方形成黑矩陣。
[0062]可選地，本實施例還可以包括:
[0063]步驟102、在襯底基板的上方形成彩色矩陣圖形，位于黑矩陣之上的彩色矩陣圖形在黑矩陣之上形成第二凹槽。
[0064]圖5a為實施例四中形成黑矩陣和彩色矩陣圖形的示意圖，如圖5a所示，通過構圖工藝在襯底基板11之上形成黑矩陣12，再通過構圖工藝在襯底基板11之上形成彩色矩陣圖形，彩色矩陣圖形可以為紅色矩陣圖形R、綠色矩陣圖形G或者藍色矩陣圖形B，襯底基板11上方形成多個彩色矩陣圖形，則該多個彩色矩陣圖形可包括依次排列的紅色矩陣圖形R、綠色矩陣圖形G或者藍色矩陣圖形B。位于黑矩陣12之上的彩色矩陣圖形在黑矩陣12之上形成第二凹槽17。其中，構圖工藝可包括光刻膠涂覆、曝光、顯影、刻蝕和光刻膠剝離等工藝。在曝光過程中使用的掩膜板可以為對傳統(tǒng)的掩膜板進行修改而得到或者為直接制作出的新的掩膜板。
[0065]步驟103、在黑矩陣的上方形成覆蓋層，覆蓋層上設置有第一凹槽，第二凹槽位于第一凹槽的下方。
[0066]圖5b為實施例四中形成覆蓋層的示意圖，如圖5b所示,步驟103具體包括:在彩色矩陣圖形之上形成覆蓋層13，部分覆蓋層13位于第二凹槽17內以使覆蓋層13上形成第一凹槽16。
[0067]步驟105、在覆蓋層之上形成主隔墊物和副隔墊物，主隔墊物和副隔墊物位于黑矩陣的上方，且副隔墊物位于第一凹槽內。
[0068]圖5c為涂覆隔墊物材料層的示意圖，如圖5c所示，在覆蓋層13之上涂覆隔墊物材料層18，由于覆蓋層13上形成有第一凹槽16，因此位于第一凹槽16上方的隔墊物材料層18也呈凹槽狀。通過掩膜板對隔墊物材料層18進行曝光。如圖1所示，對曝光后的隔墊物材料層18進行顯影和刻蝕以得到主隔墊物14和副隔墊物15。優(yōu)選地，當主隔墊物14的高度與副隔墊物15的高度相同時，主隔墊物14和副隔墊物15之間的主副段差為第一凹槽16的深度，此時在第一凹槽16的作用下無需再生成高度不同的主隔墊物14和副隔墊物15，因此可采用普通的掩膜板(即:不同部位透過率相同的掩膜板)對隔墊物材料層18進行曝光，無需使用半色調掩膜板對隔墊物材料層18進行曝光，從而降低了掩膜板的成本。
[0069]本實施例提供的顯示基板的制造方法可用于制造實施例一或者實施例二提供的顯示基板，對顯示基板的具體描述可參見上述實施例一或者實施例二。
[0070]本實施例提供的顯示基板的制造方法制造出的顯示基板中，主隔墊物和副隔墊物位于覆蓋層之上且位于黑矩陣的上方，覆蓋層上設置有第一凹槽，副隔墊物位于第一凹槽內以使主隔墊物和副隔墊物之間形成主副段差，本實施例通過在覆蓋層上設置第一凹槽，使得主隔墊物和副隔墊物之間形成的主副段差較大，從而實現(xiàn)了形成主副段差較大的主隔墊物和副隔墊物。
[0071]本發(fā)明實施例五提供了一種顯示基板的制造方法，該方法包括:
[0072]步驟201、在襯底基板的上方形成黑矩陣。
[0073]可選地，本實施例還可以包括:
[0074]步驟202、在襯底基板的上方形成彩色矩陣圖形。
[0075]圖6a為實施例五中形成黑矩陣和彩色矩陣圖形的示意圖，如圖6a所示，通過構圖工藝在襯底基板11之上形成黑矩陣12，再通過構圖工藝在襯底基板11之上形成彩色矩陣圖形，彩色矩陣圖形可以為紅色矩陣圖形R、綠色矩陣圖形G或者藍色矩陣圖形B，襯底基板11上方形成多個彩色矩陣圖形，則該多個彩色矩陣圖形可包括依次排列的紅色矩陣圖形R、綠色矩陣圖形G或者藍色矩陣圖形B。其中，構圖工藝可包括光刻膠涂覆、曝光、顯影、刻蝕和光刻膠剝離等工藝。
[0076]步驟203、在黑矩陣的上方形成覆蓋層，覆蓋層上設置有第一凹槽。
[0077]圖6b為實施例五中形成覆蓋層的示意圖，如圖6b所示，在黑矩陣的上方形成覆蓋層13，通過構圖工藝在覆蓋層13上形成第一凹槽16。構圖工藝可包括光刻膠涂覆、曝光、顯影、刻蝕和光刻膠剝離等工藝。其中，優(yōu)選地，曝光工藝可采用普通的掩膜板對光刻膠進行曝光，無需采用半色調掩膜板對光刻膠進行曝光，從而降低了掩膜板的成本。
[0078]步驟205、在覆蓋層之上形成主隔墊物和副隔墊物，主隔墊物和副隔墊物位于黑矩陣的上方，且副隔墊物位于第一凹槽內。
[0079]圖6c為涂覆隔墊物材料層的示意圖，如圖6c所示，在覆蓋層13之上涂覆隔墊物材料層18，由于覆蓋層13上形成有第一凹槽16，因此位于第一凹槽16上方的隔墊物材料層18也呈凹槽狀。通過掩膜板對隔墊物材料層18進行曝光。如圖3所示，對曝光后的隔墊物材料層18進行顯影和刻蝕以得到主隔墊物14和副隔墊物15。優(yōu)選地，當主隔墊物14的高度與副隔墊物15的高度相同時，主隔墊物15和副隔墊物15之間的主副段差為第一凹槽I的深度，此時可采用普通的掩膜板(即:不同部位透過率相同的掩膜板)對隔墊物材料層18進行曝光，無需使用半色調掩膜板對隔墊物材料層18進行曝光，從而降低了掩膜板的成本。
[0080]本實施例提供的顯示基板的制造方法可用于制造實施例三提供的顯示基板，對顯示基板的具體描述可參見上述實施例三。
[0081]本實施例提供的顯示基板的制造方法制造出的顯示基板中，主隔墊物和副隔墊物位于覆蓋層之上且位于黑矩陣的上方，覆蓋層上設置有第一凹槽，副隔墊物位于第一凹槽內以使主隔墊物和副隔墊物之間形成主副段差，本實施例通過在覆蓋層上設置第一凹槽，使得主隔墊物和副隔墊物之間形成的主副段差較大，從而實現(xiàn)了形成主副段差較大的主隔墊物和副隔墊物。
[0082]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。
【權利要求】
1.一種顯示基板，其特征在于，包括襯底基板、黑矩陣、覆蓋層、主隔墊物和副隔墊物，所述黑矩陣位于所述襯底基板的上方，所述覆蓋層位于所述黑矩陣的上方，所述主隔墊物和所述副隔墊物位于所述覆蓋層之上且位于所述黑矩陣的上方，所述覆蓋層上設置有第一凹槽，所述副隔墊物位于所述第一凹槽內。
2.根據(jù)權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，還包括位于所述襯底基板上方的彩色矩陣圖形，所述覆蓋層位于所述彩色矩陣圖形之上，位于所述黑矩陣之上的彩色矩陣圖形在所述黑矩陣之上形成第二凹槽，所述第二凹槽位于所述第一凹槽的下方，部分所述覆蓋層位于所述第二凹槽內以使所述覆蓋層上形成所述第一凹槽。
3.根據(jù)權利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述第二凹槽的縱截面的形狀為方形、梯形或者階梯形。
4.根據(jù)權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述第一凹槽底部的寬度大于或者等于所述副隔墊物底部的寬度。
5.根據(jù)權利要求1至4任一所述的顯示基板，其特征在于，所述主隔墊物的高度與所述副隔墊物的高度相同，所述主隔墊物和所述副隔墊物之間的主副段差為所述第一凹槽的深度。
6.一種顯示裝置，其特征在于，包括相對設置的對置基板和上述權利要求1至5任一所述的顯不基板。
7.—種顯示基板的制造方法，其特征在于，包括: 在襯底基板的上方形成黑矩陣； 在所述黑矩陣的上方形成覆蓋層，所述覆蓋層上設置有第一凹槽； 在所述覆蓋層之上形成主隔墊物和副隔墊物，所述主隔墊物和所述副隔墊物位于所述黑矩陣的上方，且所述副隔墊物位于所述第一凹槽內。
8.根據(jù)權利要求7所述的顯示基板的制造方法，其特征在于，所述在所述黑矩陣的上方形成覆蓋層，所述覆蓋層上設置有第一凹槽包括: 在所述黑矩陣的上方形成覆蓋層； 通過構圖工藝，在所述覆蓋層上形成所述第一凹槽。
9.根據(jù)權利要求7所述的顯示基板的制造方法，其特征在于，所述在所述黑矩陣的上方形成覆蓋層之前還包括:在所述襯底基板的上方形成彩色矩陣圖形，位于所述黑矩陣之上的彩色矩陣圖形在所述黑矩陣之上形成第二凹槽，所述第二凹槽位于所述第一凹槽的下方； 所述在所述黑矩陣的上方形成覆蓋層包括:在所述彩色矩陣圖形之上形成所述覆蓋層，部分所述覆蓋層位于所述第二凹槽內以使所述覆蓋層上形成所述第一凹槽。
10.根據(jù)權利要求7至9任一所述的顯示基板的制造方法，其特征在于，所述主隔墊物的高度與所述副隔墊物的高度相同，所述主隔墊物和所述副隔墊物之間的主副段差為所述第一凹槽的深度。
【文檔編號】G02F1/1333GK104298010SQ201410433561
【公開日】2015年1月21日 申請日期:2014年8月28日 優(yōu)先權日:2014年8月28日
【發(fā)明者】尹小斌 申請人:合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團股份有限公司