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      用于壓印納米結(jié)構(gòu)的方法和裝置與流程

      文檔序號:12287400閱讀:來源:國知局

      技術(shù)特征:

      1.用于將納米結(jié)構(gòu)(13)從納米結(jié)構(gòu)壓模(5)壓印到施加到基體(7)上的、能夠硬化的材料(8)的壓模面(14)中的方法,具有下列步驟、尤其下列過程:

      - 相對于所述壓模面(14)對齊所述納米結(jié)構(gòu)(13),

      - 通過如下方式壓印所述壓模面(14)

      A) 通過所述納米結(jié)構(gòu)壓模(5)的變形來預(yù)緊所述納米結(jié)構(gòu)壓模(5)和/或通過所述基體(7)的變形來預(yù)緊所述基體(7),

      B) 所述壓模面(14)的部分面(15)與所述納米結(jié)構(gòu)壓模(5)接觸,以及

      C) 至少部分地、尤其主要地,通過預(yù)緊所述納米結(jié)構(gòu)壓模(5)和/或預(yù)緊所述基體(7)自動接觸所述其余面(16)。

      2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述納米結(jié)構(gòu)壓模(5)至少主要由下列的、硬的、尤其UV透明的材料中的至少一個形成:

      - 石英和/或

      - 二氧化硅和/或

      - 聚合物、尤其聚二甲基硅氧烷、聚四氟乙烯、全氟化的聚醚、聚乙烯醇,聚氯乙烯和/或乙烯四氟乙烯。

      3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中,所述納米結(jié)構(gòu)壓模(5)的光學的透明度大于0%、優(yōu)選地大于20%、更優(yōu)選地大于50%、最優(yōu)選地大于80%、所有最優(yōu)選地大于95%。

      4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中,所述納米結(jié)構(gòu)壓模(5)借助于壓模吸納設(shè)備(1)保持、運動和必要時變形。

      5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中,所述基體(7)借助于基體吸納設(shè)備(2)保持、運動和必要時變形。

      6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中,所述壓模吸納設(shè)備(1)具有用于使得所述納米結(jié)構(gòu)壓模(5)變形的促動器(3)。

      7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中,所述材料(8)在完全的接觸之后、尤其借助于光、優(yōu)選地穿過所述納米結(jié)構(gòu)壓模(5)來硬化。

      8.用于將納米結(jié)構(gòu)(13)從納米結(jié)構(gòu)壓模(5)壓印到施加到基體(7)上的、能夠硬化的材料(8)的壓模面(14)中的裝置,具有:

      - 用于相對于所述壓模面(14)對齊所述納米結(jié)構(gòu)(13)的對齊器件,

      - 用于通過如下方式壓印所述壓模面(14)的壓印設(shè)備(17)

      A) 用于通過使得所述納米結(jié)構(gòu)壓模(5)變形來預(yù)緊所述納米結(jié)構(gòu)壓模(5)的第一預(yù)緊器件(3、4)和/或用于通過使得所述基體(7)變形來預(yù)緊所述基體(7)的第二預(yù)緊器件,

      B) 用于所述壓模面(14)的部分面(15)與所述納米結(jié)構(gòu)壓模(5)接觸的接觸器件,以及

      C) 用于至少部分地、尤其主要地、通過預(yù)緊所述納米結(jié)構(gòu)壓模(5)和/或預(yù)緊所述基體(7)來自動接觸所述其余面(16)的器件。

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