技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及壓印技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種負壓式納米壓印設(shè)備。其包括外支撐架、支撐座以及納米壓印系統(tǒng)，其中納米壓印系統(tǒng)固定在支撐座上，支撐架架設(shè)在納米壓印系統(tǒng)外部，固定在支撐座的上部邊緣，而納米壓印系統(tǒng)包括用以燈光照射的UV?LED燈、位于UV?LED燈下部的壓印模板、位于壓印模板下方的壓印平臺，而壓印平臺通過伺服驅(qū)動系統(tǒng)固定在支撐座之上，壓印平臺自上而下包括涂抹的光刻膠、壓印基板以及帶抽真空系統(tǒng)的吸盤。本設(shè)備在真空腔內(nèi)壓印，相比常壓下壓印，壓印過程不會產(chǎn)生氣泡，壓印膠在真空的吸附作下能夠填充到整個結(jié)構(gòu)，保證模板的結(jié)構(gòu)完全能夠轉(zhuǎn)移到基板上。

技術(shù)研發(fā)人員：張欣
受保護的技術(shù)使用者：青島德微光納科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.05.27
技術(shù)公布日：2017.07.28