光學(xué)回路的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光學(xué)回路。更詳細(xì)而言，涉及具備能夠使光透射的透明板、和在上述透明板上用粘接劑粘接的遮光板的光學(xué)回路。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，在光纖通信業(yè)界中，為了對應(yīng)于通信數(shù)據(jù)量的增大，利用了波分復(fù)用(Wavelength Divis1n Multiplexer:WDM)技術(shù)。作為用于構(gòu)筑使用了 WDM技術(shù)的大容量光通信系統(tǒng)的光學(xué)設(shè)備之一，已知有波長選擇開關(guān)(Wavelength Selective Switch:WSS)。
[0003]WSS是能夠從所輸入的WDM信號選擇任意的波長并分配給任意的輸出的設(shè)備。WSS一般基本上具有:輸入輸出部，輸入輸出WDM信號；分散元件，對WDM信號進(jìn)行分波以及合波；聚光元件，對通過分波所生成的多個(gè)光波束進(jìn)行聚光；以及光偏轉(zhuǎn)設(shè)備，具備為了切換輸出而使多個(gè)光波束分別偏轉(zhuǎn)的多個(gè)光偏轉(zhuǎn)元件。
[0004]作為WSS，在光信號的透射頻帶特性、光損失、偏振依賴性的點(diǎn)中有利的MEMS (Micro Electro Mechanical System)方式成為主流，作為偏光設(shè)備，已知具有MEMS反射鏡的波長選擇開關(guān)(參照例如專利文獻(xiàn)I)。
[0005]另一方面，在這樣的波長選擇開關(guān)中，使來自未使用的MEMS反射鏡的雜散光不與光纖耦合成為課題。針對該課題，還研宄了利用驅(qū)動(dòng)未使用的MEMS反射鏡的驅(qū)動(dòng)電路而遮光的單元，但需要本來不使用的用于驅(qū)動(dòng)MEMS反射鏡的多余的驅(qū)動(dòng)電路，所以存在成為高成本等問題。因此，采用了針對MEMS反射鏡附近的玻璃部件的表面，設(shè)置開口部而使光部分性地通過，并且用粘接劑安裝對其他部分進(jìn)行遮光的遮光板(掩模)，從而抑制雜散光的結(jié)構(gòu)。
[0006]圖10是示出以往的波長選擇開關(guān)模塊100的概略圖，模塊100具備:透明板2，能夠使光透射；遮光板3，在透明板2上用粘接劑4粘接，形成能夠使光通過的開口部31，除了上述開口部31以外對入射光進(jìn)行遮光；MEMS反射鏡6，隔著透明板2設(shè)置于遮光板3的相反側(cè)，對入射光進(jìn)行受光；以及基板7，搭載MEMS反射鏡6。另外，在圖10中，將MEMS反射鏡6中的、對入射光進(jìn)行受光的區(qū)域設(shè)為“使用反射鏡區(qū)域”，將被遮光板3遮光而無法對入射光進(jìn)行受光的區(qū)域設(shè)為“未使用反射鏡區(qū)域”。
[0007]專利文獻(xiàn)1:日本特開2007-148042號公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]但是，在通過粘接劑4在玻璃部件的表面安裝遮光板3時(shí)，粘接劑4有時(shí)從遮光板3的端向作為光通過的區(qū)域的開口部31露出。另一方面，作為光通過的路徑的開口部31中的粘接劑4的露出部41有時(shí)針對通過開口部31的光造成惡劣影響。例如，有時(shí)通過開口部31，而在對使用反射鏡區(qū)域照射的光中產(chǎn)生損失，從MEMS反射鏡6反射的光的量變得不齊，而且，粘接劑4的露出部41所致的光損失還有時(shí)導(dǎo)致噪聲的增大。另外，還存在如果通過粘接劑4的露出部41反射光，則成為串?dāng)_(串音)的原因這樣的課題。
[0009]本發(fā)明是鑒于上述課題而完成的，其目的在于，提供一種在作為遮光板中的光的通過區(qū)域的開口部中露出了的粘接劑不會對通過開口部的光造成惡劣影響的光學(xué)回路。
[0010]為了達(dá)成上述目的，成為具備以使開口部的外部側(cè)成為突出(overhang)狀的方式加工了的遮光板的光學(xué)回路。
[0011]具體而言，本發(fā)明提供一種光學(xué)回路，其特征在于，具備:透明板，能夠使光透射；以及遮光板，在所述透明板上用粘接劑粘接，且具有使入射光通過的開口部，在所述開口部中，與所述透明板的一側(cè)相反的一側(cè)按照突出狀朝向所述開口部的中央突出。
[0012]本發(fā)明的光學(xué)回路成為使在透明板上用粘接劑粘接的遮光板中形成且與成為光的通路的開口部的透明板的側(cè)相反的一側(cè)按照突出狀朝向開口部的中央突出，所以成為突出了的部分隱藏將透明板和遮光板用粘接劑粘接了的情況的粘接劑的露出，防止粘接劑的露出所致的向光路的惡劣影響，能夠發(fā)揮按照設(shè)計(jì)的透射特性的光學(xué)回路。
[0013]本發(fā)明的光學(xué)回路在上述本發(fā)明中，關(guān)于所述遮光板，所述開口部側(cè)的側(cè)面的與所述遮光板垂直的剖面形狀是從與所述透明板的一側(cè)相反的一側(cè)的前端朝向所述透明板的一側(cè)的前端成為直線狀。
[0014]這樣，通過使突出了的部分成為銳角狀，能夠可靠地隱藏粘接劑的露出，而且，使開口部的剖面從與透明板的一側(cè)相反的一側(cè)的前端朝向透明板的一側(cè)的前端成為直線狀，從而能夠容易地進(jìn)行遮光板的加工。
[0015]本發(fā)明的光學(xué)回路在上述本發(fā)明中，關(guān)于所述遮光板，所述開口部側(cè)的側(cè)面的與所述遮光板垂直的剖面形狀是從與所述透明板的一側(cè)相反的一側(cè)的前端朝向所述透明板的一側(cè)的前端成為交叉的2根直線，所述2根直線交叉的部分朝向所述開口部的中心成為凸?fàn)睢?br>[0016]這樣，通過使突出了的部分成為銳角狀，能夠可靠地隱藏粘接劑的露出，而且，從與和透明板相對的一側(cè)相反的一側(cè)的前端朝向透明板的一側(cè)的前端成為交叉的2根直線，從而能夠增大邊緣的角度，所以邊緣變得結(jié)實(shí)。另外，2根直線交叉的部分朝向開口部的中心成為凸?fàn)睿韵啾扔贗根直線狀的情況，更易于隱藏粘接劑的露出。
[0017]本發(fā)明的光學(xué)回路在上述本發(fā)明中，還具備:多個(gè)光學(xué)元件，對入射光進(jìn)行受光；以及基板，搭載所述多個(gè)光學(xué)元件，搭載了所述多個(gè)光學(xué)元件的基板隔著所述透明板配置于所述遮光板的相反側(cè)，所述遮光板被配置成通過所述開口部的入射光束的中心被投影到所述光學(xué)元件的中心。
[0018]通過針對入射光這樣配置遮光板，通過開口部的入射光被高效地照射到MEMS反射鏡。
[0019]本發(fā)明的光學(xué)回路在上述本發(fā)明中，還具備:多個(gè)光學(xué)元件，對入射光進(jìn)行受光；以及基板，搭載所述多個(gè)光學(xué)元件，搭載了所述多個(gè)光學(xué)元件的基板隔著所述透明板配置于所述遮光板的相反側(cè)，所述遮光板被配置成通過所述開口部的入射光束的入射光端被投影到所述光學(xué)元件內(nèi)。
[0020]通過針對入射光這樣配置遮光板，通過開口部的入射光被高效地照射到MEMS反射鏡。
[0021]在本發(fā)明的光學(xué)回路中，使在透明板上用粘接劑粘接的遮光板中形成，且與成為光的通路的開口部的透明板的一側(cè)相反的一側(cè)按照突出狀朝向開口部的中央突出，所以成為突出了的部分隱藏將透明板和遮光板用粘接劑粘接了的情況的粘接劑的露出，防止粘接劑的露出所致的向光路的惡劣影響，能夠發(fā)揮按照設(shè)計(jì)的透射特性的光學(xué)回路。
【附圖說明】
[0022]圖1是示出本發(fā)明的實(shí)施方式I的波長選擇開關(guān)模塊的一個(gè)方式的概略圖。
[0023]圖2是圖1的部分放大圖，是示出突出部周邊的圖。
[0024]圖3是說明MEMS反射鏡的調(diào)芯步驟的示意圖。
[0025]圖4是說明MEMS反射鏡的調(diào)芯步驟的示意圖。
[0026]圖5是說明MEMS反射鏡的調(diào)芯步驟的示意圖。
[0027]圖6是示出在圖1中，以使通過開口部的發(fā)散光的入射光端投影到MEMS反射鏡的間隙的方式設(shè)置了遮光板的狀態(tài)的概略圖。
[0028]圖7是示出在圖1中，以使通過開口部的入射光的會聚波束的中心投影到MEMS反射鏡的方式設(shè)置了遮光板的狀態(tài)的概略圖。
[0029]圖8是示出本發(fā)明的實(shí)施方式2的波長選擇開關(guān)模塊的一個(gè)方式的概略圖。
[0030]圖9是圖8的部分放大圖，是示出突出部周邊的圖。
[0031]圖10是示出以往的波長選擇開關(guān)模塊的一個(gè)方式的概略圖。
[0032](符號說明)
[0033]1:光學(xué)回路(波長選擇開關(guān)模塊)；2:透明板；3:遮光板；31:開口部；32:突出部；4:粘接劑；41:粘接劑的露出；6:MEMS反射鏡(光學(xué)元件)；7:基板；100:以往的波長選擇開關(guān)模塊；X、Y:直線。