顯示面板及其制造方法、顯示裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術領域，特別涉及一種顯示面板及其制造方法、顯示裝置。
【背景技術】
[0002]液晶顯示器的顯示面板包括彩膜基板、陣列基板，及位于彩膜基板和陣列基板之間的液晶層。在制造彩膜基板和陣列基板的過程中，常常會用到掩膜版。
[0003]相關技術中，在彩膜基板上形成黑矩陣圖形時，先將光刻膠涂覆在襯底基板上，接著利用光源照射掩膜版，透過掩膜版的透射光線使襯底基板上的光刻膠感光，再經過顯影技術將感光的光刻膠溶解掉，將未感光的光刻膠固化，最后處理后的襯底基板經過刻蝕技術形成黑矩陣圖形。在陣列基板上形成公共電極圖形時，也可以采用同樣的方法得到公共電極圖形。
[0004]由于上述制造方法在彩膜基板或陣列基板上形成黑矩陣圖形需要使用一個掩膜版，在陣列基板上形成公共電極圖形也需要使用一個掩膜版，所以顯示面板的整個制造過程需要使用兩個掩膜版，同時，掩膜版的價格又較為昂貴，因此，顯示面板的制造過程較為復雜，且制造成本$父尚。

【發(fā)明內容】

[0005]為了解決顯示面板的制造過程較為復雜，且制造成本較高的問題，本發(fā)明提供了一種顯示面板及其制造方法、顯示裝置。所述技術方案如下:
[0006]第一方面，提供了一種顯示面板的制造方法，所述顯示面板包括第一膜層和第二膜層，所述方法包括:
[0007]采用掩膜版對所述第一膜層進行圖案化，形成第一膜層圖形；
[0008]采用所述掩膜版對所述第二膜層進行圖案化，形成第二膜層圖形；
[0009]其中，在形成所述第一膜層圖形和所述第二膜層圖形時采用的光刻膠的感光性能不同，且所述第一膜層圖形在所述第二膜層圖形所在層的正投影與所述第二膜層圖形不重疊。
[0010]可選的，所述顯示面板包括陣列基板和彩膜基板，所述陣列基板包括所述第一膜層和所述第二膜層，
[0011]所述采用掩膜版對所述第一膜層進行圖案化，形成第一膜層圖形，包括:
[0012]采用所述掩膜版對所述第一膜層進行圖案化，形成公共電極圖形；
[0013]所述采用所述掩膜版對所述第二膜層進行圖案化，形成第二膜層圖形，包括:
[0014]采用所述掩膜版對所述第二膜層進行圖案化，形成黑矩陣圖形。
[0015]可選的，所述顯示面板包括陣列基板和彩膜基板，所述陣列基板包括所述第一膜層，所述彩膜基板包括所述第二膜層，
[0016]所述采用掩膜版對所述第一膜層進行圖案化，形成第一膜層圖形，包括:
[0017]采用所述掩膜版對所述第一膜層進行圖案化，形成公共電極圖形；
[0018]所述采用所述掩膜版對所述第二膜層進行圖案化，形成第二膜層圖形，包括:
[0019]采用所述掩膜版對所述第二膜層進行圖案化，形成黑矩陣圖形。
[0020]可選的，所述采用所述掩膜版對所述第一膜層進行圖案化，形成公共電極圖形，包括:
[0021]在形成有柵絕緣層的第一襯底基板上形成第一膜層；
[0022]在形成有所述第一膜層的第一襯底基板上涂覆負性光刻膠；
[0023]采用所述掩膜版對涂覆有所述負性光刻膠的第一襯底基板進行曝光；
[0024]對曝光后的第一襯底基板進行顯影、刻蝕得到所述公共電極圖形；
[0025]剝離所述負性光刻膠。
[0026]可選的，所述采用所述掩膜版對所述第二膜層進行圖案化，形成黑矩陣圖形，包括:
[0027]在形成有過孔圖形的第一襯底基板上形成第二膜層；
[0028]在形成有所述第二膜層的第一襯底基板上涂覆正性光刻膠；
[0029]采用所述掩膜版對涂覆有所述正性光刻膠的第一襯底基板進行曝光；
[0030]對曝光后的第一襯底基板進行顯影、刻蝕得到所述黑矩陣圖形；
[0031]剝離所述正性光刻膠。
[0032]可選的，所述采用所述掩膜版對所述第二膜層進行圖案化，形成黑矩陣圖形，包括:
[0033]在形成有彩色像素的第二襯底基板上形成第二膜層；
[0034]在形成有所述第二膜層的第二襯底基板上涂覆正性光刻膠；
[0035]采用所述掩膜版對涂覆有所述正性光刻膠的第二襯底基板進行曝光；
[0036]對曝光后的第二襯底基板進行顯影、刻蝕得到所述黑矩陣圖形；
[0037]剝離所述正性光刻膠。
[0038]可選的，在所述采用所述掩膜版對所述第二膜層進行圖案化，形成黑矩陣圖形之后，所述方法還包括:
[0039]在形成有所述黑矩陣圖形的第一襯底基板上形成有源層圖形；
[0040]在形成有所述有源層圖形的第一襯底基板上形成像素電極圖形和源漏極金屬圖形；
[0041 ]在所述第二襯底基板上形成彩色像素；
[0042]在形成有所述彩色像素的第二襯底基板上形成隔墊物；
[0043]在形成有所述隔墊物的第二襯底基板上形成樹脂保護層。
[0044]可選的，在所述采用所述掩膜版對所述第一膜層進行圖案化，形成公共電極圖形之后，所述方法還包括:
[0045]在形成有所述公共電極圖形的第一襯底基板上形成有源層圖形；
[0046]在形成有所述有源層圖形的第一襯底基板上形成像素電極圖形和源漏極金屬圖形；
[0047]在所述第二襯底基板上形成彩色像素。
[0048]可選的，在所述采用所述掩膜版對所述第二膜層進行圖案化，形成黑矩陣圖形之后，所述方法還包括:
[0049]在形成有所述黑矩陣圖形的第二襯底基板上形成隔墊物；
[0050]在形成有所述隔墊物的第二襯底基板上形成樹脂保護層。
[0051]可選的，在所述采用所述掩膜版對所述第一膜層進行圖案化，形成公共電極圖形之前，所述方法還包括:
[0052]在第一襯底基板上形成柵線；
[0053]在形成有所述柵線的第一襯底基板上形成所述柵絕緣層。
[0054]可選的，在所述采用所述掩膜版對所述第一膜層進行圖案化，形成公共電極圖形之后，所述方法還包括:
[0055]在形成有所述公共電極圖形的第一襯底基板上形成過孔圖形。
[0056]可選的，所述第一膜層圖形在所述第二膜層圖形所在層的正投影與所述第一膜層圖形互補。
[0057]第二方面，提供了一種顯示面板，所述顯示面板采用如第一方面任一所述的方法制成。
[0058]第三方面，提供了一種顯示裝置，包括第二方面所述的顯示面板。
[0059]本發(fā)明提供了一種顯示面板及其制造方法、顯示裝置，能夠采用同一掩膜版對不同層的第一膜層和第二膜層進行圖案化，形成第一膜層圖形和第二膜層圖形，相較于相關技術，在保證正常的光電面板特性的基礎上，減少了掩膜版的使用數量，簡化了顯示面板的制造過程，降低了制造成本。
[0060]應當理解的是，以上的一般描述和后文的細節(jié)描述僅是示例性和解釋性的，并不能限制本發(fā)明。
【附圖說明】
[0061]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0062]圖1是本發(fā)明實施例提供的一種顯示面板的制造方法的流程圖；
[0063]圖2-1是本發(fā)明實施例提供的另一種顯示面板的制造方法的流程圖；
[0064]圖2-2是本發(fā)明實施例提供的在第一襯底基板上形成柵絕緣層的結構示意圖；