一種掩模板、隔墊物及顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種掩模板、隔墊物及顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 在平板顯示裝置中，薄膜晶體管液晶顯示器（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，簡稱TFT-IXD)具有體積小、功耗低、制造成本相對較低和無福射等特點， 在當(dāng)前的平板顯示器市場占據(jù)了主導(dǎo)地位。
[0003] 其中，TFT-IXD面板主要由相對而置的彩膜基板和陣列基板以及填充于其間的液 晶層構(gòu)成。為了保證液晶層厚度的均一穩(wěn)定性，通常在彩膜基板和陣列基板之間通過隔墊 物隔離出注入液晶層的空間，具體為利用掩模板對光刻膠進行曝光、顯影、刻蝕等工序，從 而形成隔墊物。
[0004] 現(xiàn)有技術(shù)中，掩模板對應(yīng)基板上形成隔墊物的位置設(shè)有開孔，以在開孔處形成曝 光區(qū)，通過掩模構(gòu)圖工藝形成的隔墊物具有頂部尺寸小、底部尺寸大的結(jié)構(gòu)特點。由于隔墊 物為非顯示結(jié)構(gòu)件，因此需要通過黑矩陣進行覆蓋。
[0005] 隨著顯示技術(shù)的不斷進步，人們對顯示裝置解析度的要求越來越高。而現(xiàn)有技術(shù) 中的隔墊物底部尺寸較大，導(dǎo)致顯示裝置的解析度較低，因此，提高顯示裝置的解析度是目 前亟待解決的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 本發(fā)明的目的是提供一種掩模板、隔墊物及顯示裝置，以減小隔墊物的底部尺寸， 提高顯示裝置的解析度。
[0007] 本發(fā)明實施例提供的掩模板，包括遮光區(qū)以及對應(yīng)基板上形成隔墊物位置的透光 區(qū)，所述透光區(qū)的中心設(shè)置有遮擋板，所述遮擋板的邊緣與所述透光區(qū)的邊緣之間形成透 光環(huán)。
[0008] 采用上述掩模板在制作隔墊物時，遮擋板邊緣與透光區(qū)邊緣之間的透光環(huán)可以加 強邊緣衍射效果，從而提高透光光強，進而減小所形成隔墊物的底部尺寸，從而有利于提高 顯示裝置的解析度。
[0009] 可選的，所述遮擋板包括圓形遮擋板或多邊形遮擋板，所述透光區(qū)的形狀與所述 遮擋板的形狀相匹配。
[0010] 較佳的，當(dāng)所述遮擋板為圓形遮擋板時，所述透光環(huán)的外徑為6~12 μ m，所述透 光環(huán)的寬度為1~5 μπι。
[0011] 具體的，所述透光環(huán)的外徑為9 μ m，所述透光環(huán)的寬度為4 μ m。
[0012] 具體的，所述透光環(huán)的外徑為9 μ m，所述透光環(huán)的寬度為3. 5 μ m。
[0013] 具體的，所述透光環(huán)的外徑為9 μ m，所述透光環(huán)的寬度為3 μ m。
[0014] 具體的，所述透光環(huán)的外徑為9 μ m，所述透光環(huán)的寬度為2. 5 μ m。
[0015] 具體的，所述透光環(huán)的外徑為9 μ m，所述透光環(huán)的寬度為2 μ m。
[0016] 本發(fā)明實施例提供的隔墊物，使用如上述任一項技術(shù)方案所述的掩模板形成。該 隔墊物的底部尺寸較小，應(yīng)用于顯示裝置時，有利于提高顯示裝置的解析度。
[0017] 本發(fā)明實施例提供的顯示裝置，包括相對而置的第一基板和第二基板，以及支撐 于所述第一基板和所述第二基板之間的如上述技術(shù)方案所述的隔墊物。該顯示裝置具有較 高的解析度，顯示效果較佳。
【附圖說明】
[0018] 圖1為本發(fā)明實施例的掩模板結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019] 圖2為本發(fā)明各實施例隔墊物厚度與透光區(qū)透射率的對應(yīng)關(guān)系曲線；
[0020] 圖3為歸一化處理后本發(fā)明各實施例與對比例的光強透射率在遮擋板半徑方向 上的分布曲線。
[0021] 附圖標(biāo)記說明：
[0022] 1-掩模板 Ia-遮光區(qū)
[0023] 20a-透光區(qū)邊緣 2a_透光環(huán)
[0024] 3a_遮擋板 30a-遮擋板邊緣
【具體實施方式】
[0025] 為了減小隔墊物的底部尺寸，提高顯示裝置的解析度，本發(fā)明實施例提供了一種 掩模板、隔墊物及顯示裝置。
[0026] 本發(fā)明實施例提供的掩模板1，如圖1所示，包括遮光區(qū)Ia以及對應(yīng)基板上形成隔 墊物位置的透光區(qū)，透光區(qū)的中心設(shè)置有遮擋板3a，遮擋板邊緣30a與透光區(qū)邊緣20a之間 形成透光環(huán)2a。
[0027] 在本發(fā)明實施例中，采用上述掩模板在制作隔墊物時，遮擋板邊緣與透光區(qū)邊緣 之間的透光環(huán)可以加強邊緣衍射效果，從而提高透光光強，進而減小所形成隔墊物的底部 尺寸，從而有利于提高顯示裝置的解析度。
[0028] 其中，遮擋板3a可以為圓形遮擋板或多邊形遮擋板，透光區(qū)的形狀與遮擋板3a的 形狀相匹配。例如，遮擋板為四邊形遮擋板，透光區(qū)的形狀相應(yīng)的為四邊形；又例如，遮擋板 為五邊形遮擋板，透光區(qū)的形狀相應(yīng)的為五邊形。
[0029] 作為優(yōu)選的實施例，遮擋板3a為圓形遮擋板，透光區(qū)的形狀相應(yīng)的為圓形。本申 請的發(fā)明人經(jīng)過大量實驗后得出，透光環(huán)2a的外徑為6~12 μ m，透光環(huán)2a的寬度為1~ 5 μ m時，光的邊緣衍射效果較好，可以大幅提高透光光強，從而使所形成隔墊物的底部尺寸 達到較佳值。
[0030] 在本發(fā)明實施例中，設(shè)有遮擋板的掩模板透光區(qū)可以利用其邊緣衍射加強引起的 聚光效果，產(chǎn)生極大的光強，同時在遮擋板的中心線上，由于不同方向照射過來的光線光程 差相同，因此，在此處光的干涉作用加強，光線透過透光環(huán)形成的圖案不僅光強變大，并且 光強分布范圍變窄，經(jīng)過對光刻膠進行曝光、顯影及刻蝕等工序后，在基板及黑矩陣上就會 形成底部尺寸較小的隔墊物，滿足了高解析度的顯示裝置的設(shè)計要求。
[0031] 如圖2所示為本發(fā)明各實施例隔墊物厚度與透光區(qū)的透射率的對應(yīng)關(guān)系曲線，X 軸代表透光區(qū)的透射率，Y軸代表由掩模板形成的隔墊物的厚度，可以看出，當(dāng)掩模板透光 區(qū)的透射率達到60%以上時，所形成隔墊物的厚度損失小于0. 1 μπι，此時，隔墊物頂部的 平坦度較好，對基板可以起到良好的支撐效果。
[0032] 在本發(fā)明的實施例中，透光環(huán)的具體外徑尺寸以及透光環(huán)的具體寬度尺寸不限， 以下僅列舉幾個較佳的實施例方案。
[0033] 在本發(fā)明所提供的實施例一中，透光環(huán)2a的外徑為9 μπι，透光環(huán)2a的寬度為 4 μ m〇
[0034] 在本發(fā)明所提供的實施例二中，透光環(huán)2a的外徑為9 μπι，透光環(huán)2a的寬度為 3. 5 μ m〇
[0035] 在本發(fā)明所提供的實施例三中，透光環(huán)2a的外徑為9 μπι，透光環(huán)2a的寬度為 3 μ m〇
[0036] 在本發(fā)明所提供的實施例四中，透光環(huán)2a的外徑為9 μπι，透光環(huán)2a的寬度為 2. 5 μ m〇
[0037] 在本發(fā)明所提供的實施例五中，透光環(huán)2a的外徑為9 μπι，透光環(huán)2a的寬度為 2 μ m〇
[0038] 現(xiàn)有的一種掩模板，其透光區(qū)為圓孔，半徑為9 μ m。以現(xiàn)有的一種掩模板為對比 例，與本發(fā)明的各實施例一起，對其調(diào)節(jié)曝光量，使得材料的感光量相同，即對不同結(jié)構(gòu)尺 寸的掩膜板進行歸一化處理，使其經(jīng)過曝光后光強透射率相同且均為1，如圖3所示為進行 歸一化處理后，在以遮擋板圓心為原點的條件下，本發(fā)明各實施例與對比例的光強透射率 在遮擋板半徑方向上的分布，其中，X軸的原點代表遮擋板3a的圓心，Y軸代表透光區(qū)的透 射率，圖中虛線L與各曲線交點之間的距離為隔墊物的底部尺寸，可以明顯看出，各實施例 相對對比例而言，形成的隔墊物的底部尺寸均有所減小，因此，在保證曝光量的前提下，可 以大幅度提高顯示裝置的解析度。
[0039] 該對比例的掩模板與本發(fā)明的實施例一至實施例五的掩模板所形成隔墊物的底 部尺寸對比結(jié)果如表一所示。可以看出，各實施例相對對比例而言，底部尺寸均得到了減 小，其對應(yīng)顯示裝置的解析度均可以得到提高。
[0041] 表一本發(fā)明各實施例與對比例隔墊物底部尺寸的數(shù)據(jù)對比表
[0042] 本發(fā)明實施例提供的隔墊物，使用如上述任一項技術(shù)方案的掩模板形成。該隔墊 物的底部尺寸較小，應(yīng)用于顯示裝置時，有利于提高顯示裝置的解析度。
[0043] 本發(fā)明實施例提供的顯示裝置，包括相對而置的第一基板和第二基板，以及支撐 于第一基板和第二基板之間的如上述技術(shù)方案所述的隔墊物。該顯示裝置具有較高的解析 度，顯示效果較佳。
[0044] 顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精 神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍 之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項】
1. 一種掩模板，其特征在于，所述掩模板包括遮光區(qū)以及對應(yīng)基板上形成隔墊物位置 的透光區(qū)，所述透光區(qū)的中心設(shè)置有遮擋板，所述遮擋板的邊緣與所述透光區(qū)的邊緣之間 形成透光環(huán)。2. 如權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述遮擋板包括圓形遮擋板或多邊形遮 擋板，所述透光區(qū)的形狀與所述遮擋板的形狀相匹配。3. 如權(quán)利要求2所述的掩模板，其特征在于，當(dāng)所述遮擋板為圓形遮擋板時，所述透光 環(huán)的外徑為6 y m~12 y m，所述透光環(huán)的寬度為I y m~5 y m。4. 如權(quán)利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述透光環(huán)的外徑為9 y m，所述透光環(huán)的 寬度為4 ym。5. 如權(quán)利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述透光環(huán)的外徑為9 y m，所述透光環(huán)的 寬度為3. 5 ym。6. 如權(quán)利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述透光環(huán)的外徑為9 y m，所述透光環(huán)的 寬度為3 ym。7. 如權(quán)利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述透光環(huán)的外徑為9 y m，所述透光環(huán)的 寬度為2. 5 ym。8. 如權(quán)利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述透光環(huán)的外徑為9 y m，所述透光環(huán)的 寬度為2 ym。9. 一種隔墊物，其特征在于，使用權(quán)利要求1-8任一項所述的掩模板形成。10. -種顯示裝置，其特征在于，包括相對而置的第一基板和第二基板，以及支撐于所 述第一基板和所述第二基板之間的如權(quán)利要求9所述的隔墊物。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種掩模板、隔墊物及顯示裝置。所述掩模板包括遮光區(qū)以及對應(yīng)基板上形成隔墊物位置的透光區(qū)，所述透光區(qū)的中心設(shè)置有遮擋板，所述遮擋板的邊緣與所述透光區(qū)的邊緣之間形成透光環(huán)。采用該掩模板制作隔墊物，可以減小隔墊物的底部尺寸，從而提高顯示裝置的解析度。
【IPC分類】G02F1/1339, G03F1/00, G02F1/13
【公開號】CN105045032
【申請?zhí)枴緾N201510535951
【發(fā)明人】舒適, 黎午升, 崔承鎮(zhèn), 張鋒
【申請人】京東方科技集團股份有限公司
【公開日】2015年11月11日
【申請日】2015年8月27日