專利名稱：清洗修整盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種用于拋光機(jī)的拋光臺面上，對拋光臺面進(jìn)行清洗、修整的清洗修整盤。
技術(shù)背景在我們現(xiàn)有的技術(shù)中，用來對光學(xué)低通濾波器晶片進(jìn)行拋光處理的拋光機(jī)，采用的是將需要拋光的晶片擺放在拋光下模上，通過內(nèi)部電機(jī)帶動傳動軸轉(zhuǎn)動，從而帶動拋光下模呈行星運行模式轉(zhuǎn)動，通過拋光上模對晶片進(jìn)行拋光處理，在完成拋光工序后，由于拋光機(jī)的長時間工作，很容易導(dǎo)致拋光上模和拋光下模的接觸面產(chǎn)生磨損，且由于長期拋光液的浸注也使拋光模具內(nèi)產(chǎn)生很多的雜質(zhì)，急需清洗，原有的清洗只是單純的用清水沖刷，在很大程度上容易導(dǎo)致拋光模具內(nèi)的死角有很多雜質(zhì)的殘留，從而影響后期拋光晶片的質(zhì) 量。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型解決的技術(shù)問題是提供一種一次性完成拋光臺面的清洗，以及拋光上模和拋光下模接觸面處的修整的清洗修整盤。本實用新型解決其技術(shù)問題所采取的技術(shù)方案是一種用于對拋光機(jī)上的拋光臺面進(jìn)行修整、清洗的清洗修整盤，該清洗修整盤包括正面和反面，其中，所述正面為修整面，反面為清洗面，該清洗修整盤的外周邊上開設(shè)有外齒，所述外齒與拋光下模上的內(nèi)外傳動齒嚙合；所述修整面的中心開設(shè)有中心孔，在修整面的表面鍍有金剛石層，且在所述修整面上開設(shè)有凹槽；所述清洗面的中心部位開設(shè)有濾液孔，在清洗面的表面通過線繩固定連接有刷毛，所述刷毛呈密集型的設(shè)置在清洗面的表面。進(jìn)一步的，為了方便清洗液的流動，所述凹槽的個數(shù)至少為三個，且所述凹槽以修整面中心點位置為中心呈陣列狀分布。更進(jìn)一步的，所述凹槽的個數(shù)為六個。進(jìn)一步的，在所述清洗面上為了保證清洗液能停留一段時間后再流走，所述濾液孔的個數(shù)為四個，且該四個濾液孔在清洗面的中心部位呈陣列狀分布。本實用新型的有益效果是本結(jié)構(gòu)具體采用的是使用偶數(shù)個清洗修整盤置于拋光下模內(nèi)，且相鄰兩個清洗修整盤是正反面間隔擺放的，可以一次性完成拋光模具內(nèi)的清洗以及拋光上模和拋光下模接觸面的修整恢復(fù)工序，大大提高了拋光機(jī)的后期維護(hù)工作，保證后期晶片的拋光質(zhì)量。


以下結(jié)合附圖對本實用新型進(jìn)一步說明。圖I是本結(jié)構(gòu)的正面示意圖；圖2是本結(jié)構(gòu)的反面示意圖；[0012]圖3是本結(jié)構(gòu)用于去清洗修整的拋光機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖。圖中1、修整面11、凹槽12、中心孔2、清洗面21、濾液孔22、刷毛3、外齒4、拋光機(jī)5、拋光上模6、拋光下模。
具體實施方式
如圖I和圖2所示一種用于對拋光機(jī)上的拋光臺面進(jìn)行修整、清洗的清洗修整盤，該清洗修整盤包括正面和反面，其中，所述正面為修整面1，反面為清洗面2，該清洗修整盤的外周邊上開設(shè)有外齒3,所述外齒3與拋光下模5上的內(nèi)外傳動齒哨合；所述修整面I的中心開設(shè)有中心孔12，在修整面I的表面鍍有金剛石層，且在所述修整面I上開設(shè)有凹槽
11;所述清洗面2的中心部位開設(shè)有濾液孔21，在清洗面2的表面通過線繩固定連接有刷毛22，所述刷毛22呈密集型的設(shè)置在清洗面2的表面。 進(jìn)一步的，為了方便清洗液的流動，所述凹槽11的個數(shù)至少為三個，且所述凹槽11以修整面中心點位置為中心呈陣列狀分布。更進(jìn)一步的，所述凹槽11的個數(shù)為六個。進(jìn)一步的，在所述清洗面2上為了保證清洗液能停留一段時間后再流走，所述濾液孔21的個數(shù)為四個，且該四個濾液孔21在清洗面2的中心部位呈陣列狀分布。本結(jié)構(gòu)具體采用的是使用偶數(shù)個清洗修整盤置于拋光下模內(nèi)，對于濾波器晶片進(jìn)行拋光處理是需要拋光機(jī)4的,在拋光機(jī)4上包括拋光上模5和拋光下模6, —般對于長期拋光的臺面和拋光上、下模接觸處會產(chǎn)生雜質(zhì)以及拋光面不平整，需要定期的進(jìn)行修整和清洗，本清洗修整盤采用的個數(shù)為四個，將該四個清洗修整盤放置在拋光下模內(nèi)，外齒3與拋光下模6內(nèi)的內(nèi)外傳動齒嚙合，具體的擺放位置為相鄰兩個清洗修整盤是正反面間隔擺放的，可以一次性完成拋光模具內(nèi)的清洗以及拋光上模5和拋光下模6接觸面的修整恢復(fù)工序，大大提高了拋光機(jī)4的后期維護(hù)工作，保證后期濾波器晶片的拋光質(zhì)量。需要強(qiáng)調(diào)的是，以上是本實用新型的較佳實施列而已，并非對此實用新型在外觀上作任何形式的限制，凡是依據(jù)本實用新型的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種用于對拋光機(jī)上的拋光臺面進(jìn)行修整、清洗的清洗修整盤，其特征在于該清洗修整盤包括正面和反面，其中，所述正面為修整面(1)，反面為清洗面(2)，該清洗修整盤的外周邊上開設(shè)有外齒(3)，所述外齒(3)與拋光下模上的內(nèi)外傳動齒嚙合；所述修整面(I)的中心開設(shè)有中心孔(12)，在修整面(I)的表面鍍有金剛石層，且在所述修整面(I)上開設(shè)有凹槽(11);所述清洗面(2)的中心部位開設(shè)有濾液孔(21)，在清洗面(2)的表面通過線繩固定連接有刷毛(22)，所述刷毛(22)呈密集型的設(shè)置在清洗面(2)的表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的清洗修整盤，其特征在于所述凹槽(11)的個數(shù)至少為三個，且所述凹槽(11)以修整面中心點位置為中心呈陣列狀分布。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗修整盤，其特征在于所述凹槽(11)的個數(shù)為六個。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的清洗修整盤，其特征在于所述濾液孔(21)的個數(shù)為四個，且該四個濾液孔在清洗面的中心部位呈陣列狀分布。
專利摘要本實用新型涉及一種清洗修整盤，其特征在于該清洗修整盤包括正面和反面，其中，所述正面為修整面，反面為清洗面，該清洗修整盤的外周邊上開設(shè)有外齒，所述外齒與拋光下模上的內(nèi)外傳動齒嚙合；所述修整面的中心開設(shè)有中心孔，在修整面的表面鍍有金剛石層，且在所述修整面上開設(shè)有凹槽；所述清洗面的中心部位開設(shè)有濾液孔，在清洗面的表面通過線繩固定連接有刷毛，刷毛呈密集型的設(shè)置在清洗面的表面。本結(jié)構(gòu)具體采用的是使用偶數(shù)個清洗修整盤置于拋光下模內(nèi)，且相鄰兩個清洗修整盤是正反面間隔擺放的，可以一次性完成拋光模具內(nèi)的清洗以及拋光上模和拋光下模接觸面的修整恢復(fù)工序，大大提高了拋光機(jī)的后期維護(hù)工作，保證后期晶片的拋光質(zhì)量。
文檔編號B24B53/00GK202656064SQ20122024890
公開日2013年1月9日 申請日期2012年5月30日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月30日
發(fā)明者冷志紅, 蔡靈玲 申請人:昆山明本光電有限公司