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      蒸鍍坩堝裝置制造方法

      文檔序號(hào):3322767閱讀:281來(lái)源:國(guó)知局
      蒸鍍坩堝裝置制造方法
      【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,包括坩堝,坩堝用于容納被加熱材料的容納腔,容納腔的腔壁內(nèi)部設(shè)置有用于容納加熱介質(zhì)的加熱腔,以通過(guò)加熱介質(zhì)對(duì)被加熱材料加熱。本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置使得整個(gè)容納腔受熱均勻,材料蒸發(fā)速率穩(wěn)定可控,從而解決了現(xiàn)有直接電阻式坩堝的不同位置溫度差異大、局部溫度較高導(dǎo)致材料受熱變質(zhì)或分解的技術(shù)問(wèn)題。
      【專(zhuān)利說(shuō)明】蒸鍍坩堝裝置

      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及顯示裝置【技術(shù)領(lǐng)域】,特別是涉及一種蒸鍍坩堝裝置。

      【背景技術(shù)】
      [0002]現(xiàn)有的蒸發(fā)源的加熱方式有五種:電阻加熱、電子束加熱、高頻感應(yīng)加熱、電弧加熱以及激光束加熱,這些加熱方式都直接將熱量供給坩堝或被加熱材料,不可避免的導(dǎo)致被加熱材料受熱不均勻,對(duì)于溫度敏感的被加熱材料,可能造成其受熱變質(zhì)或分解。


      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]本發(fā)明的目的在于提供一種保證被加熱材料受熱均勻的蒸鍍坩堝裝置。
      [0004]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,包括坩堝,所述坩堝包括用于容納被加熱材料的容納腔,所述容納腔的腔壁內(nèi)部設(shè)置有用于容納加熱介質(zhì)的加熱腔,以通過(guò)所述加熱介質(zhì)對(duì)所述被加熱材料加熱。
      [0005]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,所述加熱腔包括設(shè)置于所述容納腔的側(cè)壁內(nèi)以及底壁內(nèi)的加熱通道,所述加熱通道圍繞所述容納腔螺旋延伸。
      [0006]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,所述坩堝還包括用于將被加熱材料由所述容納腔導(dǎo)出或?qū)肴菁{腔的流通部,所述流通部與所述容納腔連接,所述流通部的內(nèi)部設(shè)置有用于所述被加熱材料通過(guò)的流道,所述流通部的外部設(shè)置有用于對(duì)所述被加熱材料加熱的加熱裝置,以防止被加熱材料凝結(jié)于流通部的內(nèi)部。
      [0007]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,所述加熱裝置為圍繞所述流道螺旋延伸的電阻絲。
      [0008]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,所述流通部與所述容納腔可拆卸地連接。
      [0009]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,所述流道的一端與所述容納腔連通,所述流道的另一端設(shè)置有開(kāi)口,所述流道的兩端的直徑大于所述流道中部的直徑。
      [0010]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,所述流道的設(shè)置有所述開(kāi)口的一端的直徑小于所述容納腔的中部的內(nèi)徑。
      [0011]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,所述流道的另一端設(shè)置有封閉所述開(kāi)口的坩堝蓋,所述坩堝蓋上設(shè)置有用于所述被加熱材料進(jìn)出的材料導(dǎo)出口,所述材料導(dǎo)出口為錐形,所述材料導(dǎo)出口的上端的內(nèi)徑小于所述材料導(dǎo)出口的下端的內(nèi)徑。
      [0012]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,還包括用于對(duì)所述加熱介質(zhì)加熱的高溫加熱桶以及低溫冷卻桶,所述高溫加熱桶、低溫冷卻桶與所述加熱腔連通。
      [0013]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,還包括用于將所述加熱介質(zhì)泵送進(jìn)所述加熱腔的雙向變量泵,所述雙向變量泵的第一入口與所述高溫加熱桶連通,所述雙向變量泵的第二入口與所述低溫冷卻桶連通,所述雙向變量泵的第一出口與所述加熱腔通過(guò)第一管路連通,所述雙向變量泵的第二出口與所述加熱腔通過(guò)第二管路連通。
      [0014]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置使得整個(gè)容納腔受熱均勻,材料蒸發(fā)速率穩(wěn)定可控,從而解決了現(xiàn)有的直接電阻式坩堝的不同位置溫度差異大、局部溫度較高導(dǎo)致材料受熱變質(zhì)或分解的技術(shù)問(wèn)題。

      【專(zhuān)利附圖】

      【附圖說(shuō)明】
      [0015]圖1為本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置的坩堝的結(jié)構(gòu)示意圖的主剖視圖;
      [0016]圖2為本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置的坩堝的結(jié)構(gòu)示意圖的俯視圖;
      [0017]圖3為本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置的裝配示意圖。

      【具體實(shí)施方式】
      [0018]下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明,以使本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以更好的理解本發(fā)明并能予以實(shí)施,但所舉實(shí)施例不作為對(duì)本發(fā)明的限定。
      [0019]如圖1、圖2所示,本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,包括坩堝1,坩堝I包括用于容納被加熱材料的容納腔10,容納腔10的腔壁內(nèi)部設(shè)置有用于容納加熱介質(zhì)的加熱腔,以通過(guò)加熱介質(zhì)對(duì)被加熱材料加熱。
      [0020]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,加熱腔包括設(shè)置于容納腔10的側(cè)壁12內(nèi)以及底壁13內(nèi)的加熱通道14,加熱通道14圍繞容納腔10均勻的螺旋延伸。這里的均勻的螺旋延伸是指相鄰螺圈間的距離相等,以保證加熱介質(zhì)對(duì)被加熱材料均勻加熱。
      [0021]具體來(lái)說(shuō),加熱通道14的一部份在側(cè)壁12內(nèi)圍繞容納腔10均勻的螺旋延伸,其形態(tài)類(lèi)似于機(jī)械領(lǐng)域的彈簧且相鄰螺圈間的豎直距離相等;加熱通道14的另一部份在底壁13內(nèi)圍繞底壁13的中心的由內(nèi)向外或由外向內(nèi)盤(pán)旋延伸,其形態(tài)類(lèi)似于螺旋線(xiàn)且相鄰螺圈間的水平距離相等。
      [0022]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,坩堝I還包括用于將被加熱材料由容納腔10導(dǎo)出或?qū)肴菁{腔10的流通部20,流通部20與容納腔10連接,流通部20的內(nèi)部設(shè)置有用于被加熱材料通過(guò)的流道21,流通部20的外部設(shè)置有用于對(duì)被加熱材料加熱的加熱裝置22,以防止被加熱材料凝結(jié)于流通部20的內(nèi)部。
      [0023]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,加熱裝置22為圍繞流道21螺旋延伸的電阻絲。電阻絲順時(shí)針纏繞。
      [0024]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,流通部20與容納腔10可拆卸地連接。
      [0025]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,流通部20與容納腔10上分別設(shè)置有互相嚙合的內(nèi)螺紋、外螺紋,通過(guò)內(nèi)螺紋、外螺紋,流通部20與容納腔10可拆卸地連接。
      [0026]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,流通部20與容納腔10還可以通過(guò)螺栓可拆卸地連接。
      [0027]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,流道21的一端與容納腔10連通,流道21的另一端設(shè)置有開(kāi)口 23,流道21的兩端的直徑大于流道21中部的直徑。
      [0028]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,流道21的與容納腔10連通的一端的直徑小于容納腔10的中部的內(nèi)徑。同時(shí),本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置中,流道21的設(shè)置有開(kāi)口 23的一端的直徑小于容納腔10的中部的內(nèi)徑,即流道21的開(kāi)口 23為向外擴(kuò)張的喇叭狀。
      [0029]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,流道21的任一端與流道21中部之間均平滑過(guò)渡,即流道21的任一端與流道21中部之間均通過(guò)圓弧面連接過(guò)渡。
      [0030]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,流道21的另一端設(shè)置有封閉開(kāi)口的坩堝蓋25,坩堝蓋25上設(shè)置有七個(gè)用于被加熱材料進(jìn)出的材料導(dǎo)出口 26,材料導(dǎo)出口 25為錐形,材料導(dǎo)出口 25的上端的內(nèi)徑小于材料導(dǎo)出口 25的下端的內(nèi)徑。七個(gè)用于被加熱材料進(jìn)出的材料導(dǎo)出口 26中的一個(gè)設(shè)置于坩堝蓋25的中心,其他六個(gè)均勻設(shè)置于圓形的坩堝蓋25的邊緣與圓心之間。
      [0031]結(jié)合圖3所示,本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,還包括用于對(duì)加熱介質(zhì)加熱的高溫加熱桶40以及低溫冷卻桶50,高溫加熱桶40、低溫冷卻桶50與加熱腔10連通。
      [0032]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,還包括用于將加熱介質(zhì)泵送進(jìn)加熱腔的雙向變量泵60,雙向變量泵60的第一入口與高溫加熱桶40連通,雙向變量泵60的第二入口與低溫冷卻桶50連通,雙向變量泵60的第一出口與加熱腔10通過(guò)第一管路71連通,雙向變量泵60的第二出口與加熱腔10通過(guò)第二管路72連通。
      [0033]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置,其中,加熱介質(zhì)優(yōu)選熱導(dǎo)油。
      [0034]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置的工作過(guò)程如下:在被加熱材料預(yù)熱和蒸發(fā)階段,由液壓泵將高溫加熱桶40中的熱導(dǎo)油傳輸?shù)降妆?3內(nèi)的加熱通道14中,通過(guò)調(diào)節(jié)高溫加熱桶中的導(dǎo)熱油的溫度來(lái)控制被加熱材料的預(yù)熱和蒸發(fā)過(guò)程,并通過(guò)圍繞流道21螺旋延伸的加熱裝置22(與熱電偶連接的電阻絲,熱電偶用于檢測(cè)流道內(nèi)部的溫度)控制流道21的溫度,使之略高于被加熱材料的蒸發(fā)溫度,避免被加熱材料再次凝結(jié),堵塞出口。
      [0035]完成該被加熱材料蒸鍍后,打開(kāi)雙向變量泵60,將低溫冷卻桶50內(nèi)的低溫冷卻液(低溫?zé)釋?dǎo)油)泵入到底壁13內(nèi)的加熱通道14中快速降溫,待被加熱材料不再逸出時(shí),關(guān)閉雙向變量泵60,停止向容納腔10泵入低溫冷卻液。
      [0036]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置的坩堝I分成上下兩部分,上部采用電阻絲順時(shí)針纏繞方式進(jìn)行加熱;底部與中間填充高溫導(dǎo)熱油,并使高溫導(dǎo)熱油均勻分布其中,通過(guò)外部電阻絲加熱高溫導(dǎo)熱油,通過(guò)雙向變量泵60將液體高溫油導(dǎo)入坩堝I的容納腔10的腔壁內(nèi)部,使得整個(gè)容納腔10受熱均勻,導(dǎo)熱油的熱量均勻供給容納腔10內(nèi)部的材料,材料受熱均勻后,蒸發(fā)速率也會(huì)穩(wěn)定可控,同時(shí)避免部分高溫敏感材料受熱變質(zhì)的發(fā)生,溫度較低的導(dǎo)熱油返還到高溫加熱桶進(jìn)行加熱升溫。
      [0037]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置通過(guò)向容納腔10的腔壁引入高溫導(dǎo)熱油(又名熱導(dǎo)油,成分:芳烴,一般芳烴含量> 99% ),利用導(dǎo)熱油傳熱均勻的特性,使得容納腔10的腔壁受熱均勻、穩(wěn)定恒定,同時(shí),容納腔10的內(nèi)部材料受熱均勻,材料蒸發(fā)速率穩(wěn)定可控,從而解決了現(xiàn)有的直接電阻式坩堝的不同位置溫度差異大、局部溫度較高導(dǎo)致材料受熱變質(zhì)或分解的技術(shù)問(wèn)題。
      [0038]通常,完成蒸鍍后,需要打開(kāi)容納腔補(bǔ)充材料,但蒸鍍?cè)篡釄逯械牟牧蠝囟容^高,因此不能直接破真空開(kāi)腔,以防材料氧化變質(zhì),必須在真空狀態(tài)下,對(duì)所有蒸鍍?cè)醋匀焕鋮s降至常溫,因此源降溫時(shí)間較長(zhǎng),本發(fā)明中的雙向變量泵60可以將冷卻液泵入到容納腔10的腔壁中,實(shí)現(xiàn)了快速降低源內(nèi)坩堝溫度,增加生產(chǎn)效率,同時(shí)減少材料損耗的目的。
      [0039]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置在完成蒸鍍后,通過(guò)泵入低溫導(dǎo)熱油冷卻,解決了真空狀態(tài)下蒸鍍?cè)醋匀焕鋮s降溫時(shí)間太長(zhǎng)的技術(shù)問(wèn)題。
      [0040]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置的坩堝I為啞鈴狀,有利于節(jié)約材料。坩堝I分體式設(shè)計(jì),既方便添加材料和清潔坩堝,又能精確控制坩堝溫度,防止材料噴濺和過(guò)熱分解變質(zhì)。能夠精確控制坩堝溫度,避免材料的噴濺和高溫變質(zhì);
      [0041]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置的坩堝I為啞鈴狀,底部較大,方便材料添加和坩堝清潔。
      [0042]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置的坩堝I的頂部的開(kāi)口 23為向外擴(kuò)張的喇叭狀,有利于穩(wěn)定氣態(tài)分子流。圖1中的空心箭頭示出了在蒸鍍過(guò)程中,坩堝I中被加熱材料100的分子運(yùn)動(dòng)軌跡,由統(tǒng)計(jì)學(xué)原理可知,當(dāng)被加熱材料100的分子受熱逸出時(shí),各個(gè)角度的逸出分子數(shù)幾乎均等,當(dāng)上述分子以路徑101和102運(yùn)動(dòng)時(shí),會(huì)碰到流通部20的流道21的與容納腔10連通的一端的內(nèi)壁,進(jìn)而反射回容納腔10,當(dāng)上述分子再次受熱超過(guò)分子逸出能時(shí),才能再次逸出,若此次逸出的運(yùn)動(dòng)方向如路徑3所示時(shí)(即沿豎直方向逸出),上述分子則逸出坩堝,若無(wú)其他碰撞發(fā)生,則上述分子會(huì)碰到溫度較低的玻璃基板,而沉積到玻璃基板上,由此,本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置的坩堝1,有利于被加熱材料100的分子沿豎直方向逸出,材料的利用率得以提高,制備的有機(jī)膜形狀精度高。同時(shí),頂部的材料導(dǎo)出口 26對(duì)稱(chēng)分布,有利于形成穩(wěn)定的氣態(tài)分子流,使被加熱材料100的分子在玻璃基板上均勻沉積。
      [0043]本發(fā)明的蒸鍍坩堝裝置為雙供熱系統(tǒng)設(shè)計(jì),便于控制坩堝I不同部分的溫度,頂部的溫度略高于材料蒸發(fā)溫度,可以避免材料的凝結(jié);通過(guò)精確控制導(dǎo)熱油溫度,實(shí)現(xiàn)了材料蒸發(fā)速率的穩(wěn)定。
      [0044]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),在不脫離本發(fā)明原理的前提下,還可以作出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾,這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
      【權(quán)利要求】
      1.一種蒸鍍坩堝裝置,其特征在于,包括坩堝,所述坩堝包括用于容納被加熱材料的容納腔,所述容納腔的腔壁內(nèi)部設(shè)置有用于容納加熱介質(zhì)的加熱腔,以通過(guò)所述加熱介質(zhì)對(duì)所述被加熱材料加熱。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝裝置,其特征在于,所述加熱腔包括設(shè)置于所述容納腔的側(cè)壁內(nèi)以及底壁內(nèi)的加熱通道,所述加熱通道圍繞所述容納腔螺旋延伸。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝裝置,其特征在于,所述坩堝還包括用于將被加熱材料由所述容納腔導(dǎo)出或?qū)肴菁{腔的流通部,所述流通部與所述容納腔連接,所述流通部的內(nèi)部設(shè)置有用于所述被加熱材料通過(guò)的流道,所述流通部的外部設(shè)置有用于對(duì)所述被加熱材料加熱的加熱裝置,以防止被加熱材料凝結(jié)于流通部的內(nèi)部。
      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍坩堝裝置,其特征在于,所述加熱裝置為圍繞所述流道螺旋延伸的電阻絲。
      5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍坩堝裝置,其特征在于,所述流通部與所述容納腔可拆卸地連接。
      6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍坩堝裝置,其特征在于,所述流道的一端與所述容納腔連通,所述流道的另一端設(shè)置有開(kāi)口,所述流道的兩端的直徑大于所述流道中部的直徑。
      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蒸鍍坩堝裝置,其特征在于,所述流道的設(shè)置有所述開(kāi)口的一端的直徑小于所述容納腔的中部的內(nèi)徑。
      8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蒸鍍坩堝裝置,其特征在于,所述流道的另一端設(shè)置有封閉所述開(kāi)口的坩堝蓋,所述坩堝蓋上設(shè)置有用于所述被加熱材料進(jìn)出的材料導(dǎo)出口,所述材料導(dǎo)出口為錐形,所述材料導(dǎo)出口的上端的內(nèi)徑小于所述材料導(dǎo)出口的下端的內(nèi)徑。
      9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝裝置,其特征在于,還包括用于對(duì)所述加熱介質(zhì)加熱的高溫加熱桶以及低溫冷卻桶,所述高溫加熱桶、低溫冷卻桶與所述加熱腔連通。
      10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的蒸鍍坩堝裝置,其特征在于,還包括用于將所述加熱介質(zhì)泵送進(jìn)所述加熱腔的雙向變量泵,所述雙向變量泵的第一入口與所述高溫加熱桶連通,所述雙向變量泵的第二入口與所述低溫冷卻桶連通,所述雙向變量泵的第一出口與所述加熱腔通過(guò)第一管路連通,所述雙向變量泵的第二出口與所述加熱腔通過(guò)第二管路連通。
      【文檔編號(hào)】C23C14/26GK104278239SQ201410602686
      【公開(kāi)日】2015年1月14日 申請(qǐng)日期:2014年10月31日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月31日
      【發(fā)明者】張永峰 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司
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