技術(shù)特征：

1.用于鎢層的蝕刻溶液組合物，包括：

N-甲基嗎啉N-氧化物；和

水。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于鎢層的蝕刻溶液組合物，包括：

相對(duì)于所述用于鎢層的蝕刻溶液組合物的總重量，

所述N-甲基嗎啉N-氧化物為25重量％至50重量％；和

余量的水。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于鎢層的蝕刻溶液組合物，還包括以下化學(xué)式1的組合物：

其中，R1是具有4至18個(gè)碳原子的線性烷基。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于鎢層的蝕刻溶液組合物，其中，所述化學(xué)式1的化合物包括選自由十六烷基二甲胺N-氧化物和月桂基二甲胺N-氧化物組成的組中的一種或多種。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于鎢層的蝕刻溶液組合物，包括：

相對(duì)于所述用于鎢層的蝕刻溶液組合物的總重量，

所述N-甲基嗎啉N-氧化物為30重量％至50重量％；

所述化學(xué)式1的化合物為0.3重量％至15重量％；和

余量的水。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于鎢層的蝕刻溶液組合物，還包括：以下化學(xué)式2的化合物：

[化學(xué)式2]

NH₂C₂H₄(NHC₂H₄)nNH₂

其中，n是0至2的整數(shù)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于鎢層的蝕刻溶液組合物，其中，所述化學(xué)式2的化合物包括選自由乙二胺、二亞乙基三胺和三亞乙基四胺組成的組中的一種或多種。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于鎢層的蝕刻溶液組合物，包括：

相對(duì)于所述用于鎢層的蝕刻溶液組合物的總重量，

所述N-甲基嗎啉N-氧化物為30重量％至50重量％；

所述化學(xué)式2的化合物為0.1重量％至1.2重量％；和

余量的水。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于鎢層的蝕刻溶液組合物，其中，所述用于鎢層的蝕刻溶液組合物的蝕刻溫度為從30℃至80℃。

10.用于制作電子器件的方法，包括使用根據(jù)權(quán)利要求1至9中的任一項(xiàng)所述的用于鎢層的蝕刻溶液組合物蝕刻鎢基金屬的工藝。