本發(fā)明涉及一種pcb生產(chǎn)工藝，尤其是指一種pcb生產(chǎn)工藝用沉銅槽。
背景技術(shù)：
化學(xué)銅被廣泛應(yīng)用于有通孔的印制線路板的生產(chǎn)加工中，其主要目的在于通過一系列化學(xué)處理方法在非導(dǎo)電基材上沉積一層銅，繼而通過后續(xù)的電鍍方法加厚使之達(dá)到設(shè)計(jì)的特定厚度，一般情況下是1mil(25.4μm)或者更厚一些，有時(shí)甚至直接通過化學(xué)方法來沉積到整個(gè)線路銅厚度的?；瘜W(xué)銅工藝是通過一系列必需的步驟而最終完成化學(xué)銅的沉積，這其中每一個(gè)步驟對整個(gè)工藝流程來講都是很重要。
沉銅缸的主要反應(yīng)為cu2++2hcho+4oh-→cu↓+2hc00-+2h2o+h2↑
現(xiàn)有技術(shù)中，為穩(wěn)定化學(xué)沉銅反應(yīng)的措施主要有:
1、加入適量的穩(wěn)定劑[多數(shù)為含s和n的有機(jī)物，如硫脲]；
2、嚴(yán)格控制沉銅藥液的溫度，防止cu2o的產(chǎn)生[一般溫度控制26-30℃]；
3、嚴(yán)格控制沉銅藥液的ph及濃度，防止副產(chǎn)物cu2o的加??；
4、主槽缸底安裝打氣管和藥水循環(huán)管；
5、連續(xù)過濾沉銅液，將溶液中的銅顆粒及時(shí)清除[一般采用5μm的棉芯]。
但是，現(xiàn)有技術(shù)中，附屬設(shè)備，如加熱、冷卻裝置，藥水循環(huán)裝置，藥水濃度探頭均安裝在主槽，容易導(dǎo)致藥水濃度分布不均勻，容易導(dǎo)致反應(yīng)速率不穩(wěn)定，進(jìn)而導(dǎo)致最終沉銅板沉銅效果不理想。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明公開了一種pcb生產(chǎn)工藝用沉銅槽，該沉銅槽由主槽和副槽組成，藥水可直接從主槽溢流至副槽，所述主槽中設(shè)有溫度感應(yīng)器，所述副槽中設(shè)有冷卻裝置、加熱裝置和藥水濃度探頭。
進(jìn)一步的，所述主槽內(nèi)設(shè)置有藥水循環(huán)管，該藥水循環(huán)管為環(huán)繞主槽缸壁四周的回字形藥水循環(huán)管。
進(jìn)一步的，所述主槽內(nèi)的藥水循環(huán)管上設(shè)有一個(gè)以上藥水出水口，所述藥水出水口在所述主槽內(nèi)的藥水循環(huán)管上均勻分布。
進(jìn)一步的，其特征在于：所述主槽包括一藥水溢出口，該藥水溢出口處設(shè)置有過濾袋，藥水從主槽流經(jīng)所述過濾袋再流至副槽。
進(jìn)一步的，所述藥水溢出口處的過濾袋為60目的過濾袋。
進(jìn)一步的，所述副槽連接過濾桶，藥水可從副槽流至過濾桶進(jìn)行過濾，所述過濾桶通過藥水循環(huán)管與所述主槽相連，經(jīng)過濾的藥水通過藥水循環(huán)管輸送至主槽中。
進(jìn)一步的，所述主槽缸底還設(shè)置有打氣管，打氣管上設(shè)有一個(gè)以上出氣口，所述出氣口均勻分布于打氣管上。
本發(fā)明方案通過改造優(yōu)化主副槽附屬設(shè)備的設(shè)計(jì)方式，更好的控制沉銅藥水濃度，使反應(yīng)速率更穩(wěn)定，有效解決了主槽因藥水溫度不穩(wěn)定、藥水循環(huán)不佳導(dǎo)致的銅粒和背光不良的產(chǎn)生。
附圖說明
下面結(jié)合附圖詳述本發(fā)明的具體結(jié)構(gòu)
圖1為本發(fā)明一種pcb生產(chǎn)工藝用沉銅槽的結(jié)構(gòu)示意圖。
其中，包括主槽1、打氣管2、過濾桶3、加熱裝置4、冷卻裝置5、副槽6、藥水濃度探頭7、過濾袋8、溫度感應(yīng)器9、藥水出水口10、藥水循環(huán)管11、出氣口12。
具體實(shí)施方式
為詳細(xì)說明本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所實(shí)現(xiàn)目的及效果，以下結(jié)合實(shí)施方式及附圖詳予說明。
一種pcb生產(chǎn)工藝用沉銅槽，這種沉銅槽由主槽1和副槽6組成，沉銅所用藥水可直接從主槽1溢流至副槽6，所述主槽1中設(shè)有溫度感應(yīng)器9，用于探測主槽1中藥液的實(shí)時(shí)溫度，因?yàn)槌零~反應(yīng)作為一種化學(xué)反應(yīng)，溫度對其最終產(chǎn)物有著直接的作用，如若溫度控制不當(dāng)，將難以在孔壁沉上一層單質(zhì)銅，而是伴隨著紅色氧化亞銅的生成，進(jìn)而直接影響沉銅效果。故主槽1中溫度感應(yīng)器9的設(shè)置可便于隨時(shí)根據(jù)該溫度對藥液進(jìn)行冷卻或加熱處理，控制沉銅反應(yīng)條件的穩(wěn)定性。同時(shí)，所述副槽6中設(shè)有冷卻裝置5、加熱裝置4和藥水濃度探頭7。如果將冷卻裝置5、加熱管安裝在主槽1中，由于冷卻和加熱產(chǎn)生的溫度變化熱量不能瞬間擴(kuò)散，使主槽1內(nèi)產(chǎn)生局部的熱量，溫度不同反應(yīng)速率不同導(dǎo)致沉銅層結(jié)晶差異及背光不良和銅粒等品質(zhì)問題?，F(xiàn)將冷卻裝置5和加熱裝置4移至副槽6，藥水通過副槽6和過濾循環(huán)后溫度均勻，從而達(dá)到更好的穩(wěn)定背光。
優(yōu)選的，所述主槽1內(nèi)設(shè)置有藥水循環(huán)管11，該藥水循環(huán)管11為環(huán)繞主槽1缸壁四周的回字形藥水循環(huán)管11。所述主槽1內(nèi)的藥水循環(huán)管11上設(shè)有一個(gè)以上藥水出水口10，所述藥水出水口10在所述主槽1內(nèi)的藥水循環(huán)管11上均勻分布。原有的過濾桶將沉銅藥水抽回到主槽1內(nèi)時(shí)只有一根l型的管道，管道直接延伸到主槽1中間，一根管循環(huán)，容易導(dǎo)致藥水混合不均勻?qū)е路磻?yīng)速率變化，進(jìn)而導(dǎo)致背光不穩(wěn)定。現(xiàn)要求將此l型管更改成回字型管道，并靠缸壁四周布置，如此一來，循環(huán)管道所覆蓋的范圍就更加廣泛，亦更容易使新加入的循環(huán)藥水與現(xiàn)有主槽1中的沉銅藥水間混合均勻，亦使整個(gè)沉銅過程更加穩(wěn)定，沉銅效果保持一致。同時(shí)，藥水循環(huán)管11上出水口的均勻分布，亦是為了使循環(huán)藥水能均勻地添加到主槽1中的各個(gè)位置，維持主槽1中各個(gè)位置藥水濃度的穩(wěn)定性，進(jìn)而保障最終沉銅效果的穩(wěn)定性。
優(yōu)選的，所述主槽1包括一藥水溢出口，該藥水溢出口處設(shè)置有過濾袋8，藥水從主槽1流經(jīng)所述過濾袋8再流至副槽6。所述藥水溢出口處的過濾袋8為60目的過濾袋。原有沉銅過濾流程為：主槽溢流→副槽→過濾桶→主槽溢流→副槽……這樣一個(gè)循環(huán)體系。現(xiàn)有沉銅過濾流程為：主槽溢流→管道口出口處安裝60目過濾袋→副槽→過濾桶→主槽溢流→管道口出口處安裝60目過濾袋→副槽……這樣一個(gè)循環(huán)體系。主槽溢流口處增加過濾袋8可以把沉銅中主槽缸里面的銅渣、銅粒等雜物都過濾出來，這樣不僅可以通過直觀觀察過濾袋8上的銅狀況來得出反應(yīng)速率，同時(shí)還可以過濾掉沉銅主槽缸內(nèi)的銅渣銅粒，保障藥水的清潔，并通過該過濾袋8，便于后續(xù)藥液的循環(huán)處理。
優(yōu)選的，所述副槽6連接過濾桶3，藥水可從副槽6流至過濾桶3進(jìn)行過濾，所述過濾桶3通過藥水循環(huán)管11與所述主槽1相連，經(jīng)過濾的藥水通過藥水循環(huán)管11輸送至主槽1中。根據(jù)沉銅工藝中沉銅藥水的循環(huán)工藝，需要讓沉銅藥水不斷在主槽1和副槽6間循環(huán)利用，但同時(shí)為了保障主槽1中藥水溫度和濃度的穩(wěn)定性，需要對從主槽1進(jìn)入到副槽6中的藥水進(jìn)行過濾清潔，以及溫度和濃度等等進(jìn)行調(diào)節(jié)。然后再通過循環(huán)管將清潔穩(wěn)定的沉銅藥液再次輸送至沉銅主槽1中并進(jìn)行化學(xué)沉銅反應(yīng)。
優(yōu)選的，所述主槽1缸底還設(shè)置有打氣管2，打氣管2上設(shè)有一個(gè)以上出氣口12，所述出氣口12均勻分布于打氣管2上。本方案中打氣管2的設(shè)計(jì)，是為了混合沉銅主槽1中現(xiàn)有的藥水和通過循環(huán)管新加入到沉銅主槽1中的藥水，此時(shí)打氣管2的作用就類似于一攪拌混合裝置，通過該打氣管2，使沉銅主槽1中的藥水不斷混合，不僅可以促進(jìn)藥水濃度的均勻性，同時(shí)還可以使藥水溫度更為均勻，維持主槽1沉銅反應(yīng)條件的穩(wěn)定性。
本發(fā)明方案是在現(xiàn)有沉銅工藝的基礎(chǔ)上，通過改造優(yōu)化主副槽附屬設(shè)備的設(shè)計(jì)方式，來更好地控制沉銅藥水濃度和溫度，控制主槽沉銅反應(yīng)條件的穩(wěn)定性，進(jìn)而使反應(yīng)速率更穩(wěn)定，有效解決了主槽因藥水溫度不穩(wěn)定、藥水循環(huán)不佳而導(dǎo)致的銅粒和背光不良的產(chǎn)生。
以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。