一種高光精洗復合清洗工藝的制作方法
【技術領域】
[0001] 本發(fā)明屬于化工清洗領域，具體設及一種高光精洗復合清洗工藝。
【背景技術】
[0002] 現(xiàn)有技術中，對金屬材質（侶材、不誘鋼等）的清洗流程多為:超聲波清洗、超聲波 清洗、熱風循環(huán)干燥。所使用的清洗劑為溶劑型清洗劑。作用原理:相似相溶。但該工藝清洗 后陽極氧化產品中有30%左右的白霧白點不良，品質不穩(wěn)定，清洗劑不夠環(huán)保，對人體、大 氣都有影響；清洗一層，產率低，因此導致成本高。因此尋找一種清洗效果好、回收率高、節(jié) 能環(huán)保、無污染的新的侶件清洗工藝，是本領域目前刻不容緩的事情。

【發(fā)明內容】

[0003] 為此，本發(fā)明所要解決的技術問題在于克服現(xiàn)有技術中清洗后易出現(xiàn)白霧白點不 良、清洗劑不夠環(huán)保，從而提出一種清洗效果好、環(huán)保節(jié)能、對人體無害、成本低、產能高的 高光精洗復合清洗工藝。
[0004] 為解決上述技術問題，本發(fā)明的公開了一種高光精洗復合清洗工藝，所述工藝依 次包括如下步驟:水基清洗、真空切水、真空碳氨超聲波清洗、蒸汽浴洗真空干燥。
[0005] 所述的高光精洗復合清洗工藝，其中，所述的水基清洗、真空切水、真空碳氨超聲 波清洗的次數(shù)均為兩次。
[0006] 所述的高光精洗復合清洗工藝，其中，所述的水基清洗所用的清洗劑為環(huán)保水基 清洗劑，所述環(huán)保水基清洗劑中的清洗成分為表面活性劑。
[0007] 所述的高光精洗復合清洗工藝，其中，所述的真空切水所用的清洗劑為碳氨切水 劑。
[000引所述的高光精洗復合清洗工藝，其中，所述的真空碳氨超聲波清洗、蒸汽浴洗真空 干燥所用的清洗劑都為碳氨清洗劑。
[0009] 所述的高光精洗復合清洗工藝，其中，所述的水基清洗中第一次清洗的清洗劑濃 度為5-10%。
[0010] 所述的高光精洗復合清洗工藝，其中，所述的水基清洗中第二次清洗的清洗劑濃 度為1-3%。
[0011] 所述的高光精洗復合清洗工藝，其中，所述的真空切水的的真空度為-80Kpa。
[0012] 所述的高光精洗復合清洗工藝，其中，所述的真空碳氨超聲波清洗的超聲波頻率 40KHZ。
[0013] 所述的高光精洗復合清洗工藝，其中，所述的蒸汽浴洗真空干燥的干燥溫度90- 110°C。
[0014] 本發(fā)明的上述技術方案相比現(xiàn)有技術具有W下優(yōu)點：使用復合清洗工藝后白點、 白霧不良率下降到3%左右，保證品質穩(wěn)定;所有工序都使用真空清洗，選用環(huán)保清洗劑，對 人體和環(huán)境影響極小;具有極大的市場前景和經濟價值。
【具體實施方式】
[0015] 實施例1本實施例公開了一種高光精洗復合清洗工藝，所述工藝依次包括如下步 驟:第一次水基清洗、第二次水基清洗、第一次真空切水、第二次真空切水、第一次真空碳氨 超聲波清洗、第二次真空碳氨超聲波清洗、蒸汽浴洗真空干燥。所述的水基清洗所用的清洗 劑為環(huán)保水基清洗劑，所述環(huán)保水基清洗劑中的清洗成分為表面活性劑。
[0016] 所述的第一次水基清洗中：液體設定溫度65-75°C;清洗劑濃度5-10% ;清洗時間 60-240S;真空度-40Kpa。
[0017] 所述的第二次水基清洗中：液體設定溫度55-65°C;清洗劑濃度1-3%;清洗時間 60-240S;真空度-40Kpa。
[0018] 所述的第一次真空切水中：液體設定溫度40-45°C;清洗時間60-240S;真空度- 80Kpa〇
[0019] 所述的第二次真空切水中：液體設定溫度40-45°C;清洗時間60-240S;真空度- 80Kpa〇
[0020] 所述的第一次真空碳氨超聲波清洗中：液體設定溫度40-45°C;清洗時間60-240S; 脫氣次數(shù)1-4次；真空清洗時間3s ;入氣清洗時間10s ;超聲波頻率40KHZ ;超聲波大小0- 50%;真空度-75Kpa。
[0021] 所述的第二次真空碳氨超聲波清洗中：液體設定溫度40-45°C;清洗時間60-240S; 脫氣次數(shù)1-4次；真空清洗時間3s ;入氣清洗時間10s ;超聲波頻率40KHZ ;超聲波大小0- 50%;真空度-75Kpa。
[0022] 所述的蒸汽浴洗真空干燥中：蒸汽導熱溫度設定100-130°C;蒸汽溫度90-110°C; 蒸汽真空度設定-90邸a;真空蒸洗計數(shù)1-5次;入蒸汽時間15-30S;入蒸汽延時時間15-30S; 蒸饋導熱溫度設定110-130°C;干燥真空度-lOOKPa;干燥時間90-360S;干燥溫度90-110°C。
[0023] 對比例將本實施例與現(xiàn)有技術作對比，得出如下對比表格，見表1:
[0024] 表 1
[0025]
[00%] 本發(fā)明所述工藝中通過表面活性劑的乳化、滲透、清洗等作用進行預清洗，再經過 碳氨切水劑的置換作用，將產品表面的水基清洗劑和臟污剝落，然后再經過真空碳氨清洗 劑加強清洗，達到徹底清除高光面上臟污的目的。并且，設備配有真空循環(huán)蒸饋系統(tǒng)，根據 碳氨清洗劑和臟污的沸點差將碳氨清洗劑與臟污分離，碳氨清洗劑氣體通過冷凝系統(tǒng)再回 收利用，不斷補充到6#清洗槽，保證最后清洗槽非常潔凈，運樣既保證品質穩(wěn)定，同時大大 降低清洗劑成本。
[0027]顯然，上述實施例僅僅是為清楚地說明所作的舉例，而并非對實施方式的限定。對 于所屬領域的普通技術人員來說，在上述說明的基礎上還可W做出其它不同形式的變化或 變動。運里無需也無法對所有的實施方式予W窮舉。而由此所引伸出的顯而易見的變化或 變動仍處于本發(fā)明創(chuàng)造的保護范圍之中。
【主權項】
1. 一種高光精洗復合清洗工藝，其特征在于，所述工藝依次包括如下步驟:水基清洗、 真空切水、真空碳氫超聲波清洗、蒸汽浴洗真空干燥。2. 如權利要求1所述的高光精洗復合清洗工藝，其特征在于，所述的水基清洗、真空切 水、真空碳氫超聲波清洗的次數(shù)均為兩次。3. 如權利要求2所述的高光精洗復合清洗工藝，其特征在于，所述的水基清洗所用的清 洗劑為環(huán)保水基清洗劑，所述環(huán)保水基清洗劑中的清洗成分為表面活性劑。4. 如權利要求3所述的高光精洗復合清洗工藝，其特征在于，所述的真空切水所用的清 洗劑為碳氫切水劑。5. 如權利要求4所述的高光精洗復合清洗工藝，其特征在于，所述的真空碳氫超聲波清 洗、蒸汽浴洗真空干燥所用的清洗劑都為碳氫清洗劑。6. 如權利要求5所述的高光精洗復合清洗工藝，其特征在于，所述的水基清洗中第一次 清洗的清洗劑濃度為5-10%。7. 如權利要求5所述的高光精洗復合清洗工藝，其特征在于，所述的水基清洗中第二次 清洗的清洗劑濃度為1-3%。8. 如權利要求5所述的高光精洗復合清洗工藝，其特征在于，所述的真空切水的真空度 為-80Kpa。9. 如權利要求5所述的高光精洗復合清洗工藝，其特征在于，所述的真空碳氫超聲波清 洗的超聲波頻率40KHz。10. 如權利要求5所述的高光精洗復合清洗工藝，其特征在于，所述的蒸汽浴洗真空干 燥的干燥溫度90-110°C。
【專利摘要】本發(fā)明屬于化工清洗領域，具體涉及一種高光精洗復合清洗工藝。所述工藝依次包括如下步驟：水基清洗、真空切水、真空碳氫超聲波清洗、蒸汽浴洗真空干燥。使用復合清洗工藝后白點、白霧不良率下降到3％左右，保證品質穩(wěn)定；所有工序都使用真空清洗，選用環(huán)保清洗劑，對人體和環(huán)境影響極??；具有極大的市場前景和經濟價值。
【IPC分類】B08B3/12, B08B3/08, C23G1/00
【公開號】CN105543860
【申請?zhí)枴緾N201511003683
【發(fā)明人】李輝, 李立良, 胡俊, 張欣欣, 閔元元, 盧加傲
【申請人】深圳市鑫承諾環(huán)保產業(yè)股份有限公司
【公開日】2016年5月4日
【申請日】2015年12月29日